液晶涂布装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种液晶涂布装置。该液晶涂布装置包括多个密集排列的液晶滴头，所述液晶滴头内部供液晶流经的导流管口径在液晶流出侧变大，所述液晶滴头具有用于加热流经液晶的加热装置以控制流出液晶的温度。本发明专利技术的液晶涂布装置可实现平面涂布液晶的方式，可以杜绝Drop mura不良的发生，并且提高单片液晶滴下的速度，对提高产品良率，缩短产品制作时间，提升产品竞争力有很大帮助。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种液晶涂布装置。
技术介绍
TFT(薄膜晶体管)显示器件的制作非常复杂，需要经过阵列基板制作，彩膜基板制作，以及在阵列基板上滴入液晶，在彩膜基板上涂布框胶，并将完成以上工序的阵列基板和彩膜基板对组，经过固烤，切割等工序完成TFT显示器件的整个制作。在制作过程中有一道工序为：在阵列基板或彩膜基板上滴入液晶的工序，简称：ODF(滴下式注入)工序或灌晶工序。目前业界基本上采用ODF技术，即用单一的液晶滴头，按照阵列基板产品的排布将液晶一滴一滴地滴入到基板上。参见图1至图3，图1为现有液晶涂布装置进行ODF工序的示意图，图2为经ODF工序涂布的基板，图3为现有液晶涂布装置的液晶滴头的剖面示意图。现有液晶涂布装置主要包括液晶滴头12及透明材料制成的护罩13，其他诸如液晶容器等常规组件在此不再赘述。图3显示了现有的液晶滴头12内部的导流管121为柱型导流管。图1显示了现有液晶涂布装置对工作台10上的基板11进行涂布的情况，基板11上具有已经滴下的液晶15，液晶滴头12下方为正在滴下的液晶14。应用现有液晶涂布装置进行ODF工序时，需要液晶滴头在基板上来回很多次才能完成一张基板的滴下制作，制作时间很长，就算是增加液晶滴头数量与提高液晶滴头移动速度，同样不能减少作业时间。而且随着基板尺寸的加大，特别使用光配相液晶，滴有液晶的基板在对组前暴露于空气中，因液晶分子与PI(聚酰亚胺)分子相对空气中的水汽与CO2气体的吸收程度不一样，导致对组后液晶屏中液晶的阈值电压不一样，容易产生滴落显示不均匀(Dropmura)现象。如下为LCD的阈值电压Vth公式： V t h 2 = 1 ϵ 0 × Δ ϵ ( K 11 π 2 + ( K 33 - 2 K 22 ) Φ 0 2 ) ]]>式中：Φ0为扭曲角；K11、K22、K33为液晶材料的3种形变弹性常数；Δε为液晶材料的介电各向异性；ε0为真空介电常数。从以上公式可以看出：液晶弹性常数受到空气中的水汽与CO2气体的影响而发生变化。从而影响LCD的阈值电压Vth。目前的解决方法是严格管控ODF制程温湿度，以及液晶滴下到产品对组阶段的停留时间。但是该方法对产品量产性有较大的影响，且不能完全杜绝Dropmura不良的发生。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供一种液晶涂布装置，杜绝Dropmura不良的发生，并且提高单片液晶滴下的速度。为实现上述目的，本专利技术提供一种液晶涂布装置，包括多个密集排列的液晶滴头，所述液晶滴头内部供液晶流经的导流管口径在液晶流出侧变大，所述液晶滴头具有用于加热流经液晶的加热装置以控制流出液晶的温度。其中，所述导流管为T型导流管。其中，所述加热装置设在液晶滴头的侧壁内。其中，所述液晶滴头设置为平坦化涂布流出的液晶。其中，所述液晶滴头呈单行间隔排列。其中，所述加热装置对液晶加热的温度根据液晶材料设定。其中，所述流出液晶的温度控制为40～70摄氏度。其中，所述液晶滴头排列的间距设置为1微米～1毫米。其中，所述液晶滴头外部设有护罩。其中，所述护罩由透明材料制成。综上，本专利技术的液晶涂布装置可实现平面涂布液晶的方式，可以杜绝Dropmura不良的发生，并且提高单片液晶滴下的速度，对提高产品良率，缩短产品制作时间，提升产品竞争力有很大帮助。附图说明下面结合附图，通过对本专利技术的具体实施方式详细描述，将使本专利技术的技术方案及其他有益效果显而易见。附图中，图1为现有液晶涂布装置进行ODF工序的示意图；图2为经ODF工序涂布的基板；图3为现有液晶涂布装置的液晶滴头的剖面示意图；图4为本专利技术液晶涂布装置一较佳实施例进行ODF工序的示意图；图5为经ODF工序涂布的基板；图6为本专利技术液晶涂布装置一较佳实施例的液晶滴头的剖面示意图。具体实施方式参见图4至图6，图4为本专利技术液晶涂布装置一较佳实施例进行ODF工序的示意图，图5为经ODF工序涂布的基板，图6为液晶滴头的剖面示意图。该液晶涂布装置较佳实施例包括多个密集排列的液晶滴头22，以及透明材料制成的护罩23，其他诸如液晶容器等常规组件可以采用常规配置，在此不再赘述；所述液晶滴头22内部供液晶流经的导流管221口径在液晶流出侧变大，所述液晶滴头22具有用于加热流经液晶的加热装置222以控制流出液晶的温度。图4显示了该液晶涂布装置较佳实施例对工作台20上的基板21进行涂布的情况，基板21上具有已经滴下的液晶25，液晶滴头22下方为正在滴下的液晶24。图6显示了液晶滴头22内部的导流管221为T型导流管，加热装置222设在液晶滴头22的侧壁内。参见已经滴下的液晶25的形态，该较佳实施例中液晶滴头22设置为平坦化涂布流出的液晶。液晶滴头22呈单行间隔排列。护罩23提供对液晶滴头22的保护及便于观察。本专利技术通过带有加热功能的T型液晶滴头，实现平面涂布液晶的方式，可以杜绝Dropmura不良的发生，并且提高单片液晶滴下的速度，对提高产品良率，缩短产品制作时间，提升产品竞争力有很大帮助。本专利技术为在完成阵列基板上进行液晶滴下制作中，使用密集的液晶滴头，间距可以为1um～1mm之间，并且将液晶滴头连接上加热器，使用加热器对液晶滴头进行加热，加热温度视液晶材料不同而设定不同，一般液晶材料清亮点温度在70～100摄氏度之间，液晶滴头设定的加热温度可以但不限定为40～70摄氏度。因液晶材料在加热情况下粘度会降低，可以从细小的液晶滴头流出，并且相邻液晶滴头流出的液晶能连接一起。液晶滴头内部管道采用T型设计，减小液晶滴头之间的距离，同时在液晶滴头的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液晶涂布装置，其特征在于，包括多个密集排列的液晶滴头，所述液晶滴头内部供液晶流经的导流管口径在液晶流出侧变大，所述液晶滴头具有用于加热流经液晶的加热装置以控制流出液晶的温度。

【技术特征摘要】
1.一种液晶涂布装置，其特征在于，包括多个密集排列的液晶滴头，所
述液晶滴头内部供液晶流经的导流管口径在液晶流出侧变大，所述液晶滴头
具有用于加热流经液晶的加热装置以控制流出液晶的温度。
2.如权利要求1所述的液晶涂布装置，其特征在于，所述导流管为T型
导流管。
3.如权利要求1所述的液晶涂布装置，其特征在于，所述加热装置设在
液晶滴头的侧壁内。
4.如权利要求1所述的液晶涂布装置，其特征在于，所述液晶滴头设置
为平坦化涂布流出的液晶。
5.如权利要求1所述的液晶涂布装置，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢克成，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44