一种提高YBCO厚膜临界电流的方法技术

技术编号:13374447 阅读:146 留言:0更新日期:2016-07-20 02:43
一种在金属基带衬底上制备YBCO超导层厚膜的方法,包括:(1)将带有隔离层的金属基带作为样品衬底。(2)以YBCO为靶材,靶基距40-60mm。(3)抽真空至真空腔体内的真空度优于3×10-4Pa,且将金属基带衬底加热至750-770℃并保持;再向真空腔体内通入氧气,并控制纯氧气氛为20-30Pa并保持;(4)、用脉冲激光沉积方法(PLD)在带有隔离层的金属基带衬底上制备YBCO薄膜。以激光频率为10~20Hz,沉积YBCO薄膜。之后将金属基带衬底的温度在原有温度下提高5-10℃并保持,待温度稳定平衡后,同样条件下再继续沉积YBCO薄膜,由传统的不间断沉积方式改为间歇式沉积方式。(5)将沉积后的YBCO薄膜进行原位退火,即在带有隔离层的金属基带上制成YBCO超导层。使用激光法制备的YBCO薄膜不仅有良好的织构和表面形貌,更有高的电性能。

【技术实现步骤摘要】
201410682592

【技术保护点】
一种在金属基带衬底上间歇式制备YBCO超导层厚膜的方法,其特征在于:该方法包括下述步骤:(1)在制备YBCO超导层的真空腔体中,将带有隔离层的金属基带作为样品衬底;采用常规脉冲激光沉积设备,YBCO超导层的真空腔体为常规脉冲激光沉积设备的真空腔体;(2)以YBCO为靶材,靶基距40‑60mm,在真空腔体中,采用脉冲激光沉积的方法在衬底上沉积YBCO膜;(3)抽真空至真空腔体内的真空度优于3×10‑4pa,且将金属基带衬底加热至750‑770℃并保持;再向真空腔体内通入氧气,并控制纯氧气氛为20‑30Pa并保持;(4)、用脉冲激光沉积方法即PLD方法在带有隔离层的金属基带衬底上制备YBCO薄膜;以激光频率为10~20Hz,沉积YBCO薄膜之后,将金属基带衬底的温度在原有温度下提高5‑10℃并保持,待温度稳定平衡后,同样条件下再继续沉积YBCO薄膜,由传统的不间断沉积方式改为间歇式沉积方式;(5)在真空腔体中,将沉积后的YBCO薄膜进行原位退火,即在带有隔离层的金属基带上制成YBCO超导层。

【技术特征摘要】
1.一种在金属基带衬底上间歇式制备YBCO超导层厚膜的方法,其特征在于:该方
法包括下述步骤:
(1)在制备YBCO超导层的真空腔体中,将带有隔离层的金属基带作为样品衬底;
采用常规脉冲激光沉积设备,YBCO超导层的真空腔体为常规脉冲激光沉积设备的真空
腔体;
(2)以YBCO为靶材,靶基距40-60mm,在真空腔体中,采用脉冲激光沉积的方法
在衬底上沉积YBCO膜;
(3)抽真空至真空腔体内的真空度优于3×10-4pa,且将金属基带衬底加热至750-770℃
并保持;再向真空腔体内通入氧气,并控制纯氧气氛为20-30Pa并保持;
(4)、用脉冲激光沉积方法即PLD方法在带有隔离层的金属基带衬底上制备YBCO
薄膜;以激光频率为10~20Hz,沉积YBCO薄膜之后,将金属基带衬底的温度在原有温
度下提高5-10℃并保持,待温度稳定平衡后,同样条件下再继续沉积YBCO薄膜,由传
统的不间断沉积方式改为间歇式沉积方式;
(5)在真空腔体中,将沉积后的YBCO薄膜进行原位退火,即在带有隔离层的金属基
带上制成YBCO超导层。
2.根据权利要求1所述的在金属基带上间歇式制备YBCO超导层厚膜的方法,其特
征在于:在所述的步骤(4)中,脉冲激光沉积方法中的所用的激光频率为10-20Hz,能
量密度为1.8~2.5J/cm2。
3.根据权利要求1或2所述的在金属基带上间歇式制备YBCO超导层厚...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨坚
申请(专利权)人:北京有色金属研究总院
类型:发明
国别省市:北京;11

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