采用固态掺杂剂的离子源装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种采用固态掺杂剂的离子源装置，其包括电弧腔体，以及气化装置和输送保持装置，该气化装置用于使固态掺杂剂气化成原料气体，该输送保持装置用于输送该原料气体至该电弧腔体中，并将该电弧腔体的温度控制在一第一范围内以避免该原料气体凝华，该输送保持装置由绝缘材料制成，该原料气体用于通过电离产生第一等离子体，其中，该电弧腔体被抬高至一预设电位，该气化装置和该输送保持装置均位于大地电位上。该气化装置并未被置于高压端，而是在大地电位上工作的，由此提高了操作的安全性。另外，通过输送保持装置对原料气体气相的保持，即使气化装置并未被置于电弧腔体中也不会发生原料气体凝华的现象。

【技术实现步骤摘要】
201410682208

【技术保护点】
一种采用固态掺杂剂的离子源装置，其包括电弧腔体，其特征在于，该离子源装置还包括气化装置和输送保持装置，该气化装置用于使固态掺杂剂气化成原料气体，该输送保持装置用于输送该原料气体至该电弧腔体中，以及用于将该电弧腔体的温度控制在一第一范围内以避免该原料气体凝华，该输送保持装置由绝缘材料制成，该原料气体用于通过电离产生第一等离子体，其中，该电弧腔体被抬高至一预设电位，该气化装置和该输送保持装置均位于大地电位上，该预设电位为500伏‑5万伏。

【技术特征摘要】
1.一种采用固态掺杂剂的离子源装置，其包括电弧腔体，其特征在于，
该离子源装置还包括气化装置和输送保持装置，该气化装置用于使固态掺杂
剂气化成原料气体，该输送保持装置用于输送该原料气体至该电弧腔体中，
以及用于将该电弧腔体的温度控制在一第一范围内以避免该原料气体凝华，
该输送保持装置由绝缘材料制成，该原料气体用于通过电离产生第一等离子
体，
其中，该电弧腔体被抬高至一预设电位，该气化装置和该输送保持装置
均位于大地电位上，该预设电位为500伏-5万伏。
2.如权利要求1所述的离子源装置，其特征在于，该气化装置设置于
该电弧腔体之外，该气化装置距离该电弧腔体5cm-30cm。
3.如权利要求1所述的离子源装置，其特征在于，该输送保持装置包
括原料输送管道以及温度保持装置，该原料输送管道用于输送该原料气体，
该温度保持装置环绕该原料输送管道和该电弧腔体设置，且用于控制该原料
输送管道和该电弧腔体的温度。
4.如权利要求1所述的离子源装置，其特征在于，该温度保持装置为
电热丝；或者，
该温度保持装置包括介质管道，该介质管道中通有温度可调的介质。
5.如权利要求1所述的离子源装置，其特征在于，该离子源装置还包
括安全气体供应装置，用于向该电弧腔体中通入安全气体，该安全气体用...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪俊华，杨勇，张劲，陈炯，
申请(专利权)人：上海凯世通半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31