【技术实现步骤摘要】
201410709956
【技术保护点】
一种实现PCB过孔的方法,其特征在于,包括以下步骤:根据层压好且需要换层过孔的PCB的厚度,确定在所述PCB上形成过孔的过孔方式;若所确定的过孔方式为全电镀过孔方式,则通过钻孔和电镀处理,在所述PCB上形成具有低电导率金属层的过孔,以便降低四分之一波长谐振点;若所确定的过孔方式为电镀与背钻结合的过孔方式,则通过钻孔和电镀处理后再进行背钻处理,在所述PCB上形成一部分具有低电导率金属层,另一部分无金属层的过孔,以便降低四分之一波长谐振点。
【技术特征摘要】
1.一种实现PCB过孔的方法,其特征在于,包括以下步骤:
根据层压好且需要换层过孔的PCB的厚度,确定在所述PCB上形成过孔的过
孔方式;
若所确定的过孔方式为全电镀过孔方式,则通过钻孔和电镀处理,在所述
PCB上形成具有低电导率金属层的过孔,以便降低四分之一波长谐振点;
若所确定的过孔方式为电镀与背钻结合的过孔方式,则通过钻孔和电镀处理
后再进行背钻处理,在所述PCB上形成一部分具有低电导率金属层,另一部分无
金属层的过孔,以便降低四分之一波长谐振点。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述通过钻孔和电镀处理,
在所述PCB上形成具有低电导率金属层的过孔包括:
在需要换层过孔的PCB上进行钻孔,形成过孔;
对所形成的过孔电镀一层低电导率金属,使在所述PCB上形成具有低电导率
金属层的过孔。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述通过钻孔和电镀处理后
再进行背钻处理,在所述PCB上形成一部分具有低电导率金属层,另一部分无金
属层的过孔包括:
在需要换层过孔的PCB上进行钻孔,形成过孔;
对所形成的过孔电镀一层低电导率金属,使在所述PCB上形成具有低电导率
金属层的过孔。
在所形成具有低电导率金属层的过孔上进行背钻处理,使在所述PCB上形成
的过孔一部分具有低电导率金属层,另一部分无金属层。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据层压好且需要换层
过孔的PCB的厚度,确定在所述PCB上形成过孔的过孔方式包括:
若所述PCB的厚度不大于PCB预置的厚度阈值,则确定在所述PCB上的过孔
方式为全电镀过孔方式;
若所述PCB的厚度大于PCB预置的厚度阈值,则确定在所述PCB上的过孔方
式为电镀与背钻结合的过孔方式。
5.根据权利要求1-4任一所述的方法,其特征在于,所述背钻包括从顶层
\t向下的背钻和从底层向上的背钻,所述低电导率金属为电导率低于5.8*107...
【专利技术属性】
技术研发人员:尹昌刚,马峰超,
申请(专利权)人:中兴通讯股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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