作为调平剂的含有苯并咪唑部分的聚合物制造技术

在金属电镀组合物中包括二卤素与含有苯并咪唑部分的化合物的反应产物的聚合物以在衬底上提供调平金属沉积物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】201380080778

【技术保护点】
一种聚合物，其包含具有一个或多个二卤素和一种或多种具有下式的化合物的反应产物：其中环A和环B的R1、R2和R3可以相同或不同并且为氢、硫醇、直链或分支链硫基(C1‑C12)烷基、羟基、直链或分支链羟基(C1‑C12)烷基、胺、直链或分支链烷基(C1‑C12)胺、直链或分支链(C1‑C12)烷基、烷氧基、直链或分支链烷氧基(C1‑C12)烷基或经取代或未经取代的芳基，其限制条件为式(I)化合物中的至少一个与所述一个或多个二卤素反应形成所述反应产物，环A或环B的R2和R3与其碳原子一起形成稠合经取代或未经取代的六元芳香族环；以及R为(C1‑C12)烷基、醚部分、聚醚部分、羰基、＞C＝S、＞C＝NH、经取代或未经取代的芳基或经取代或未经取代的环烷基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种聚合物，其包含具有一个或多个二卤素和一种或多种具有下式的化合物的反
应产物：
其中环A和环B的R1、R2和R3可以相同或不同并且为氢、硫醇、直链或分支
链硫基(C1-C12)烷基、羟基、直链或分支链羟基(C1-C12)烷基、胺、直链或分支链烷基
(C1-C12)胺、直链或分支链(C1-C12)烷基、烷氧基、直链或分支链烷氧基(C1-C12)烷基
或经取代或未经取代的芳基，其限制条件为式(I)化合物中的至少一个与所述一个
或多个二卤素反应形成所述反应产物，环A或环B的R2和R3与其碳原子一起形成
稠合经取代或未经取代的六元芳香族环；以及R为(C1-C12)烷基、醚部分、聚醚部分、
羰基、＞C＝S、＞C＝NH、经取代或未经取代的芳基或经取代或未经取代的环烷基。
2.一种金属电镀组合物，其包含：一种或多种金属离子源、电解质和一种或多种聚
合物，所述聚合物包含一个或多个二卤素与一种或多种具有下式的化合物的反应产物：
其中环A和环B的R1、R2和R3可以相同或不同并且为氢、硫醇、直链或分支
链硫基(C1-C12)烷基、羟基、直链或分支链羟基(C1-C12)烷基、胺、直链或分支链烷基
(C1-C12)胺、直链或分支链(C1-C12)烷基、烷氧基、直链或分支链烷氧基(C1-C12)烷基
或经取代或未经取代的芳基，其限制条件为式(I)化合物中的至少一个与所述一个
或多个二卤素反应形成所述反应产物，环A或环B的R2和R3与其碳原子一起形成

\t稠合经取代或未经取代的六元芳香族环；以及R为(C1-C12)烷基、醚部分、聚醚部分、
羰基、＞C＝S、＞...

【专利技术属性】
技术研发人员：L·段，Y·李，T·孙，S·冯，C·陈，Z·I·尼亚齐姆贝托瓦，M·A·瑞兹尼克，
申请(专利权)人：罗门哈斯电子材料有限责任公司，陶氏环球技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国;US