一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备，包括底座、真空镀膜设备和串联式蒸镀源，所述底座的下方均布若干滚轮；所述真空镀膜设备设置在所述底座上；所述串联式蒸镀源设置在所述真空镀膜设备的外壁面上；所述串联式蒸镀源包括安装法兰、蒸发源水冷进电口、蒸发源水冷出电口和若干蒸发源，每个所述蒸发源均包括支撑板、绝缘支撑座、两个电极、加热片、坩埚、坩埚挡板和四个支柱。本实用新型专利技术的纳米防指纹薄膜蒸镀设备，可以实现在同一台镀膜设备中完成磁控溅射真空镀膜和纳米防指纹薄膜蒸镀工艺。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备。
技术介绍
目前，在传统工艺中，对于镀膜后的产品防指纹处理，都是在产品镀膜完成后，从镀膜设备的炉腔中拿出产品，更换夹持冶具，再对镀膜后的产品进行防指纹处理。这样纳米防指纹薄膜的镀膜由两台设备完成，中间需要取出产品，很容易造成污染。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术的缺陷，提供一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备，可以实现在同一台镀膜设备中完成磁控溅射真空镀膜和纳米防指纹薄膜蒸镀工艺。实现上述目的的技术方案是：一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备，包括底座、真空镀膜设备和串联式蒸镀源，其中：所述底座的下方均布若干滚轮；所述真空镀膜设备设置在所述底座上；所述串联式蒸镀源设置在所述真空镀膜设备的外壁面上；所述串联式蒸镀源包括安装法兰、蒸发源水冷进电口、蒸发源水冷出电口和若干蒸发源，所述安装法兰固定在所述真空镀膜设备的外壁面上；所述若干蒸发源从上至下依次设置在所述安装法兰的后表面上，且所述若干蒸发源依次串联连接；每个所述蒸发源的外部均设置有蒸发源挡板；所述蒸发源水冷进电口和蒸发源水冷出电口一上一下地设置在所述安装法兰的前表面上，所述蒸发源水冷进电口与位于所述安装法兰的后表面的最上方的蒸发源电连接，所述蒸发源水冷出电口与位于所述安装法兰的后表面的最下方的蒸发源电连接；每个所述蒸发源均包括支撑板、绝缘支撑座、两个电极、加热片、坩埚、坩埚挡板和四个支柱，所述支撑板垂直设置；所述绝缘支撑座设置在所述支撑板的前表面的下部；所述两个电极分别设置在所述绝缘支撑座上，且所述两个电极一一对应地位于所述支撑板的左右侧；所述加热片跨接在所述两个电极之间，且位于所述绝缘支撑座的前方；所述坩埚设置在所述加热片的中部；所述坩埚挡板设置在所述坩埚的上端；所述四个支柱一一对应地设置在所述支撑板的后表面的四个角。上述的一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备，其中，所述真空镀膜设备采用磁控溅射真空镀膜设备。上述的一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备，其中，所述蒸发源挡板呈后端开口的箱体结构，每个所述蒸发源设置在相应的所述蒸发源挡板内。本技术的纳米防指纹薄膜蒸镀设备，可以实现在同一台镀膜设备中完成磁控溅射真空镀膜和纳米防指纹薄膜蒸镀工艺，其有益效果体现在：(1)中间不需要将需镀膜的产品取出、更换冶具，减少了污染；(2)在同一台镀膜设备中完成纳米防指纹薄膜的镀膜，改变传统的在真空镀膜完成后再进行防指纹处理，节省了另一台镀纳米防指纹模的设备；(3)纳米防指纹薄膜的镀膜工序大幅度降低，产品制备流程简化了很多。附图说明图1为本技术的纳米防指纹薄膜蒸镀设备的结构示意图；图2为串联式蒸镀源的结构示意图(后视)；图3为串联式蒸镀源的结构示意图(侧视)；图4为串联式蒸镀源的蒸发源的结构示意图。具体实施方式为了使本
的技术人员能更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图对其具体实施方式进行详细地说明：请参阅图1至图4，本技术的最佳实施例，一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备，包括底座1、真空镀膜设备2和串联式蒸镀源3。请参阅图1，底座1的下方均布若干滚轮11；真空镀膜设备2设置在底座1上；串联式蒸镀源3设置在真空镀膜设备2的外壁面上。优选地，真空镀膜设备2采用磁控溅射真空镀膜设备。再请参阅图2和图3，串联式蒸镀源3包括安装法兰31、蒸发源水冷进电口32、蒸发源水冷出电口33和若干蒸发源34，安装法兰31固定在真空镀膜设备2的外壁面上；若干蒸发源34从上至下依次设置在安装法兰31的后表面上，且若干蒸发源34依次串联连接；每个蒸发源34的外部均设置有蒸发源挡板35，蒸发源挡板35呈后端开口的箱体结构，每个蒸发源34设置在相应的蒸发源挡板35内；蒸发源水冷进电口32和蒸发源水冷出电口33一上一下地设置在安装法兰31的前表面上，蒸发源水冷进电口32与位于安装法兰31的后表面的最上方的蒸发源34电连接，蒸发源水冷出电口33与位于安装法兰31的后表面的最下方的蒸发源34电连接。再请参阅图4，每个所蒸发源34均包括支撑板341、绝缘支撑座342、两个电极343、加热片344、坩埚345、坩埚挡板346和四个支柱347，支撑板341垂直设置；绝缘支撑座342设置在支撑板341的前表面的下部；两个电极343分别设置在绝缘支撑座342上，且两个电极343一一对应地位于支撑板341的左右侧；加热片344跨接在两个电极343之间，且位于绝缘支撑座342的前方；坩埚345设置在加热片344的中部；坩埚挡板346设置在坩埚345的上端；四个支柱347一一对应地设置在支撑板341的后表面的四个角。本技术的纳米防指纹薄膜蒸镀设备，在使用时，串联式蒸镀源是与真空镀膜设备结合起来的，实现完成磁控溅射后直接再镀纳米防指纹薄膜，产品不需要出炉或二次更换冶具，减少产品污染、节省整个工艺流程时间、简化工艺流程、节约成本，而且采用本技术的纳米防指纹薄膜蒸镀设备蒸镀而成的纳米防指纹薄膜效果比传统的喷涂、浸涂等防指纹薄膜要稳定、固化快，放置时间久防指纹效果更明显。本
中的普通技术人员应当认识到，以上的实施例仅是用来说明本实用新型，而并非用作为对本技术的限定，只要在本技术的实质精神范围内，对以上所述实施例的变化、变型都将落在本技术的权利要求书范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备，其特征在于，包括底座、真空镀膜设备和串联式蒸镀源，其中：所述底座的下方均布若干滚轮；所述真空镀膜设备设置在所述底座上；所述串联式蒸镀源设置在所述真空镀膜设备的外壁面上；所述串联式蒸镀源包括安装法兰、蒸发源水冷进电口、蒸发源水冷出电口和若干蒸发源，所述安装法兰固定在所述真空镀膜设备的外壁面上；所述若干蒸发源从上至下依次设置在所述安装法兰的后表面上，且所述若干蒸发源依次串联连接；每个所述蒸发源的外部均设置有蒸发源挡板；所述蒸发源水冷进电口和蒸发源水冷出电口一上一下地设置在所述安装法兰的前表面上，所述蒸发源水冷进电口与位于所述安装法兰的后表面的最上方的蒸发源电连接，所述蒸发源水冷出电口与位于所述安装法兰的后表面的最下方的蒸发源电连接；每个所述蒸发源均包括支撑板、绝缘支撑座、两个电极、加热片、坩埚、坩埚挡板和四个支柱，所述支撑板垂直设置；所述绝缘支撑座设置在所述支撑板的前表面的下部；所述两个电极分别设置在所述绝缘支撑座上，且所述两个电极一一对应地位于所述支撑板的左右侧；所述加热片跨接在所述两个电极之间，且位于所述绝缘支撑座的前方；所述坩埚设置在所述加热片的中部；所述坩埚挡板设置在所述坩埚的上端；所述四个支柱一一对应地设置在所述支撑板的后表面的四个角。...

【技术特征摘要】
1.一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备，其特征在于，包括底座、真空镀膜设备和串
联式蒸镀源，其中：
所述底座的下方均布若干滚轮；
所述真空镀膜设备设置在所述底座上；
所述串联式蒸镀源设置在所述真空镀膜设备的外壁面上；
所述串联式蒸镀源包括安装法兰、蒸发源水冷进电口、蒸发源水冷出电口和若
干蒸发源，所述安装法兰固定在所述真空镀膜设备的外壁面上；所述若干蒸发源从
上至下依次设置在所述安装法兰的后表面上，且所述若干蒸发源依次串联连接；每
个所述蒸发源的外部均设置有蒸发源挡板；所述蒸发源水冷进电口和蒸发源水冷出
电口一上一下地设置在所述安装法兰的前表面上，所述蒸发源水冷进电口与位于所
述安装法兰的后表面的最上方的蒸发源电连接，所述蒸发源水冷出电口与位于所述
安装法兰的后表面的最下方的蒸发源电连接；<...

【专利技术属性】
技术研发人员：史旭，
申请(专利权)人：纳峰真空镀膜上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31