热处理制作工艺制造技术

技术编号:13334114 阅读:58 留言:0更新日期:2016-07-12 04:56
本发明专利技术较佳实施例是公开一种热处理制作工艺。首先提供一待加热的半导体基底,然后利用至少两个具有不同能量密度的第一加热光束及第二加热光束同时对该半导体基底进行加热。由此,本发明专利技术除了可省略现有进行热处理制作工艺时需切换不同机台的麻烦并缩短制作工艺周期,又可改善仅由半导体基底正面加热而产生图案化现象的问题。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种热处理制作工艺,包含提供一待加热的半导体基底;以及利用至少两个具有不同能量密度的第一加热光束及第二加热光束同时对该半导体基底进行加热。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:秦海鹏
申请(专利权)人:青岛泰威机床有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

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