【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种等离子反应腔体的渗漏检测方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1，分别向正常等离子反应腔体中通入预设含量的氟烷基气体和与所述预设含量不同的已知含量的氟烷基气体，接入预设激发能量使气体电离，并分别采集电离过程中发射的谱线生成第一光谱曲线；步骤2，分别向正常等离子反应腔体中通入所述预设含量的氟烷基气体与不同已知含量的其它气体的组合气体，接入所述预设激发能量使气体电离，并分别采集电离过程中发射的谱线生成第二光谱曲线；其中，所述其它气体包括待检测等离子反应腔体工作中容易漏入的气体；步骤3，向所述待检测等离子反应腔体中通入所述预设含量的氟烷基气体，接入所述预设激发能量使气体电离，并采集电离过程中发射的谱线生成第三光谱曲线；步骤4，将所述第三光谱曲线与所述第一光谱曲线和所述第二光谱曲线进行对比，获取与所述第三光谱曲线相匹配的匹配光谱曲线；并根据所述匹配光谱曲线所对应的正常等离子反应腔体中各气体的含量，获知所述待检测等离子反应腔体的渗漏情况。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：任连娟，陆飞，
申请(专利权)人：武汉新芯集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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