本发明专利技术描述了诸如光学膜和光学膜叠堆2000的制品。所述制品包括基底2070和设置在基底上的底漆层2075，其中所述底漆层包含聚丙烯酸酯和含氮聚合物。所述制品还包括设置在底漆层上的粘合剂层2060，其中所述粘合剂层包含聚丙烯酸酯组分。在一些实施例中，所述粘合剂还粘结到第二基底2010或剥离衬片。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】包括具有含氮聚合物的聚丙稀酸醋底漆的制品和方法
技术介绍
W0 2012/138495描述了光学叠堆，其包括第一光学膜，所述第一光学膜包括设置 在第一表面上的多个结构，使得所述结构的一部分穿入所述粘合剂层并且在所述粘合剂层 和所述第一表面之间提供分隔，所述结构包括主要被设计成用于提供光学增益的光学活性 部W及可任选地光学上非活性的粘结部，所述第一表面粘结到具有透光性粘合剂层的第二 光学膜。所述光学叠堆表现出高剥离强度和高保持亮度的组合，特别是在老化后。 粘合剂层优选地包含聚丙締酸醋组分与可聚合单体的反应产物即互穿网络，并且 所述粘合剂层在25°C下具有在100M化至2000M化范围内的弹性模量。
技术实现思路
虽然包含聚丙締酸醋组分与可聚合单体的反应产物的互穿网络的粘合剂层能够 为许多光学膜提供高剥离强度，但已经发现当试图去将一种(例如棱柱或柱)结构粘结到微 结构化(例如漫射体)层时，剥离强度可大幅降低。但是，已经发现通过在微结构化(例如漫 射体)层上提供一定的底漆层可W获得高剥离强度。 在一个实施例中，描述了一种光学膜叠堆，其包括第一光学膜，所述第一光学膜连 接至具有固化的粘合剂层的第二光学膜的微结构化表面层。所述固化的粘合剂层包含聚丙 締酸醋组分与可聚合单体的互穿网络。第二光学膜还包括设置在固化的粘合剂层和第二基 底的微结构化表面之间的底漆层。所述底漆层包含聚丙締酸醋组分和含氮聚合物。 在一个优选的实施例中，所述第一光学膜包括设置在第一表面上的多个结构，使 得所述结构的一部分穿入所述粘合剂层并且在所述粘合剂层和所述第一表面之间提供分 隔，所述结构包括主要被设计成用于提供光学增益的光学活性部，所述第一表面粘结到第 二光学膜的微结构化表面层，所述第二光学膜具有固化的粘合剂层。 推测运种底漆层有益于粘结其他基底。因此，在另一个实施例中，描述了 一种制 品，其包括基底和设置在基底上的底漆层，其中所述底漆层包含聚丙締酸醋和含氮聚合物。 所述制品还包含设置到底漆层上的粘合剂组合物，其中所述粘合剂组合物包含聚丙締酸醋 组分。在一些实施例中，所述粘合剂还粘结到(例如，第二)第二基底或剥离衬片。所述(例如 第二)基底还可W包括微结构化表面层，其中所述底漆层设置在所述固化的粘合剂层和所 述微结构化表面之间。 还描述了制备制品的方法。在一个实施例中，描述了制备基底的方法，所述方法包 括用底漆层涂布基底，所述底漆层包含聚丙締酸醋和含氮聚合物；W及将粘合剂层设置到 所述底漆层上，其中所述粘合剂组合物包含聚丙締酸醋组分。【附图说明】[000引图1为第一基底、底漆层、粘合剂层和第二基底的剖视图； 图2为包括微结构化表面层的第一基底、底漆层、粘合剂层和第二基底的剖视图； 图3为光定向膜的示意性侧视图；图4为部分穿入光学层的整体分立结构的示意性侧视图；[001^ 图54和5B为光定向膜的示意性Ξ维视图； 图6为光定向膜的示意性侧视图； 图7A和7B为光学叠堆的示意性侧视图； 图8为光定向膜的示意性侧视图； 图9为光学叠堆的示意性侧视图；图10是显示系统的示意性侧视图； 图11为另一个光学叠堆的示意性侧视图； 图12为适用于测量光学增益的光学系统的示意性侧视图； 图13为另一个光学叠堆的示意性侧视图。 优选实施例的【具体实施方式】 参见图1，本专利技术整体设及一种制品200,其包括基底220,设置在基底上的底漆层 225, W及设置在底漆层上的粘合剂层250。所述粘合剂层通常还粘结到（例如，第二)基底 221或剥离衬片(未示出），所述剥离衬片可设置在粘合剂层250上而不是设置在基底221上。 参见图2,在一个优选的实施例中，基底220还包括微结构化(例如漫射体)层222。 底漆层225设置在微结构化(例如漫射体)层上，并且粘合剂层250设置在底漆层上。所述粘 合剂层通常还粘结到(例如，第二)基底221或剥离衬片(未示出），所述剥离衬片可设置在粘 合剂层250上而不是设置在基底221上。基底221可W是与基底220相同的基底或不同的基 底。 在一些实施例中，所述第二基底包括所述微结构化(例如漫射体)层222。该命名规 则被选择为与W0 2012/138495中所使用的命名规则一致。但是，在其他实施例中，包括底漆 的基底是"第一基底"。在该实施例中，包含在第一基底或第二基底上的微结构化(例如漫射 体)层是可选的。 对于包括在第一或第二基底上的微结构化(例如漫射体)层的实施例，基底220和/ 或221的表面可被粗糖化或纹理化W提供微结构化(例如漫射体)层(例如222)。运可W通过 本领域已知的多种方式实现，包括使用已经通过喷砂处理或W其他方式粗糖化的合适工具 将所述下层进行压印。微结构化(例如漫射体)层222也可W通过将涂料组合物施用到基底220和/或221 来制备，所述涂料组合物包括适当大小的颗粒，如石英砂，玻璃珠，或聚合物珠。所述平均粒 度通常在约1至10微米的范围内。运种粒子的浓度可W在所述微结构化(例如，漫射体)层 222的至少2重量％至约10重量％或^上的范围内。当其浓度小于2重量％ (例如，1.8重 量％、1.6重量％、1.4重量％、1.2重量％、1.0重量％、0.8重量％、0.6重量％ )时，该浓度通 常不足W使光泽减少到期望的程度(运还促使增加雾度）。在另一个实施例中，微结构化(例如漫射体)层(例如222)-般可W由工具使用微 复制通过诱铸和固化与工具表面接触的可聚合树脂组合物而制造，如美国专利5,175,030 (Lu等人)和5，183,597(Lu)中所述。工具可使用任何可用的制造方法，如通过使用雕刻或金 刚石车削来制造。示例性金刚石车削系统和方法可包括和利用快速刀具伺服机构(FTS)，其 描述于W02010/141354中；将该文献W引用方式并入本文。另选地，所述工具可W通过电沉 积来制造。在一个实施例中，所述工具通过下述方法制备:利用第一电锻工艺使金属电沉积 形成金属的第一层，w产生具有第一平均粗糖度的第一层的第一主表面;并且通过利用第 二电锻工艺使金属电沉积在所述第一主表面上形成金属的第二层，W产生第二层的第二主 表面，所述第二层的第二主表面具有比第一平均粗糖度小的第二平均粗糖度;如在2012年 11月21日提交的申请序列号61/728,868中所描述;将该文献W引用方式并入本文。 当微结构化(例如漫射体)层由工具使用微复制通过诱铸和固化与工具表面接触 的可聚合树脂组合物而制造时，所述微结构化表面层包括多个峰并且大多数（即至少50%) 和通常基本上所有的峰没有(如嵌入式)磨砂粒子。 基底(220和/或221)将部分基于预期用途所需的(例如，光学和机械)性能来选择。 运类机械性能通常将包括柔初性、尺寸稳定性和抗冲击性。对于大多数的应用，基底厚度为 至少0.02毫米，并且不超过小于约0.5毫米或0.2毫米。可任选地对基底进行处理W改善粘 合性，例如化学处理，电晕处理如空气或氮气电晕，等离子，火焰，或光化福射。但是，在一些 实施例中，所述基底不经过运类处理W提高粘合性。 在优选的实施例中，所述基底为光学膜。在一些实施例中，所述"光学膜"为在显示 器的光路中的透光膜，与不存在光学膜的情况下观察显示本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光学膜叠堆，所述光学膜叠堆包括：粘结到第二光学膜的微结构化表面层的第一光学膜，所述第二光学膜具有固化的粘合剂层，所述固化的粘合剂层包含聚丙烯酸酯与可聚合单体的反应产物的互穿网络；其中所述第二光学膜还包含设置在所述固化的粘合剂层和第二基底的所述微结构化表面层之间的底漆层，并且所述底漆层包含聚丙烯酸酯和含氮聚合物。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：威廉·F·埃德蒙兹，杰森·S·佩泰耶，杰佛瑞·L·所罗门，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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