一种全自动光刻板清洗机制造技术

本发明专利技术涉及光刻板的清洗领域，具体涉及一种全自动的光刻板清洗机。一种全自动光刻板清洗机，由上下料单元、清洗单元、翻转单元、光刻版传输单元、定位单元、药液供给与循环单元和温度控制单元组成。本发明专利技术提供的全自动光刻板清洗机使用方便，使用其清洁后，洁净度高，工艺效果理想，工艺参数稳定，自动化程度高，批量处理能力强，可以广泛用于工业生产之中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻板的清洗领域，具体涉及一种全自动的光刻板清洗机。
技术介绍
光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。其工艺质量直接影响着器件成品率、可靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻版必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻版不洁净，存在污染颗粒，这些颗粒就会被复制到硅片表面的光刻胶上，造成器件性能的下降。然而，光刻版在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物，这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。为了保证光刻版洁净，必须定期对光刻版进行清洗，而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。
技术实现思路
本专利技术旨在提出一种便于使用的全自动光刻板清洗机。本专利技术的技术方案在于: 一种全自动光刻板清洗机，由上下料单元、清洗单元、翻转单元、光刻版传输单元、定位单元、药液供给与循环单元和温度控制单元组成。优选地，所述的上下料单元由片盒A和片盒B以及用于承载待清洗和已经清洗的光刻版组成。优选地，所述的清洗单元为一个封闭的腔室，腔室内具有的承载光刻版旋转的卡盘；安装有药液喷嘴、毛刷、兆声喷头、高压DI水喷嘴、常压DI水喷嘴、氮气喷管，可往复摆动的多个摆臂；防溅腔以及自动门。优选地，所述的翻转单元为一个翻转机构。或者优选地，所述的光刻版传输单兀为一个折臂抓取机械手，用于传输光刻版，抓取部分为气缸夹持。或者优选地，所述的药液供给与循环单元包括储液罐以及若干喷嘴。本专利技术的技术效果在于: 本专利技术提供的全自动光刻板清洗机使用方便，使用其清洁后，洁净度高，工艺效果理想，工艺参数稳定，自动化程度高，批量处理能力强，可以广泛用于工业生产之中。【具体实施方式】—种全自动光刻板清洗机，包括上下料单元、清洗单元、翻转单元、光刻版传输单元、定位单元、药液供给与循环单元和温度控制单元。其中，上下料单元包括片盒A和片盒B，用于承载待清洗和已经清洗的光刻版。光刻版传输单元从上下料单元抓取待清洗的光刻版，放入清洗单元进行清洗处理，处理结束后，放回上下料单元。片盒A和片盒B的具体作用可以通过软件进行任意设定。清洗单元是一个封闭的腔室,腔室内具有的结构:承载光刻版旋转的卡盘；安装有药液喷嘴、毛刷、兆声喷头、高压DI水喷嘴、常压DI水喷嘴、氮气喷管，并且可以往复摆动多个摆臂；防溅腔；自动门等。在全自动光刻版清洗机中可以设计多个清洗腔室，以提高清洗效率。翻转单元是一个翻转机构，对光刻版进行翻转。用户往往需要对光刻版的正反两面进行清洗。在清洗光刻版的正面后，光刻版传输单元将光刻版置于翻转单元内，光刻版翻转后，传输单元将背面朝上的光刻版置于清洗腔内，对光刻版背面进行刷洗，达到光刻版正反两面清洗的效果。光刻版传输单兀是一个折臂抓取机械手，用于传输光刻版，抓取部分为气缸夹持。同时，具有扫描识别光刻版位置的功能。定位单元:用于光刻版位置的校正。药液供给与循环单元:将丙酮、浓硫酸等清洗液从供液罐或是储液槽输送到清洗单元的喷嘴。同时，具有药液循环过滤、回收利用等功能。温度控制单元:用于药液的温度控制，将药液控制在合理的工艺温度范围内。【主权项】1.一种全自动光刻板清洗机，其特征在于:由上下料单元、清洗单元、翻转单元、光刻版传输单元、定位单元、药液供给与循环单元和温度控制单元组成。2.如权利要求1一种全自动光刻板清洗机，其特征在于:所述的上下料单元由片盒A和片盒B以及用于承载待清洗和已经清洗的光刻版组成。3.如权利要求1一种全自动光刻板清洗机，其特征在于:所述的清洗单元为一个封闭的腔室，腔室内具有的承载光刻版旋转的卡盘；安装有药液喷嘴、毛刷、兆声喷头、高压DI水喷嘴、常压DI水喷嘴、氮气喷管，可往复摆动的多个摆臂；防溅腔以及自动门。4.如权利要求1一种全自动光刻板清洗机，其特征在于:所述的翻转单元为一个翻转机构。5.如权利要求1一种全自动光刻板清洗机，其特征在于:所述的光刻版传输单兀为一个折臂抓取机械手，用于传输光刻版，抓取部分为气缸夹持。6.如权利要求1一种全自动光刻板清洗机，其特征在于:所述的药液供给与循环单元包括储液罐以及若干喷嘴。【专利摘要】本专利技术涉及光刻板的清洗领域，具体涉及一种全自动的光刻板清洗机。一种全自动光刻板清洗机，由上下料单元、清洗单元、翻转单元、光刻版传输单元、定位单元、药液供给与循环单元和温度控制单元组成。本专利技术提供的全自动光刻板清洗机使用方便，使用其清洁后，洁净度高，工艺效果理想，工艺参数稳定，自动化程度高，批量处理能力强，可以广泛用于工业生产之中。【IPC分类】H01L21/67【公开号】CN105590879【申请号】CN201410600424【专利技术人】王耀斌 【申请人】陕西盛迈石油有限公司【公开日】2016年5月18日【申请日】2014年10月31日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全自动光刻板清洗机，其特征在于：由上下料单元、清洗单元、翻转单元、光刻版传输单元、定位单元、药液供给与循环单元和温度控制单元组成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王耀斌，
申请(专利权)人：陕西盛迈石油有限公司，
类型：发明
国别省市：陕西;61