本实用新型专利技术涉及镜片领域。本实用新型专利技术提出一种抗电磁镜片，包括一镜片及镀于该镜片表面的一复合镀膜层，其中：该复合镀膜层由内至外依次包括一二氧化锆层、一金属铜层、一金属铬层、一二氧化硅层。本实用新型专利技术的抗电磁镜片具有更低电阻率且透光性较佳。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及镜片领域，尤其涉及具有抗电磁镀层的镜片。
技术介绍
随着科技的进步和通讯事业的日趋发展，电脑、电视、微波炉及手机的应用日益普及，电器的电磁波对人体的影响越来越严重。过量的电磁波进入人体，使体内分子运动加剧，产生一定的热量，使人体水分蒸发、破坏细胞正常的新陈代谢，导致细胞发生病变、甚至坏死等情况。长期处于较强电磁波辐射环境中工作、生活的人往往容易导致发生眼部疾病。因此，基于这种情形下，抗电磁镜片被应用来对眼部进行保护。CN201589905 U、CN203950047U、CN201359642Y均提出了抗电磁镜片，均是在镜片上通过镀膜形成能够导电且透光的抗电磁镀膜层。其中，CN201589905 U、CN203950047U是采用的镀膜层的光穿透率不高。CN201359642Y采用的镀膜层虽透光性较好，但其导电性还有待提高(电阻率在百Ω/cm2级别)。
技术实现思路
本技术提出一种具有更低电阻率且透光性较佳的抗电磁镜片。本技术采用如下技术方案实现:—种抗电磁镜片，包括一镜片及镀于该镜片表面的一复合镀膜层，其中:该复合镀膜层由内至外依次包括一二氧化锆层、一金属铜层、一金属铬层、一二氧化硅层。进一步的，二氧化锆层的厚度范围是80至150埃米，金属铜层的厚度范围是80至150埃米，金属铬层的厚度范围是15至50埃米，二氧化硅层的厚度范围是30至100埃米。优选的，二氧化锆层的厚度是100埃米，金属铜层的厚度是100埃米，金属铬层的厚度是20埃米，二氧化硅层的厚度是40埃米。进一步的，在二氧化硅层上还镀一防水保护层。本技术的抗电磁镜片是一种具有更低电阻率且透光性较佳的抗电磁镜片，从而使本技术的抗电磁镜片不仅可以在日常场合使用，也可以在一些特定应用场合下使用，例如佩戴以隔离电脑、传真机、手机、微波炉等电子元器件的辐射等。【附图说明】图1是本技术的剖面结构示意图。图2是本技术一实施例的抗电磁镜片的透射频谱测试结果图。图3是本技术一实施例的抗电磁镜片的接收颜色限制区域测试结果图。图4是本技术一实施例的抗电磁镜片的频谱数据测试结果表格。【具体实施方式】为进一步说明各实施例，本技术提供有附图。这些附图为本技术揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理。配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本技术的优点。图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。现结合附图和【具体实施方式】对本技术进一步说明。参阅图1所示，本技术提出一种抗电磁镜片，包括一镜片10及镀于该镜片表面的一复合镀膜层20，其中:该复合镀膜层20由内至外依次包括一二氧化锆(ZrO2)层201、一金属铜(Cu)层202、一金属铬(Cr)层203、一二氧化硅(S12)层204。镜片10可以选用树脂镜片或玻璃镜片。其中，该复合镀膜层20中各膜层的厚度如下:二氧化锆层的厚度范围是80至150埃米(A)，金属铜层的厚度范围是80至150埃米，金属铬层的厚度范围是15至50埃米，二氧化硅层的厚度范围是30至100埃米。优选的，二氧化锆层的厚度是100埃米，金属铜层的厚度是100埃米，金属铬层的厚度是20埃米，二氧化硅层的厚度是40埃米。本技术的抗电磁镜片在镜片的表面由内至外依次由真空蒸镀上合适厚度的二氧化错(ZrO2)层、金属铜(Cu)层、金属络(Cr )层、二氧化娃(S12)层，从而使该抗电磁镜片具有更低电阻率和较佳的透光性。优选的，为了更好地保护抗电磁的镀膜层而不轻易脱落，还在该二氧化硅层204上镀一防水保护层30，可镀约25埃米(A)的厚度膜厚。本技术的抗电磁镜片经过导电率测试，其镀膜层的电阻率可以低于30 Ω/cm2,甚至达到20 Ω /cm2以下。同时，本技术一实施例的抗电磁镜片进行光学测试，参阅图2至图4所示，结果表明其镀膜层的透光率可达50%左右，具有较佳的透光性。本技术的抗电磁镜片的镀膜层厚度(包括防水保护层)也较薄，在230至475埃米(A)之间的厚度，不足50纳米(nm)，显然是低于CN203950047 U中的45_90nm的电磁波屏蔽层厚度，从而具有更好的应用前景。本技术的抗电磁镜片的膜层厚度越小越不影响基材本身的功能，且清晰度高，不影响产品外观。尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本技术，但所属领域的技术人员应该明白，在不脱离所附权利要求书所限定的本技术的精神和范围内，在形式上和细节上可以对本技术做出各种变化，均为本技术的保护范围。【主权项】1.一种抗电磁镜片，包括一镜片及镀于该镜片表面的一复合镀膜层，其特征在于:该复合镀膜层由内至外依次包括一二氧化锆层、一金属铜层、一金属铬层、一二氧化硅层。2.根据权利要求1所述的抗电磁镜片，其特征在于:二氧化锆层的厚度范围是80至150埃米，金属铜层的厚度范围是80至150埃米，金属铬层的厚度范围是15至50埃米，二氧化硅层的厚度范围是30至100埃米。3.根据权利要求2所述的抗电磁镜片，其特征在于:二氧化锆层的厚度是100埃米，金属铜层的厚度是100埃米，金属铬层的厚度是20埃米，二氧化硅层的厚度是40埃米。4.根据权利要求1或2或3所述的抗电磁镜片，其特征在于:在二氧化硅层上还镀一防水保护层。【专利摘要】本技术涉及镜片领域。本技术提出一种抗电磁镜片，包括一镜片及镀于该镜片表面的一复合镀膜层，其中：该复合镀膜层由内至外依次包括一二氧化锆层、一金属铜层、一金属铬层、一二氧化硅层。本技术的抗电磁镜片具有更低电阻率且透光性较佳。【IPC分类】G02B1/10, G02C7/10【公开号】CN205210433【申请号】CN201520851116【专利技术人】杨敏男 【申请人】厦门美澜光电科技有限公司【公开日】2016年5月4日【申请日】2015年10月30日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种抗电磁镜片，包括一镜片及镀于该镜片表面的一复合镀膜层，其特征在于：该复合镀膜层由内至外依次包括一二氧化锆层、一金属铜层、一金属铬层、一二氧化硅层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨敏男，
申请(专利权)人：厦门美澜光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35
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