本发明专利技术公开了一种微米级碳化硼防弹陶瓷粉体的制备方法，以45um～106um区间的碳化硼粉体为原料，将粉体经两次破碎；加酸除铁，将反应后料浆移入压滤机中压入滤饼，并用水冲洗，直到冲洗出的水PH值为6.5～7.5；压滤机中取出滤饼加水搅拌形成碳化硼含量15～20%、分散剂含量0.3～0.5%的料浆，送入水力分级机中，保持入口压力0.4mp～0.5mp，将微米级碳化硼料浆移入压滤机中压入滤饼，使用微波设备干燥，得到微纳米级的碳化硼粉体，D50﹤2um，D3﹤7um，纯度﹥95%的微米级碳化硼粉体。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，属于碳化硼陶瓷材料生产领域。
技术介绍
目前，国内市场还未见针对防弹陶瓷产品专门生产微米级碳化硼粉体的报道，生产碳化硼制品多采用D50在3um-5um之间的微粉，其来源多为生产其它粒度产品的副产品，粉体数量少，纯度低，料质颗粒形状不规则，生产的碳化硼制品质量不稳定；国外发达国家采用D50在65um-70um区间的高振实密度(1.7g/cm3)碳化硼制粉体制造抗弹产品。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供，得到微纳米级的碳化硼粉体，D50<2um，D3<7um，纯度>95%的微米级碳化硼粉体。本专利技术的技术方案为:，选用45μπι?106μπι区间的碳化硼粉体为原料，经过两次破碎制浆，加酸除铁，反应后将料浆移入压滤机中压滤，并用水冲洗直至冲洗水pH值为6.5?7.5，将滤饼加水搅拌形成碳化硼含量15?20%、钠基分散剂含量0.3?0.5%的料浆，送入水力分级机中，全开排渣口、溢流口，渣料返回球磨，分离后将溢流口D50 < 2μπι料浆移入压滤机中压入滤饼，使用微波设备干燥。进一步地，所述两次破碎制浆为:先在立式搅拌球磨机中球磨，其中料:球:磨介比为1:4:1.5的比例，球磨14小时，钢球配比至2mm?仰mm，至2mm钢球含量大于40%,磨介为水，将碳化硼磨至2μπι含量大于85%;然后将料浆移入卧式球磨机，料浆与钢球按1:2比例，钢球为至1.5mm?f2mm，球磨10小时。进一步地，在压滤机滤布内侧贴网孔为0.5μπι滤膜防止微米级粉体流失。进一步地，保持水力分级机入口压力0.4?0.5ΜΡ。本专利技术的有益效果为:可以批量制备用于防弹产品的料源，产品粒度细，纯度高，而且质量稳定，粉体颗粒形状呈类球状多棱体，有利于毛坯成型及获得理想致密度的陶瓷制品，满足了抗弹产品批量大，质量均匀稳定性好的要求。【附图说明】图1粉体的粒度分布图。【具体实施方式】下面结合具体实施例对本专利技术作进一步解释说明。实施例1:以60?80μπι区间的碳化硼粉体为原料，将粉体投入立式搅拌球磨机中，按着料:球:磨介比为1:4:1.5的比例，球磨14小时，钢球配#2?#8mm，磨介为水，将料楽从立式搅拌球磨机中移入卧式球磨机，料浆与钢球按I: 2比例，钢球为#2mm，球磨10小时;加酸除铁，将反应后料浆移入压滤机中压入滤饼，并用水冲洗，直到冲洗出的水PH值为6.5?7.5;压滤机中取出滤饼加水搅拌形成碳化硼含量15?20%、分散剂含量0.3?0.5%的料浆，送入水力分级机中，保持入口压力0.4?0.5MP，将微米级碳化硼料浆移入压滤机中压入滤饼，使用微波设备干燥，得到D50<2ym，D3<7ym，纯度>95%的微米级碳化硼粉体。实施例2:以70?90μπι区间的碳化硼粉体为原料，将粉体投入立式搅拌球磨机中，按着料:球:磨介比为1:4:1.5的比例，球磨14小时，钢球配#2?#8mm，磨介为水，将料楽从立式搅拌球磨机中移入卧式球磨机，料浆与钢球按I: 2比例，钢球为#2mm，球磨10小时;加酸除铁，将反应后料浆移入压滤机中压入滤饼，并用水冲洗，直到冲洗出的水PH值为6.5?7.5;压滤机中取出滤饼加水搅拌形成碳化硼含量17?18%、分散剂含量0.4?0.5%的料浆，送入水力分级机中，保持入口压力0.45?0.5MP，将微米级碳化硼料浆移入压滤机中压入滤饼，使用微波设备干燥，得到D50<2ym，D3<7ym，纯度>95%的微米级碳化硼粉体。图1是本专利技术方法制备的微米级碳化硼防弹陶瓷粉体的粒度分布图。以上所述，仅为本专利技术较佳的【具体实施方式】，但本专利技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本专利技术披露的技术范围内，根据本专利技术的技术方案及其专利技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。【主权项】1.，其特征在于，选用45μπι?106μπι区间的碳化硼粉体为原料，经过两次破碎制浆，加酸除铁，反应后将料浆移入压滤机中压滤，并用水冲洗直至冲洗水pH值为6.5?7.5，将滤饼加水搅拌形成碳化硼含量15?20%、钠基分散剂含量0.3?0.5%的料浆，送入水力分级机中，全开排渣口、溢流口，渣料返回球磨，分离后将溢流口D50 < 2μπι料浆移入压滤机中压入滤饼，使用微波设备干燥。2.根据权利要求1所述的微米级碳化硼防弹陶瓷粉体的制备方法，其特征在于，所述两次破碎制浆为:先在立式搅拌球磨机中球磨，其中料:球:磨介比为1:4:1.5的比例，球磨14小时，钢球配比#2mm?仰钢球含量大于40%,磨介为水，将碳化硼磨至2μηι含量大于85%;然后将料浆移入卧式球磨机，料浆与钢球按1:2比例，钢球为封.5mm?妇mm，球磨10小时。3.根据权利要求1所述的微米级碳化硼防弹陶瓷粉体的制备方法，其特征在于，在压滤机滤布内侧贴网孔为0.5μπι滤膜防止微米级粉体流失。4.根据权利要求1所述的微米级碳化硼防弹陶瓷粉体的制备方法，其特征在于，保持水力分级机入口压力0.4?0.5ΜΡ。【专利摘要】本专利技术公开了，以45um<b>～</b>106um区间的碳化硼粉体为原料，将粉体经两次破碎；加酸除铁，将反应后料浆移入压滤机中压入滤饼，并用水冲洗，直到冲洗出的水PH值为6.5<b>～</b>7.5；压滤机中取出滤饼加水搅拌形成碳化硼含量15<b>～</b>20%、分散剂含量0.3<b>～</b>0.5%的料浆，送入水力分级机中，保持入口压力0.4mp<b>～</b>0.5mp，将微米级碳化硼料浆移入压滤机中压入滤饼，使用微波设备干燥，得到微纳米级的碳化硼粉体，D50<b>﹤</b>2um，D3<b>﹤</b>7um，纯度<b>﹥</b>95%的微米级碳化硼粉体。【IPC分类】C04B35/563, C04B35/626【公开号】CN105541332【申请号】CN201510886883【专利技术人】桑井茂, 刘君, 曹仲文, 张继红, 翟巍 【申请人】大连金玛硼业科技集团有限公司【公开日】2016年5月4日【申请日】2015年12月7日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种微米级碳化硼防弹陶瓷粉体的制备方法，其特征在于，选用45μm～106μm区间的碳化硼粉体为原料，经过两次破碎制浆，加酸除铁，反应后将料浆移入压滤机中压滤，并用水冲洗直至冲洗水pH值为6.5～7.5，将滤饼加水搅拌形成碳化硼含量15～20%、钠基分散剂含量0.3～0.5%的料浆，送入水力分级机中，全开排渣口、溢流口，渣料返回球磨，分离后将溢流口D50≤2μm料浆移入压滤机中压入滤饼，使用微波设备干燥。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：桑井茂，刘君，曹仲文，张继红，翟巍，
申请(专利权)人：大连金玛硼业科技集团有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21
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