微机电系统及其制造方法技术方案

本发明专利技术公开了一种微机电系统及其制造方法，该微机电系统包括一微结构，一电路，以及一沟渠位于该微结构及该电路之间以隔离该微结构及该电路，防止该微结构被释放时产生过度蚀刻造成该电路的特性劣化。该微机电系统的另一技术方案包括一结构区块至少具有一微结构，一电路区块至少具有第一及第二电路，以及一沟渠位于该第一及第二电路之间以隔离该第一及第二电路，避免该第一及第二电路之间的干扰。本发明专利技术藉由在基板上形成沟渠，以避免电路之间的干扰以及防止释放微结构时基板的过度蚀刻。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种微机电系统，其特征是：该系统包括：　一微结构；　一电路；以及　一沟渠，位于该微结构及该电路之间，以隔离该微结构及该电路，防止该微结构被释放时产生过度蚀刻造成该电路的特性劣化，以及避免该电路与该微结构之间的干扰；　其 中，该沟渠系在释放该微结构的过程中产生。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邱奕翔，叶力垦，
申请(专利权)人：微智半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]