光触媒涂装体以及光触媒涂液制造技术

本发明专利技术的目的在于提供一种能够得到良好的耐大气腐蚀性的光触媒涂装体，及在除去NOX时，尤其在除去空气中的NOX时，能够在提高NOX除去量的同时抑制NO2等中间生成物的生成的光触媒涂装体以及用于其形成的光触媒涂液。光触媒涂液至少包含光触媒性氧化钛粒子、二氧化硅粒子、水溶性锆化合物、水，其特征为，在光触媒涂液的全部固体部分中的光触媒性氧化钛粒子为1质量％以上、15质量％以下，二氧化硅粒子为51质量％以上、98质量％以下，换算成ZrO2的水溶性锆化合物的量为1质量％以上、15质量％以下，还包含除了光触媒性氧化钛粒子与二氧化硅粒子以外的0质量％以上、47质量％以下粒子成分，粒子成分的总量为85质量％以上、99质量％以下。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】[00011本申请是2012年09月25日进入中国国家阶段的、专利技术名称为"光触媒涂装体以及 光触媒涂液"的国家申请号为201180015808.1专利申请的分案申请。
本专利技术涉及一种光触媒涂装体以及用于其形成的光触媒涂液。
技术介绍
近几年广泛利用氧化钛等光触媒。利用由光能激发的光触媒的活性，能够分解各 种有害物质，或者通过对形成在包含光触媒粒子的表层上的构件表面进行亲水化，从而能 够容易地用水清洗附着在表面上的污渍。 作为在基体材料表面上形成包含光触媒粒子的层的方法，公知有如下方法(例如， 日本国特开平7-171408号公报(专利文献1))，利用对光触媒具有耐蚀性的粘结剂成分而形 成层，而且贴紧在基体材料表面上。 也公开有在这种方法中使用的各种粘结剂种类。具体而言，存在氟化乙烯树脂(例 如，日本国特开平7-171408号公报(专利文献1))、硅酮(例如，日本国特开2005-161204号公 报(专利文献2))、二氧化硅粒子(例如，日本国特开2008-264747号公报(专利文献3))、锆化 合物（例如，国际公开第99/28393号（专利文献4)、日本国特开2007-055207号公报（专利文 献5 ))、铝化合物(例如，日本国特开2009-39687号公报(专利文献6))等。 在基体材料表面上形成上述光触媒层的结构中，如果基体材料为有机材料，则有 机材料因光触媒的光触媒活性而有可能发生分解或劣化。为了应对该问题，公知有如下技 术（国际公开第97/00134号（专利文献7))，在光触媒层与基体材料之间设置硅酮变性树脂 等的粘接层，从由光触媒作用引起的劣化中保护基底的基体材料。该现有技术中，具体地公 开有光触媒量超过20质量％的例子，而且记载成有效地防止了基体材料产生分解或劣化。 而且，也公开有如下内容（日本国特开2008-272718号公报(专利文献8))，在光触 媒层与基体材料之间设置包含硅酮变性树脂与有机防霉剂的中间层，防止基体材料发生分 解或劣化。 另外，也利用氧化钛等光触媒来分解NOx等各种有害物质。 关于使用光触媒来分解NOx的技术，存在各种提案（例如，日本国特开平1-218622 号公报（专利文献9)、日本国特开2001-162176号公报（专利文献10)、日本国特开2008-264747号公报(专利文献3)等）。另外，为了在各种基体材料上发挥上述功能，周知有使用各 种粘结剂将光触媒粒子固定在基体材料上的方法(例如，日本国特开平7-171408号公报(专 利文献1 )、国际公开第97/00134号(专利文献7)、国际公开第99/28393号(专利文献4))。 在NOx分解中重要的是，在高效地进行该分解的同时抑制有害的NO2等中间生成物 的生成。在利用光触媒进行NOx分解时，存在对能够抑制有害的中间生成物的生成的技术的 需求。专利文献1:日本国特开平7-171408号公报 专利文献2:日本国特开2005-161204号公报 专利文献3:日本国特开2008-264747号公报 专利文献4:国际公开第99/28393号公报 专利文献5:日本国特开2007-055207号公报 专利文献6:日本国特开2009-39687号公报 专利文献7:国际公开第97/00134号公报 专利文献8:日本国特开2008-272718号公报 专利文献9:日本国特开平1-218622号公报 专利文献10:日本国特开2001-162176号公报 专利文献11:日本国特开平9-227156号公报
技术实现思路
本专利技术者们这次得到了如下知识，通过构成以特定的比例包含光触媒性氧化钛粒 子、二氧化硅粒子与特定的锆化合物的光触媒层，从而能够得到良好的耐大气腐蚀性，即有 效地防止基体材料发生分解或劣化。而且还得到了如下知识，通过构成以特定的比例包含 光触媒性氧化钛粒子、二氧化硅粒子与特定的锆化合物且粒子成分量被控制的光触媒层， 从而在除去NOx时，尤其在除去空气中的NOx时，能够在提高NOx除去量的同时抑制NO 2等中间 生成物的生成。本专利技术是基于上述知识而进行的。 因而，本专利技术的第一形态的目的在于提供一种能够得到良好的耐大气腐蚀性的光 触媒涂装体以及用于其形成的光触媒涂液。 另外，本专利技术的第二形态的目的在于提供一种在除去NOx时，尤其在除去空气中的 NOx时，能够在提高NOx除去量的同时抑制NO2等中间生成物的生成的光触媒涂装体以及用于 其形成的光触媒涂液。 而且，本专利技术的第一形态涉及的光触媒涂装体为， 其具备基体材料与设置在该基体材料上的光触媒层，其特征为， 所述光触媒层至少包含光触媒性氧化钛粒子、二氧化硅粒子与水溶性锆化合物的 干燥物， 在将所述光触媒层整体为100质量％时， 所述光触媒性氧化钛粒子为1质量％以上、20质量％以下， 所述二氧化硅粒子为51质量％以上、98质量％以下，换算成氧化锆(ZrO2)的所述水溶性锆化合物的干燥物的量为1质量％以上、48质 量％以下。另外，本专利技术的第一形态涉及的光触媒涂液为，其至少包含光触媒性氧化钛粒子、二氧化硅粒子、水溶性锆化合物、水，其特征为， 在所述光触媒涂液的全部固体部分中的所述光触媒性氧化钛粒子为1质量％以 上、20质量％以下， 所述二氧化硅粒子为51质量％以上、98质量％以下，换算成ZrO2的所述水溶性锆化合物的量为1质量％以上、48质量％以下。而且，本专利技术的第二形态涉及的光触媒涂装体为， 其具备基体材料与设置在该基体材料上的光触媒层，其特征为， 所述光触媒层至少包含光触媒性氧化钛粒子、二氧化硅粒子与水溶性锆化合物的 干燥物， 在将所述光触媒层整体为100质量％时，所述光触媒性氧化钛粒子为1质量％以上、15质量％以下， 所述二氧化硅粒子为51质量％以上、98质量％以下， 换算成氧化锆(ZrO2)的所述水溶性锆化合物的干燥物的量为1质量％以上、15质 量％以下， 所述光触媒层包含除了所述光触媒性氧化钛粒子与所述二氧化硅粒子以外的0质 量％以上、47质量％以下粒子成分， 在所述光触媒层中的粒子成分的总量为85质量％以上、99质量％以下。 另外，本专利技术的第二形态涉及的光触媒涂液为， 其至少包含光触媒性氧化钛粒子、二氧化硅粒子、水溶性锆化合物、水，其特征为， 在所述光触媒涂液的全部固体部分中的所述光触媒性氧化钛粒子为1质量％以 上、20质量％以下， 所述二氧化硅粒子为51质量％以上、98质量％以下， 换算成ZrO2的所述水溶性锆化合物的量为1质量％以上、15质量％以下， 还包含除了所述光触媒性氧化钛粒子与所述二氧化硅粒子以外的0质量％以上、 47质量％以下粒子成分， 所述粒子成分的总量为85质量％以上、99质量％以下。 另外，本专利技术的目的在于提供一种使用用途，其为用于分解本专利技术涉及的光触媒 涂装体的NOx。 另外，本专利技术的目的在于提供一种NOx分解方法，其包含使本专利技术涉及的光触媒涂 装体与NOx接触的方法。【具体实施方式】 第一形态 光触媒涂装体 本专利技术的第一形态涉及的光触媒涂装体作为基本构造而具备基体材料与设置在 该基体材料上的光触媒层。 而且，该光触媒层至少包含光触媒性氧化钛粒子、二氧化娃粒子与水溶性错化合 物的干燥物，在将所述光触媒层整体为100本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光触媒涂液，其至少包含光触媒性氧化钛粒子、二氧化硅粒子、水溶性锆化合物、水，其特征为，在所述光触媒涂液的全部固体部分中的所述光触媒性氧化钛粒子为1质量％以上、15质量％以下，所述二氧化硅粒子为51质量％以上、98质量％以下，换算成ZrO2的所述水溶性锆化合物的量为1质量％以上、15质量％以下，还包含除了所述光触媒性氧化钛粒子与所述二氧化硅粒子以外的0质量％以上、47质量％以下粒子成分，所述粒子成分的总量为85质量％以上、99质量％以下。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：早川信，表敷浩二，北崎聪，藤井宽之，菅野充诚，龟岛顺次，
申请(专利权)人：TOTO株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP