陶瓷釉下影像工艺制造技术

本发明专利技术公布了一种陶瓷釉下影像工艺，其特征在于工艺步骤如下：先制作石膏影像印章，将影像图案雕于石膏表面制成印章；再图案转印，用印章将图案转印到未干的陶瓷坯体上；然后上釉料，在图案周围的坯体上釉料，再在图案处均匀涂撒上等熔块粉末；最后装炉烧制；本发明专利技术通过单独在浮雕影像处施以上等熔块粉末，烧制后的陶瓷釉下影像处表面光滑，图案晶莹剔透，不仅满足美观需求，而且提高了实用性，使瓷面更易于清洗，不能淤积污垢。

Ceramic glaze imaging technology

The invention discloses a ceramic glaze image process, which is characterized in that the process includes the following steps: making plaster image seal, the image pattern is carved on the surface of the gypsum seal made; then transfers the patterns, with the seal will ceramic pattern transfer to wet; then the glaze, glaze in the pattern around the body then, in the pattern of uniform coating and fine frit powder; finally fired furnace; the invention through a separate image application in relief above the frit powder, after firing the ceramic glaze image pattern at the surface is smooth, crystal clear, not only to meet the aesthetic needs, but also improve the practicability of the porcelain surface is easier to clean cannot collect dirt.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种陶瓷制备工艺，特别是涉及一种陶瓷釉下影像工艺。
技术介绍
我国陶瓷具有悠久的历史，是人类文明进步的杰出代表，现今遍布我们生活的各领域，提高了我们的生活质量。随着工艺的进步，陶瓷的质地也在不断地提升，市场上各种陶瓷制品种繁多玲琅满目，其实用性和装饰性都比较强，为了提高美观度多是从造型上来创新，也有通过表面图案来提高观赏性，如釉下影像，表面浮雕般的立体效果，但由于受工艺影响，图案影像表面常会出现凹凸不平的现象，影响了其大面积推广应用，仍有待于技术改进。
技术实现思路
为了解决上述问题，本专利技术提供了一种陶瓷釉下影像工艺。本专利技术采用的技术方案为：一种陶瓷釉下影像工艺，其特征在于工艺步骤如下：a、制作石膏影像印章，将影像图案雕于石膏表面制成印章；b、图案转印，用印章将图案转印到未干的陶瓷坯体上；c、上釉料，在图案周围的坯体上釉料，再在图案处均匀涂撒上等熔块粉末；d、烧制，将坯体放入窑炉按下面温度曲线烧制：升温第一阶段2小时，温度从室温匀速升温至400℃；升温第二阶段2小时，温度从400℃匀速升温至900℃；升温第三阶段1.5小时，温度从900℃匀速升温至1100℃；升温第四阶段2.5小时，温度从1100℃匀速升温至1310℃；保温阶段1至3小时，温度范围1310℃至1300℃；然后降温第一阶段2小时，温度匀速降至1100℃；降温第二阶段2.5小时，温度匀速降至900℃；降温第三阶段2.5小时，温度匀速降至500℃；降温第四阶段3小时，温度匀速降至室温；出炉烧成。<br>进一步的，所述工艺步骤c中图案处在均匀涂撒上等熔块粉末之前上一次与图案周围的坯体同样的釉料。本专利技术通过单独在浮雕影像处施以上等熔块粉末，烧制后的陶瓷釉下影像处表面光洁顺滑，图案晶莹剔透，不仅表面浮雕般的立体效果，而且透光观看显影美观大方，满足美观需求，还提高了实用性，使瓷面更易于清洗，不能淤积污垢。具体实施方式本专利技术陶瓷釉下影像工艺，具体工艺步骤如下：首先将构思图案通过阴雕和阳雕手法雕刻于石膏表面，将影像图案转于石膏表面制成印章；再制作陶瓷坯体，用印章将图案转印到未干的陶瓷坯体上，在陶瓷坯体上形成立体雕刻图像；然后先在图案周围的坯体上釉料，再在图案处均匀涂撒上等熔块粉末，上等熔块粉末用量可以根据图案凹陷体量来调节，凹陷体量大可以多撒一些，凹陷体量小就可以相对少撒一些；最后将坯体放入窑炉按下面温度曲线烧制：升温第一阶段2小时，温度从室温匀速升温至400℃；升温第二阶段2小时，温度从400℃匀速升温至900℃；升温第三阶段1.5小时，温度从900℃匀速升温至1100℃；升温第四阶段2.5小时，温度从1100℃匀速升温至1310℃；保温阶段1至3小时，温度范围1310℃至1300℃；然后降温第一阶段2小时，温度匀速降至1100℃；降温第二阶段2.5小时，温度匀速降至900℃；降温第三阶段2.5小时，温度匀速降至500℃；降温第四阶段3小时，温度匀速降至室温；出炉烧成。本专利技术通过单独在浮雕影像处施以上等熔块粉末，烧制后的陶瓷釉下影像处表面光滑，图案晶莹剔透，表面观看浮雕般的立体效果，透光观看显影美观大方，不仅满足美观需求，而且提高了实用性，使瓷面更易于清洗，不能淤积污垢。石膏影像印章上雕刻造型的起伏深度要按陶瓷按透光量计算，透光显影图案需要灰度高的地方就坯体厚一点，透光显影图案需要灰度底的地方就坯体薄一点，透光显影图案就是靠坯体薄厚不同在光照射下光线透过不同造成的不同灰度组成的图案。本专利技术实施时图案处也可在均匀涂撒上等熔块粉末之前上一次与图案周围的坯体同样的釉料，适用于填充体量较大的。综上所述仅为本专利技术较佳实施例，凡依本申请所做的等效修饰和现有技术添加均视为本专利技术技术范畴。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种陶瓷釉下影像工艺，其特征在于工艺步骤如下：a、制作石膏影像印章，将影像图案雕于石膏表面制成印章；b、图案转印，用印章将图案转印到未干的陶瓷坯体上；c、上釉料，在图案周围的坯体上釉料，再在图案处均匀涂撒上等熔块粉末；d、烧制，将坯体放入窑炉按下面温度曲线烧制：升温第一阶段2小时，温度从室温匀速升温至400℃；升温第二阶段2小时，温度从400℃匀速升温至900℃；升温第三阶段1.5小时，温度从900℃匀速升温至1100℃；升温第四阶段2.5小时，温度从1100℃匀速升温至1310℃；保温阶段1至3小时，温度范围1310℃至1300℃；然后降温第一阶段2小时，温度匀速降至1100℃；降温第二阶段2.5小时，温度匀速降至900℃；降温第三阶段2.5小时，温度匀速降至500℃；降温第四阶段3小时，温度匀速降至室温；出炉烧成。

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷釉下影像工艺，其特征在于工艺步骤如下：
a、制作石膏影像印章，将影像图案雕于石膏表面制成印章；
b、图案转印，用印章将图案转印到未干的陶瓷坯体上；
c、上釉料，在图案周围的坯体上釉料，再在图案处均匀涂撒上等熔块粉末；
d、烧制，将坯体放入窑炉按下面温度曲线烧制：升温第一阶段2小时，温度从室温匀速升温至400℃；升温第二阶段2小时，温度从400℃匀速升温至900℃；升温第三阶段1.5小时，温度从900℃匀速升温至1100℃...

【专利技术属性】
技术研发人员：林金东，
申请(专利权)人：林金东，
类型：发明
国别省市：福建;35