The present invention relates to a method for semi permanent straightening and post treatment of hair, and a composition set used in the method. In the method of the present invention, a hair straightening process is first carried out by means of a straightening composition comprising at least one carboxylic acid and / or hydrate thereof and / or a salt thereof (I):R-CO-COOH as defined below. Then, the following definition will contain the type (I):R-CO-COOH carboxylic acid and / or its hydrate and / or salt special cleaning compositions and / or special care compositions as straightened care products, in order to improve the straightening effect of persistence.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于头发半永久性拉直以及头发拉直后处理的方法,并且涉及用于该方法中的组合物套装。
技术介绍
已知用于将卷发或卷曲头发拉直的方法包括使用直发器(straighteningiron)。烙铁的高温导致头发角蛋白中氢键的断裂,达到了暂时的拉直。通过水分(moisture)的作用氢键再次形成,因此由于空气湿度头发随着时间恢复到原来的形状,并且在洗发后拉直的效果消失。头发的形状在很大程度上由连接头发角蛋白的两个半胱氨酸部分的二硫键决定。为实现头发更永久的定型,已知方法包括通过包含硫醚基或硫代基的还原剂作用而使得二硫键的裂解(cleavage)。在使头发成为所期望的形状之后,通过使用氧化剂例如过氧化氢形成新的二硫键,因此将头发的形状固定。但是,该试剂的使用可能对头发造成损伤。作为这种头发定型处理的实例,参考GB1416564,其记载了包含巯基乙酸酯(盐)或巯基乳酸酯(盐)作为还原剂的还原组合物以及包含过氧化氢作为氧化剂的固定组合物。还原组合物还可以包含乙醛酸的盐作为缓冲剂。作为上述两步还原氧化方法的替代方法,可以通过pH为约11或更高的碱性试剂例如氢氧化钠的作用来使二硫桥键裂解。在这些条件下,二硫化物(或胱氨酸)部分可以在除去硫的情况下进行歧化反应,并裂解成α-β-不饱和脱氢丙氨酸部分和半胱氨酸部分。在头发变成所期望的形态后,脱氢丙氨酸部分和半胱氨酸部分形成硫醚键并结合成羊毛硫氨酸,从而使头发的拉直状 ...
【技术保护点】
一种用于头发半永久性拉直以及拉直后处理的方法,其中,包括按以下顺序实施的以下步骤:(a)向头发上应用拉直组合物;(b)将组合物留在头发上1~120分钟;(c)任选地冲洗头发;(d)将头发干燥;(e)用具有130~250℃的表面温度的烙铁对头发进行处理;(f)任选地冲洗和/或用洗发水洗头发并且干燥;(g)用清洁组合物和护理组合物中的一种或两种对头发进行处理,其中,所述拉直组合物具有4或更低的pH值,并且包含至少一种式(I)的羧酸和/或其水合物和/或其盐;所述清洁组合物具有4或更低的pH值,并且包含一种或多种选自阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂和两性表面活性剂中的表面活性剂以及至少一种式(I)的羧酸和/或其水合物和/或其盐;并且所述护理组合物具有4或更低的pH值,并且包含一种或多种护理成分以及至少一种式(I)的羧酸和/或其水合物和/或其盐:R‑CO‑COOH 式(I)其中,R选自氢、COOH、CN、任选取代的C1‑C10烷基、任选取代的C2‑C10烯基、任选取代的C2‑C10炔基、任选取代的C3‑C10环烷基、任选取代的C6‑C10芳基或者5‑10元任选取代的杂芳基,其中烷基的任选 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于头发半永久性拉直以及拉直后处理的方法,其中,
包括按以下顺序实施的以下步骤:
(a)向头发上应用拉直组合物;
(b)将组合物留在头发上1~120分钟;
(c)任选地冲洗头发;
(d)将头发干燥;
(e)用具有130~250℃的表面温度的烙铁对头发进行处理;
(f)任选地冲洗和/或用洗发水洗头发并且干燥;
(g)用清洁组合物和护理组合物中的一种或两种对头发进行处理,其中,
所述拉直组合物具有4或更低的pH值,并且包含至少一种式(I)的羧酸和/或其水合物
和/或其盐;
所述清洁组合物具有4或更低的pH值,并且包含一种或多种选自阴离子表面活性剂、非
离子表面活性剂和两性表面活性剂中的表面活性剂以及至少一种式(I)的羧酸和/或其水
合物和/或其盐;并且
所述护理组合物具有4或更低的pH值,并且包含一种或多种护理成分以及至少一种式
(I)的羧酸和/或其水合物和/或其盐:
R-CO-COOH式(I)
其中,R选自氢、COOH、CN、任选取代的C1-C10烷基、任选取代的C2-C10烯基、任选取代的C2-
C10炔基、任选取代的C3-C10环烷基、任选取代的C6-C10芳基或者5-10元任选取代的杂芳基,其
中烷基的任选取代基选自卤素、羟基、氨基和C1-C4烷氧基,以及其它基团的任选取代基选自
卤素、羟基、氨基、C1-C4烷基和C1-C4烷氧基。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,
所述拉直组合物、所述清洁组合物和/或所述护理组合物中的式(I)的羧酸为乙醛酸
和/或其水合物和/或其盐。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,
所述拉直组合物包含至少一种式(I)的羧酸和/或其水合物和/或其盐,基于组合物的
总重量,其浓度范围在0.1~40wt%,优选0.5~30wt%,更优选1~25wt%,更优选2.5~
20wt%。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的方法,其中,
所述拉直组合物具有1~3、优选1~2.5的pH值。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的方法,其中,
所述拉直组合物包含小于2wt%的硫系还原剂,优选不含有硫系还原剂。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的方法,其中,
所述清洁组合物和/护理组合物包含至少一种式(I)的羧酸和/或其水合物和/或其盐,
基于清洁组合物和护理组合物的重量,其浓度范围在0.1~5wt%,优选0.2~4wt%。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的方法,其中,
所述清洁组合物具有1.5~4.0、优选2~3.5的pH值,和/或所述护理组合物具有1.5~
4.0、优选2~3.5的pH值。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的方法,其中,
所述清洁组合物包含一种或多种阴离子表面活性剂、一种或多种非离子表面活性剂和
任选地一种或多种两性表面活性剂。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的方法,其中,
所述清洁组合物包含一种或多种烷基硫酸盐或醚硫酸盐型的阴离子表面活性剂。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的方法,其中,
所述清洁组合物包含一种或多种选自以下通式的烷基聚葡糖苷的非离子表面活性剂:
R2-O-(R3O)n-ZX其中,R2为具有8~18个碳原子的烷基,R3为乙烯基或丙烯基,Z为具有5~6个碳原子的
糖基,n为0~10的数,并且x为1~5之间的数。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的方法,其中,
所述清洁组合物包含一种或多种选自烷基甜菜碱和烷基酰胺甜菜碱的两性表面活性
剂。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的方法,其中,
基于所述清洁组合物的重量,所述清洁组合物具有的总表面活性剂浓度为5~50wt%、
优选7.5~30wt%、更优选10~25wt%。
13.根据权利要求1~12中任一项所述的方法,其中,
所述清洁组合物进一步包含一种或多种护理成分。
14.根据权利要求13所述的方法,其中,
所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:B·罗泽,M·格里特,
申请(专利权)人:花王株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。