一种吸盘浸釉机制造技术

本发明专利技术涉及日用陶瓷品生产设备领域，尤其涉及一种吸盘浸釉机。一种吸盘浸釉机，包括底座，以及设置在底座上的翻转轴，以及设置在翻转轴上的浸釉总成；所述浸釉总成包括轴向定位在翻转轴上的真空管，以及设置在真空管外侧的釉浆管，以及设置在釉浆管顶端的吸盘，以及驱动真空管转动的自转驱动机构；所述真空管的上端管口与吸盘上端面相通，釉浆管与真空管之间构成釉浆腔，釉浆腔的上端腔口与吸盘上端面相通。该吸盘浸釉机结构简单，通过真空平稳吸附待加工陶瓷，对待加工陶瓷进行旋转浸釉，可快速、高效上釉，可靠性高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及日用陶瓷品生产设备领域，尤其涉及一种吸盘浸釉机。
技术介绍
在传统的日用陶瓷生产中，各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因，施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉，手工浸釉生产效率低，同时由于在施釉过程中手指接触坯体，使坯体在施釉后留下手指印，影响坯体的施釉质量。另外，由于釉水中加有多种化工材料，这些化工材料对人体有腐蚀作用，长期手工浸釉对人体有危害。为了提高生产效率，提高产品质量，改善工人生产环境，降低成本等，技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。专利文献公开号:CN202373397U公开了一种“盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置”，该装置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置，以及电气控制柜。该装置通过将瓷泥坯件头部的倒置安放在旋转平台工位上并借助电气控制旋转360°，进程中经二次延时停顿过程，以实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面的上釉工序。上述上釉装置结构复杂、成本高，只能实现对坯件某一局部的上釉而已，无法满足日常生产需求。
技术实现思路
为了解决上述问题，本专利技术的目的在于提供一种吸盘浸釉机，该吸盘浸釉机结构简单，通过真空平稳吸附待加工陶瓷，对待加工陶瓷进行旋转浸釉，可快速、高效上釉，可靠性尚°为了实现上述的目的，本专利技术采用了以下的技术方案: 一种吸盘浸釉机，包括底座，以及设置在底座上的翻转轴，以及设置在翻转轴上的浸釉总成;所述浸釉总成包括轴向定位在翻转轴上的真空管，以及设置在真空管外侧的釉浆管，以及设置在釉浆管顶端的吸盘，以及驱动真空管转动的自转驱动机构;所述真空管的上端管口与吸盘上端面相通，釉浆管与真空管之间构成釉浆腔，釉浆腔的上端腔口与吸盘上端面相通。作为优选，所述吸盘呈中部下凹的环体结构，吸盘的环体中心通孔与真空管的上端管口相通，吸盘环体上设有贯穿吸盘上下两端面的渗釉孔，釉浆腔通过渗釉孔与吸盘上端面相通。在吸盘中部下凹的环体结构下，真空管与吸盘的环体中心通孔相通，真空吸力由环体周边至环体中部逐渐增大，能促进待加工陶瓷表面与吸盘贴合，有利于对待加工陶瓷的吸附定位。作为优选，所述翻转轴上平行设置有三组浸釉总成，自转驱动机构与中部浸釉总成的真空管驱动连接，中部浸釉总成上的真空管与两侧浸釉总成上的真空管通过皮带传输相连接。设置三组浸釉总成并通过同一自转驱动机构驱动，一方面有利于提升浸釉效率，可对三件陶瓷同时进行上釉工艺；另一方面可保证同一批次的三件陶瓷浸釉时间，旋转方向和速度一致，从而可选择最优工艺参数同时操作。作为优选，所述真空管通过轴承定位在翻转轴上。作为优选，所述自转驱动机构包括自转电机，以及与自转电机输出轴相连接的变速箱；自转电机通过变速箱驱动真空管。作为优选，所述翻转轴的两端部通过轴承定位在底座上，两侧轴承之间的翻转轴为矩形柱状体，真空管通过轴承定位在翻转轴的矩形柱状部上。作为优选，所述底座上还设有公转驱动机构，公转驱动机构包括公转电机，以及与公转电机输出轴相连接的减速箱;公转电机通过减速箱驱动连接翻转轴。本专利技术采用上述技术方案，该吸盘浸釉机可用于固定程序抓取、搬运物件或操作工具的自动操作，从而代替人的繁重劳动以实现生产的机械化和自动化，能在有害环境下操作以保护人身安全;其具有结构简单，通过真空平稳吸附待加工陶瓷，对待加工陶瓷进行旋转浸釉，可快速、高效上釉，可靠性高的优势。安装时，将该吸盘浸釉机固定陶瓷制品施釉工艺生产线旁边，在该设备旁施一釉池;使用前，需往釉浆管的釉浆腔内注入适量釉浆;使用时，将坯体定位放置在吸盘上，将真空管外接真空发生装置，真空管产生的负压吸力将坯体吸附在吸盘上;然后，控制翻转轴及其上的浸釉总成转动一定角度，直到将坯体三分之二浸到釉池中，自转驱动机构驱动坯体旋转均匀粘上釉浆后，控制翻转轴及其上的浸釉总成反向复位，此时坯体继续旋转，直至浸釉总成复位至竖直位置。在浸釉总成倾斜的过程中，釉浆腔内的釉浆也渗透至吸盘表面，通过旋转在坯体底部即坯体吸附部上均匀地涂上釉浆。当上釉完成后，坯体停止选择，外接真空发生装置停止工作，负压解除，工人可将施釉的坯体从吸盘上轻易取下，非常方便。【附图说明】图1为本专利技术的结构示意图。【具体实施方式】下面结合附图，对本专利技术的优选实施方案作进一步详细的说明。如图1所示的一种吸盘浸釉机，包括底座1，以及设置在底座1上的翻转轴2，以及驱动翻转轴2转动的公转驱动机构，以及设置在翻转轴2上的三组浸釉总成。所述公转驱动机构包括公转电机31，以及与公转电机31输出轴相连接的减速箱32;自转电机通过减速箱32驱动连接翻转轴2。翻转轴2的两端部通过轴承定位在底座1上，两侧轴承之间的翻转轴2为矩形柱状体，三组浸釉总成均通过轴承定位在翻转轴2的矩形柱状部2a上。所述三组浸釉总成相互平行设置，浸釉总成包括通过轴承轴向定位在翻转轴2上的真空管41，以及设置在真空管41外侧的釉浆管42，以及设置在釉浆管42顶端的吸盘43，以及驱动真空管41转动的自转驱动机构。所述真空管41的上端管口与吸盘43上端面相通，釉浆管42与真空管41之间构成釉浆腔，釉浆腔的上端腔口与吸盘43上端面相通。具体是:所述吸盘43呈中部下凹的环体结构，吸盘43的环体中心通孔与真空管41的上端管口相通，吸盘43环体上设有贯穿吸盘43上下两端面的渗釉孔，釉浆腔通过渗釉孔与吸盘43上端面相通。在吸盘43中部下凹的环体结构下，真空管41与吸盘43的环体中心通孔相通，真空吸力由环体周边至环体中部逐渐增大，能促进待加工陶瓷表面与吸盘43贴合，有利于对待加工陶瓷的吸附定位。所述自转驱动机构包括自转电机51，以及与自转电机51输出轴相连接的变速箱52;自转电机51通过变速箱52驱动真空管41。自转驱动机构与中部浸釉总成的真空管41驱动连接，中部浸釉总成上的真空管41与两侧浸釉总成上的真空管41通过皮带传输相连接。该结构设置三组浸釉总成并通过同一自转驱动机构驱动，一方面有利于提升浸釉效率，可对三件陶瓷同时进行上釉工艺；另一方面可保证同一批次的三件陶瓷浸釉时间，旋转方向和速度一致，从而可选择最优工艺参数同时操作。该吸盘43浸釉机可用于固定程序抓取、搬运物件或操作工具的自动操作，从而代替人的繁重劳动以实现生产的机械化和自动化，能在有害环境下操作以保护人身安全;其具有结构简单，通过真空平稳吸附待加工陶瓷，对待加工陶瓷进行旋转浸釉，可快速、高效上釉，可靠性高的优势。安装时，将该吸盘43浸釉机固定陶瓷制品施釉工艺生产线旁边，在该设备旁施一釉池;使用前，需往釉浆管42的釉浆腔内注入适量釉浆;使用时，将坯体定位放置在吸盘43上，将真空管41外接真空发生装置，真空管41产生的负压吸力将坯体吸附在吸盘43上;然后，控制翻转轴2及其上的浸釉总成转动一定角度，直到将坯体三分之二浸到釉池中，自转驱动机构驱动坯体旋转均匀粘上釉浆后，控制翻转轴2及其上的浸釉总成反向复位，此时坯体继续旋转，直至浸釉总成复位至竖直位置。在浸釉总成倾斜的过程中，釉浆腔内的釉浆也渗透至吸盘43表面，通过旋转在坯体底部即坯体吸附部上均匀地涂上釉浆。当上釉完成后，坯体停止选择，外接真空发生装置停止工作，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种吸盘浸釉机，其特征在于：包括底座，以及设置在底座上的翻转轴，以及设置在翻转轴上的浸釉总成；所述浸釉总成包括轴向定位在翻转轴上的真空管，以及设置在真空管外侧的釉浆管，以及设置在釉浆管顶端的吸盘，以及驱动真空管转动的自转驱动机构；所述真空管的上端管口与吸盘上端面相通，釉浆管与真空管之间构成釉浆腔，釉浆腔的上端腔口与吸盘上端面相通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：胡笑奇，张蕊华，林云峰，张奇，叶晓平，
申请(专利权)人：丽水学院，
类型：发明
国别省市：浙江;33