一种负离子内墙砖制造技术

技术编号:13170062 阅读:37 留言:0更新日期:2016-05-10 14:08
一种负离子内墙砖,属于内墙砖技术领域。一种负离子内墙砖,其特征在于:包括坯体、化妆土层、负离子面釉层,所述的化妆土层的釉浆重量份组成为:化妆土成釉100份、纤维素0.8~1.1份、水分保持剂 0.33~0.35份、水33~37份,所述负离子面釉层的釉浆重量份组成为:面釉熔块95份、高岭土5~5.5份、纤维素0.18~0.22份、三聚磷酸钠 0.28~0.32份、负氧离子材料4~7份。本发明专利技术通过化妆涂层的成分调节,阻断负离子进入坯体的通道,成功的在密度小、气孔率高的墙面装上实现了负离子的高效释放。

【技术实现步骤摘要】

-种负离子内墙砖,属于内墙砖

技术介绍
内墙砖是一种重要的建筑装饰装修材料,由于多是用于竖直贴附环境。所以要求 内墙砖具有更小的比重和膨胀比。现有技术将锂电气石、镁电气石材料与纳米TiO 2用作负 离子发生剂,制成具有负离子释放功能的纳米复合负离子粉体,引入到陶瓷砖中,并与陶瓷 基体良好结合起来,从而获得具有释放负离子能力的陶瓷釉面砖。但是在负离子材料应用 于内墙砖时存在以下问题。内墙砖由于比重小,还体的气孔率更高,在外部釉层或全抛层气 孔率相对更小的情况下,有相当一部分负离子会进入坯体而浪费,降低负离子的有效释放 量,缩短负离子材料的有效激发时间。
技术实现思路
克服现有技术的不足,提供了一种负离子产生速率快、利用率高的负离子内墙砖。 本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:该负离子内墙砖,其特征在于:包括 坯体、化妆土层、负离子面釉层,所述的化妆土层的釉浆重量份组成为:化妆土成釉100份、 纤维素0.8~1.1份、水分保持剂0.33~0.35份、水33~37份,所述负离子面釉层的釉浆重量份 组成为:面釉熔块95份、高岭土5~5.5份、纤维素0.18~0.22份、三聚磷酸钠0.28~0.32份、负 氧呙子材料4~7份。 本专利技术通过改变化妆土层和负离子面釉层的组成,调节两个釉层的气孔率、气孔 大小和吸水能力,通过气孔率、气孔大小配合使得负离子能够充分释放。最主要的,本专利技术 在传统常用的化妆土成油和面釉熔块的基础上添加调节成份,调控釉层达到特定的吸潮能 力,能够一定的吸附所在空间的水分供负氧离子材料激发为负氧离子,提高负氧离子材料 的有效利用率,同时吸湿能力配合气孔率、气孔大小达到一种既有充足水分被激发为负离 子,又不会在釉面形成细密水珠。大大提高负氧离子单位时间的释放速率的同时,保持釉面 清爽。 本专利技术选择使用面釉熔块与调节成份配合,而不是直接将调节成份加入的面釉的 原料组成中,主要是为了调节在烧结的时候由于烧失量产生的釉料膨胀系数和针孔,以达 到上述气孔率、气孔大小。同时防止原料溶于水或带有碱性,保证釉浆性能。并尽量把二氧 化碳等提前排出从而不影响釉面平整度。提前制成熔块后还容易控制研磨时间和细度,更 易于控制釉浆性能。 优选的,所述的化妆土层的釉浆重量份组成为:化妆土成釉100份、纤维素1.0份、 水分保持剂0.35份、水35份,所述负离子面釉层的釉浆重量份组成为:面釉熔块95份、高岭 土5份、纤维素 0.2份、三聚磷酸钠0.3份、负氧离子材料5份,水分保持剂为三聚磷酸钠。本 优选配方形成釉面的微型结构达到最佳的配合效果,尤其适合中国北方干燥地区,空气中 的水分不足的环境。 优选的,所述的化妆土成釉的原料的成份质量百分比为SiO2 55.4%~56%,Al2〇3 4% ~5%,Ca0 23%~24%,Mg0 2%~3%,L0I (烧失量)5%~6%,Ti〇2 8.0%~8.6%。化妆土层的基本作用 是将面釉层和坯体层隔离,减少水分渗透,同时形成底色并保持釉面凭证。本化妆土成釉的 组成能够与本专利技术化妆土层的调节成份达到最佳的配合效果,使本专利技术水分吸附和面釉层 的负离子激发达到最佳配合。同时本化妆土成釉的组成能够更好的阻断负氧离子移动到坯 体中形成的浪费。 优选的,所述的面釉熔块的原料的成份质量百分比为SiO2 56.45%~58.87%,Al2〇3 8%~9%,K20 5%~6%,Na20 0.2%~0.7%,Fe2〇3 0.05%~0.13%,Ca0 12%~13%,Mg0 0.3%~0.4%,Ba0 3%~4%,ZnO 7.0%~7.4%,B 4%~4.5%。本面釉熔块的组成能够与面釉层的调节成份达到最佳 的配合效果,使本专利技术水分吸附和负离子激发达到最佳配合,同时烧成釉面的气孔率既保 证水分的进入和负氧离子的释放,又能大大减少灰尘的挂附。优选的,所述的纤维素为羧甲基纤维素和羟丙基甲基纤维素按质量比20:1.5~3.5 的混合物。纤维素的搭配使用是本专利技术调节釉层吸水率的重要手段,在本优选条件下,吸水 率和释放速率达到稳定的平衡状态,保持负离子的较高释放速率。本专利技术中也可以单独使 用羧甲基纤维素。优选的,所述坯体的原料重量份组成为:透辉石40份,莱阳土30份,焦宝石20份、滑 石3份、黏土7份、水60份、助磨剂1份。坯体的成份主要是调节坯体的密度,减轻内墙砖的自 量,便于内墙砖的使用。 优选的,所述的负氧离子材料为硅藻土、氧化钛、奇冰石按质量比5 :1~1.2 :1.3~ 1.4的混合物。本专利技术提供的负氧离子材料能够配合釉面的吸水速率,更快速的激发负离 子,充分保证釉面的清爽干洁。 优选的,所述的还体厚度为6 mm~8_,所述的化妆土层的厚度为2 mm~4_,所述 的负离子面釉层厚度为2mm~4mm。 本专利技术实施例提供的一种负离子生态陶瓷砖,通过将耐高温稀土复合材料粉体与 其他釉料进行合理地调配,提供了一种绿色安全的,并能高效释放负离子的负离子内墙砖, 其负离子释放速率达370个/s · cm2~500个/s · cm2,主要解决了现有技术负离子释放速率低 的问题。所用原料廉价易得,能大大提高负离子的释放速率。 本专利技术的制备方法可使用传统内墙砖的烧制工艺,简单易行,适合大规模工业化 应用。 与现有技术相比,本专利技术的一种负离子内墙砖具有如下优点或有益效果:本专利技术 通过化妆涂层的成分调节,阻断负离子进入坯体的通道,成功的在密度小、气孔率高的墙面 装上实现了负离子的高效释放。通过改变化妆土层和负离子面釉层的组成,调节两个釉层 的气孔率、气孔大小和吸水能力,通过气孔率、气孔大小配合使得负离子能够充分释放。最 主要的,本专利技术在传统常用的化妆土成油和面釉熔块的基础上添加调节成份,调控釉层达 到特定的吸潮能力,能够一定的吸附所在空间的水分供负氧离子材料激发为负氧离子,提 高负氧离子材料的有效利用率,同时吸湿能力配合气孔率、气孔大小达到一种既有充足水 分被激发为负离子,又不会在釉面形成细密水珠。大大提高负氧离子单位时间的释放速率 的同时,保持釉面清爽干洁。【具体实施方式】 下面通过具体实施例对本专利技术做进一步说明,其中实施例1为最佳实施例。 实施例1 对坯体按原料重量份组成:透辉石40份,莱阳土 30份,焦宝石20份、滑石3份、黏土 7份、 水60份、助磨剂1份配料后,进行球磨;经陈腐后压制成型,按下表升温曲线进行干燥素烧:还体厚度为7mm; 化妆土层的釉浆按重量份组成:化妆土成釉100份、纤维素0.9份、三聚磷酸钠0.34份、 水35份配料后,进行球磨,陈腐;负离子面釉层的釉浆按重量份组成:面釉熔块95份、高岭土 5份、纤维素 0.2份、三聚磷酸钠0.3份、负氧离子材料5份配料后,进行球磨,陈腐;化妆土成 釉的原料的成份质量百分比为Si〇2 55.46%,Al2〇3 4.62%,CaO 23.86%,Mg0 2.76%,L0I 5.3%,Ti〇2 8.0%;面釉熔块的原料的成份质量百分比为Si〇2 58.64%,Al2〇3 8.03%,K2〇 5.2%, Na2O 0.5%,Fe2〇3〇.l%,CaO 12.5%,Mg0 0.33%,Ba0 3·5%,Ζη0 7·0%,Β 4本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种负离子内墙砖,其特征在于:包括坯体、化妆土层、负离子面釉层,所述的化妆土层的釉浆重量份组成为:化妆土成釉100份、纤维素0.8~1.1份、水分保持剂 0.33~0.35份、水33~37份,所述负离子面釉层的釉浆重量份组成为:面釉熔块95份、高岭土5~5.5份、纤维素0.18~0.22份、三聚磷酸钠 0.28~0.32份、负氧离子材料4~7份。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:侯晓涛马胜昔刘智永
申请(专利权)人:淄博名佳陶瓷有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

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