双面驱动的双压轴晶面抛光机制造技术

双面驱动的双压轴晶面抛光机，在其机座的中心安装有抛光盘转轴，抛光盘转轴的上端固定安装抛光盘，在机座的上方安装有上支架，上支架上安装有固定压片装置，固定压片装置的升降气缸的下端安装晶片固定压盘，固定压盘上开有晶片固定孔，在固定压片装置的升降气缸的升降杆顶端安装有转动连接器，转动连接器下端安装转动杆，转动杆的端头与晶片固定压盘连接，在转动杆的中部安装有被动齿轮，在上支架上安装有副电机，副电机的转轴上安装有长齿轮，长齿轮与被动齿轮啮合。由于在固定压盘带动其下的晶片在抛光盘上再次转动，晶片的位置不断从抛光盘的中心转动到其边沿，相对运动速度加快，各晶片的表面与抛光盘的接触较均匀，晶片抛光完成的时间较短。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于晶片表面抛光设备
，涉及一种双面驱动的双压轴晶面抛光机。
技术介绍
现有技术中，人造蓝宝石晶片在加工过程中，晶片的两个表面在进行精磨后，还需要对两个表面进行抛光，现有的晶面抛光机为单面的抛光机，其机座的中心安装有抛光盘转轴，抛光盘转轴的下端通过传动齿轮连接主电机，抛光盘转轴的上端固定安装抛光盘，抛光盘的外围安装有抛光液的接盘，在机座的上方安装有上支架，上支架上安装有固定压片装置，固定压片装置的升降气缸的下端安装晶片固定压盘，固定压盘上开有晶片固定孔，抛光盘的上方安装抛光液加入管。这种晶面抛光机，晶片固定在固定压盘的晶片固定孔中，用气缸压在抛光盘表面，依靠抛光盘的转动，对晶片进行抛光，由于晶面抛光机的固定压盘不会转动，在抛光时，固定压盘下距离抛光盘中心点较远的晶片固定孔中的晶片，抛光完成的速度快，距中心点近的晶片抛光完成的速度慢，抛光完成的时间需要以抛光慢的晶片完成抛光的时间来确定，设备的生产效率大大降低，并且在固定压盘下，各个点上晶片的抛光质量差异较大。
技术实现思路
为解决现有技术中晶面抛光机对晶片进行抛光时，固定压盘下，各个点上晶片的抛光质量差异较大，设备的生产效率较低的问题，本技术提供一种双面驱动的双压轴晶面抛光机，解决现有技术中存在的问题。实现本技术目的的技术方案是:一种双面驱动的双压轴晶面抛光机，在其机座的中心安装有抛光盘转轴，抛光盘转轴的下端通过传动齿轮连接主电机，抛光盘转轴的上端固定安装抛光盘，抛光盘的外围安装有抛光液的接盘，在机座的上方安装有上支架，上支架上安装有固定压片装置，固定压片装置的升降气缸的下端安装晶片固定压盘，晶片固定压盘上开有晶片固定孔，抛光盘的上方安装抛光液加入管，在固定压片装置的升降气缸的升降杆顶端安装有转动连接器，转动连接器下端安装转动杆，转动杆的端头与晶片固定压盘连接，在转动杆的中部安装有被动齿轮，在上支架上安装有副电机，副电机的转轴上安装有长齿轮，长齿轮与被动齿轮啮合，在上支架上的固定压片装置安装有两套，两套的结构相同。采用本技术方案，在晶片固定压盘的连接杆上安装被动齿轮，用副电机带动被动齿轮转动，被动齿轮带动固定压盘转动;在抛光盘转动抛光时，固定压盘带动其下的晶片在抛光盘上再次转动，晶片的位置不断从抛光盘的中心转动到其边沿，相对运动速度加快，各晶片的表面与抛光盘的接触较均匀，晶片抛光完成的时间较统一。因此，用本设备抛光的晶片抛光质量一致性好，所用的抛光时间大大缩短。为增加晶片抛光的一致性，可将固定压盘设计在抛光盘的两侧，避免抛光盘与固定压盘中心相对，出现中心和边沿位置的晶片抛光速度和质量不一致的问题。【附图说明】图1为本技术的剖面结构示意图。图2为图1中A—A向，晶片固定压盘在抛光盘上的结构示意图。【具体实施方式】实施例:如图1和图2所示，一种双面驱动的双压轴晶面抛光机，在其机座3的中心安装有抛光盘转轴2，抛光盘转轴2的下端通过传动齿轮连接主电机1，抛光盘转轴2的上端固定安装抛光盘4，抛光盘4的外围安装有抛光液的接盘7，在机座3的上方安装有上支架8，上支架8上安装有固定压片装置，固定压片装置的升降气缸15的下端安装晶片固定压盘6，晶片固定压盘6上开有晶片固定孔5，抛光盘4的上方安装抛光液加入管14，其特征在于:在固定压片装置的升降气缸15的升降杆顶端安装有转动连接器13，转动连接器13下端安装转动杆11，转动杆11的端头与晶片固定压盘6连接，在转动杆11的中部安装有被动齿轮10，在上支架8上安装有副电机12，副电机12的转轴上安装有长齿轮9，长齿轮9与被动齿轮10啮合，在上支架8上的固定压片装置安装有两套，两套的结构相同。【主权项】1.双面驱动的双压轴晶面抛光机，在其机座(3)的中心安装有抛光盘转轴(2)，抛光盘转轴(2)的下端通过传动齿轮连接主电机(1)，抛光盘转轴(2)的上端固定安装抛光盘(4)，抛光盘(4)的外围安装有抛光液的接盘(7)，在机座(3)的上方安装有上支架(8)，上支架(8)上安装有固定压片装置，固定压片装置的升降气缸(15)的下端安装晶片固定压盘(6)，晶片固定压盘(6)上开有晶片固定孔(5)，抛光盘(4)的上方安装抛光液加入管(14)，其特征在于:在固定压片装置的升降气缸(15)的升降杆顶端安装有转动连接器(13)，转动连接器(13 )下端安装转动杆(11)，转动杆(11)的端头与晶片固定压盘(6 )连接，在转动杆(11)的中部安装有被动齿轮(10)，在上支架(8)上安装有副电机(12)，副电机(12)的转轴上安装有长齿轮(9)，长齿轮(9)与被动齿轮(10)啮合，在上支架(8)上的固定压片装置安装有两套，两套的结构相同。【专利摘要】双面驱动的双压轴晶面抛光机，在其机座的中心安装有抛光盘转轴，抛光盘转轴的上端固定安装抛光盘，在机座的上方安装有上支架，上支架上安装有固定压片装置，固定压片装置的升降气缸的下端安装晶片固定压盘，固定压盘上开有晶片固定孔，在固定压片装置的升降气缸的升降杆顶端安装有转动连接器，转动连接器下端安装转动杆，转动杆的端头与晶片固定压盘连接，在转动杆的中部安装有被动齿轮，在上支架上安装有副电机，副电机的转轴上安装有长齿轮，长齿轮与被动齿轮啮合。由于在固定压盘带动其下的晶片在抛光盘上再次转动，晶片的位置不断从抛光盘的中心转动到其边沿，相对运动速度加快，各晶片的表面与抛光盘的接触较均匀，晶片抛光完成的时间较短。【IPC分类】B24B29/02, B24B47/12, B24B41/06【公开号】CN205129592【申请号】CN201520936473【专利技术人】吴康, 胡文宏 【申请人】云南蓝晶科技股份有限公司【公开日】2016年4月6日【申请日】2015年11月23日本文档来自技高网...

【技术保护点】
双面驱动的双压轴晶面抛光机，在其机座（3）的中心安装有抛光盘转轴（2），抛光盘转轴（2）的下端通过传动齿轮连接主电机（1），抛光盘转轴（2）的上端固定安装抛光盘（4），抛光盘（4）的外围安装有抛光液的接盘（7），在机座（3）的上方安装有上支架（8），上支架（8）上安装有固定压片装置，固定压片装置的升降气缸（15）的下端安装晶片固定压盘（6），晶片固定压盘（6）上开有晶片固定孔（5），抛光盘（4）的上方安装抛光液加入管（14），其特征在于：在固定压片装置的升降气缸（15）的升降杆顶端安装有转动连接器（13），转动连接器（13）下端安装转动杆（11），转动杆（11）的端头与晶片固定压盘（6）连接，在转动杆（11）的中部安装有被动齿轮（10），在上支架（8）上安装有副电机（12），副电机（12）的转轴上安装有长齿轮（9），长齿轮（9）与被动齿轮（10）啮合，在上支架（8）上的固定压片装置安装有两套，两套的结构相同。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴康，胡文宏，
申请(专利权)人：云南蓝晶科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：云南;53