用于胶印的移印版及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种用于胶印的移印版及其制备方法。根据本发明专利技术的示例性实施方式的用于胶印的移印版是包括沟槽图案的用于胶印的移印版，并且，所述沟槽图案包括由沟槽线形成的网状图案，所述网状图案包括通过接触或穿过所述沟槽线中的许多线形成的交叉部分，以及所述交叉部分的最大线宽和所述交叉部分的蚀刻深度的比小于25。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请要求享有于2014年9月29日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2014-0130602号的优先权和权益，其全部内容在此通过引用并入本文。
本专利技术涉及用于胶印的移印版及其制备方法。
技术介绍
在平板显示器(FPD)(如液晶显示器(LCD)或等离子显示面板(PDP))的制造中，需要形成各种类型的图案(如电极或黑底、彩色滤光器、隔断墙(partitionwall)、和薄膜晶体管)的工艺。作为形成图案的工艺，经常使用如下用于形成图案的方法：通过使用光敏抗蚀剂和光掩模得到通过曝光和显影可选择性移除的光敏抗蚀图案，并使用所述光敏抗蚀图案。光掩模工艺存在的问题在于：经常使用如光敏抗蚀剂或者显影溶液的材料，需要使用昂贵的光掩模，并且工艺步骤复杂或者增加处理时间。为解决上述问题，已经提出了直接印刷形成图案的材料的方法，而不使用光敏抗蚀剂，如通过喷墨印刷或激光转印的方法。作为这种方法之一，有胶印法，其中使用移印版将图案化的材料转印至橡皮布上，然后将该橡皮布的图案转印到基板(substrate)上。使用移印版的胶印法的优点在于，与使用光敏抗蚀剂的本领域的方法相比，材料消耗更少，工艺更加简单；而且与使用喷墨印刷或者激光转印方法相比，加工速度更快。但是，胶印法的缺点在于，具有不同图案的基板需要各自的移印版，而且通常由玻璃制成的移印版的制备工艺复杂且昂贵。在已知移印版(反向胶印和凹版胶印)的情况下，在图案化之后使用单蚀刻方法制备移印版是制备移印版的常规方法，并且在使用这种制备方法的情况下，存在的缺点在于，当实施宽图案时，由于印刷过程中的印刷压力和橡皮布的粗糙度而出现底部触碰的问题。因此，在本领域中，为了解决上述问题，主要已经进行用细线填充(hatching)与宽区域相应的线宽，或者干蚀刻工艺，但是，在这些情况下，同样地，在使用细线填充的情况下，存在所需的导电性损失的问题，而且在使用干蚀刻工艺的情况下，存在增加生产成本的问题。
技术实现思路
因此，已经做出本专利技术旨在努力提供一种用于胶印的移印版及其制备方法，当制备移印版时所述移印版能够解决当印刷具有不同线宽或节距的图案时由触碰底部产生的交叉部分上的印刷劣化的问题。本专利技术的一个示例性实施方式提供了包括沟槽图案的用于胶印的移印版，其中，所述沟槽图案包括由沟槽线形成的网状图案，所述网状图案包括通过接触或穿过沟槽线中的许多线形成的交叉部分，并且交叉部分的最大线宽和交叉部分的蚀刻深度的比小于25。本专利技术的另一示例性的实施方式提供了用于制备用于胶印的移印版的方法，其包括：在基板上形成掩膜图案；和通过利用掩膜图案蚀刻所述基板形成沟槽图案，其中，所述沟槽图案包括由沟槽线形成的网状图案，所述网状图案包括通过接触或穿过沟槽线中的许多线形成的交叉部分，并且交叉部分的最大线宽和交叉部分的蚀刻深度的比小于25。本专利技术的又一示例性实施方式提供了通过使用用于胶印的移印版印刷的印刷品。本专利技术的又一示例性实施方式提供了包括所述印刷品的触摸面板。根据本专利技术的又一示例性实施方式，可以防止在线之间或线和导电图案的表面之间的交叉部分可能出现的印刷缺陷现象。尤其是，根据本专利技术的示例性实施方式，交叉部分的最大线宽和交叉部分的蚀刻深度的比可以通过调节由交叉用于胶印的移印版的沟槽线中的许多线交叉形成的角度来控制，从而可以改善印刷边缘。附图说明图1为示意地表示用于胶印的移印版及在本领域中通过使用所述移印版制备导电图案的图；图2为示意地表示根据本专利技术的示例性实施方式的用于胶印的移印版的交叉部分的图。图3至8为示意地表示作为本专利技术的示例性实施方式的实施例1至4和对比实施例1和2的导电图案的图。图9为示意地表示根据本专利技术的示例性实施方式的用于胶印的移印版的图。图10至12为示意地表示根据本专利技术的示例性实施方式的用于胶印的移印版和通过使用该移印版制备的导电图案的图。具体实施方式以下，将详细描述本专利技术。通常，触摸屏使用基于ITO的导电层，但是，将ITO应用于大尺寸触摸屏时，存在的问题在于由于本身的自身-RC延迟所以它的识别速度低。为了解决上述问题，已经做出试图引入额外的补偿芯片，但是存在的问题在于成本增加。为了解决上述问题，在许多制造商中正在开发通过利用金属图案替代ITO导电层的技术。在通过使用金属图案制备触摸屏的情况下，触摸屏的屏幕单元(screenunit)和导线是以线和表面的结合的形式形成的，从而所述金属图案必须具有线之间或线和表面之间的交叉部分。在此情况下，在交叉部分上，所述金属图案具有预定角度，从而，由于重叠区(为交叉部分)的最长轴长度偏离可印刷范围，出现未印刷现象。因此，在本领域中，需要用于解决未印刷现象的解决方案。本专利技术提供用于胶印的移印版及其制备方法，该移印版能够防止可在交叉部分存在的印刷缺陷现象并改善印刷边缘。根据本专利技术的示例性实施方式的用于胶印的移印版是包括沟槽图案的用于胶印的移印版，并且所述沟槽图案包括由沟槽线形成的网状图案，所述网状图案包括通过接触或穿过沟槽线中的许多线形成的交叉部分，并且交叉部分的最大线宽和交叉部分的蚀刻深度的比小于25。用于形成导电图案的用于胶印的移印版和在本领域中由使用所述移印版制备的导电图案在下图1中示意地表示。根据下图1的结果，可见断路现象存在于由形成导电图案的金属线的重叠产生的交叉部分。本专利技术的专利技术人发现：交叉部分的断路现象是根据沟槽线的线宽和在形成导电图案时可以实施的用于胶印的移印版的沟槽线之间形成的正切角变化的值，并且尤其是，在两条直线或曲线形成预定角度并且彼此相交的情况下，其受交叉部分的最长轴的长度影响。在本专利技术的示例性实施方式中，交叉部分的最大线宽和交叉部分的蚀刻深度的比可以小于25，以及是20以下。在本专利技术的示例性实施方式中，交叉部分的形状可以是圆形，椭圆形或多边形，以及所述多边形可以是四边形、正方形、长方形、平行四边形、菱形等，但是本专利技术不局限于此。交叉部分的形状是平行四边形，以及交叉部分的最大线宽可以是平行四边形的长轴的长度。交叉部分的最大线宽可以由以下等式1表示，但是不局限于此。[等式1]x=c2(1+cosθ)]]>在等式1中，x是交叉部分的最大线宽，c是平行四边形长边的长度，以及θ是沟槽线中的许多线彼此接触或交叉时形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于胶印的移印版，其包括：沟槽图案，其中，所述沟槽图案包括由沟槽线形成的网状图案，所述网状图案包括通过接触或穿过所述沟槽线中的许多线形成的交叉部分，以及所述交叉部分的最大线宽和所述交叉部分的蚀刻深度的比小于25。

【技术特征摘要】
2014.09.29 KR 10-2014-01306021.一种用于胶印的移印版，其包括：
沟槽图案，
其中，所述沟槽图案包括由沟槽线形成的网状图案，所述网状图案包括
通过接触或穿过所述沟槽线中的许多线形成的交叉部分，以及所述交叉部分
的最大线宽和所述交叉部分的蚀刻深度的比小于25。
2.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，所述交叉部分的最
大线宽和所述交叉部分的线高的比是20以下。
3.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，所述交叉部分的形
状是圆形、椭圆形或多边形。
4.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，所述交叉部分的形
状是平行四边形，以及所述交叉部分的最大线宽是平行四边形长轴的长度。
5.根据权利要求4所述的用于胶印的移印版，其中，所述交叉部分的最
大线宽由以下等式1表示
[等式1]
x=c2(1+cosθ)]]>在等式1中，x是所述交叉部分的最大线宽，c是所述平行四边形长边的
长度，以及θ是所述沟槽线中的许多线彼此接触或交叉时形成的角度。
6.根据权利要求5所述的用于胶印的移印版，其中，θ是大于27°且在
90°以下。
7.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，所述沟槽图案的线
宽是10μm以下，蚀刻深度是10μm以下，以及节距是600μm以下。
8.一种制备用于胶印的移印版...

【专利技术属性】
技术研发人员：李东炫，黄智泳，李承宪，徐汉珉，林枪润，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR