阵列基板结构及阵列基板断线修复方法技术

本发明专利技术提供一种阵列基板结构及阵列基板断线修复方法。所述阵列基板结构及阵列基板断线修复方法在靠近数据线(2)和栅极扫描线(1)的相交处分别设置位于数据线(2)两侧且平行于数据线(2)的第一修复线(21)和第二修复线(22)，在靠近数据线(2)和栅极扫描线(1)的相交处分别设置位于栅极扫描线(1)两侧且平行于栅极扫描线(1)的第三修复线(11)和第四修复线(12)，能够通过激光焊接将第一修复线(21)、第三修复线(11)、第二修复线(22)、第四修复线(12)与断线的数据线(2)或栅极扫描线(1)连接起来，使得阵列基板易于进行断线修复，提高修复成功率，简化修复过程，提高修复效率，降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及阵列基板结构及阵列基板断线修复方法。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(BacklightModule)。液晶显示面板的结构是由一彩色滤光片基板(ColorFilterSubstrate，CFSubstrate)、一薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)以及一配置于两基板间的液晶层(LiquidCrystalLayer)所构成，其中在阵列基板上有许多竖直和水平的细小电线。液晶显示面板的工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。随着液晶显示面板技术的不断发展，为了满足人们更多的需求，阵列基板的制作工艺日趋复杂化，导致阵列基板的数据线(DataLine)与栅极扫描线(GateLine)跨线处的膜层结构也变得较复杂，另外为了不断提高显示分辨率，在相同尺寸的阵列基板上数据线与栅极扫描线的跨线处越来越多。目前在低温多晶硅(LowTemperaturePoly-silicon，LTPS)阵列基板的制作过程当中，由于生产工序复杂，受生产工艺及厂房环境因素的影响，阵列基板的数据线与栅极扫描线在跨线处经常会发生断线缺陷，导致在显示画面中产生黑线，严重影响画面显示质量，因断线造成的产品报废较多，损失较大，此时需要对断线的扫描线或数据线进行修复。如图1所示，传统的阵列基板断线修复方法需要在栅极扫描线100或数据线200的断线处用激光化学气相沉积(LaserChemicalVaporDeposition，LaserCVD)进行金属(如：钨)沉积形成较长的连接线300将发生断线的栅极扫描线100或数据线200连接起来。该传统修复方法的缺点在于连接线300较长，相应的电阻较大；激光能量较高时，容易造成连接线300与栅极扫描线100或数据线200之间短路，修复成功率较低；以及耗时长，修复效率低。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供阵列基板结构，易于进行断线修复。本专利技术的目的还在于提供阵列基板断线修复方法，能够提高修复成功率，简化修复过程，提高修复效率，降低生产成本。为实现上述目的，本专利技术提供一种阵列基板结构，包括多条相互平行间隔的栅极扫描线、多条相互平行间隔与所述多条栅极扫描线在空间上垂直相交且绝缘的数据线、与所述数据线处于同一层在靠近数据线和栅极扫描线的相交处设置于数据线一侧且平行于数据线的第一修复线；所述数据线与第一修复线均由第二金属层图案化形成。所述阵列基板结构还包括与所述栅极扫描线处于同一层在靠近数据线和栅极扫描线的相交处设置于栅极扫描线一侧且平行于栅极扫描线的第二修复线；所述栅极扫描线与第二修复线均由第一金属层图案化形成。本专利技术还提供一种阵列基板断线修复方法，包括如下步骤：步骤1、提供一阵列基板；该阵列基板的结构包括多条相互平行间隔的栅极扫描线、多条相互平行间隔并与所述多条栅极扫描线在空间上绝缘相交的数据线、与所述数据线处于同一层在靠近数据线和栅极扫描线的相交处设置于数据线一侧且平行于数据线的第一修复线；所述数据线与第一修复线均由第二金属层图案化形成；步骤2、检测所述阵列基板中出现断线的数据线；步骤3、提供金属连接短线，使用两条金属连接短线分别将第一修复线的两端与相应数据线出现断线的两端连接在一起。所述步骤1提供的阵列基板的结构还包括：与所述栅极扫描线处于同一层在靠近数据线和栅极扫描线的相交处设置于栅极扫描线一侧且平行于栅极扫描线的第二修复线；所述栅极扫描线与第二修复线均由第一金属层图案化形成；所述步骤2还包括：检测所述阵列基板中出现断线的栅极扫描线；所述步骤3还包括：使用两条金属连接短线分别将第二修复线的两端与相应栅极扫描线出现断线的两端连接在一起。所述数据线、第一修复线、栅极扫描线、及第二修复线的材料均为钼、钛、铝、铜、镍中的一种或几种的堆栈组合；所述两条金属连接短线的材料为钨。本专利技术提供的另一种阵列基板结构包括多条相互平行间隔的栅极扫描线、多条相互平行间隔与所述多条栅极扫描线在空间上垂直且绝缘的数据线、与所述数据线处于同一层在靠近数据线和栅极扫描线的相交处分别设置于数据线两侧且平行于数据线的第一修复线和第二修复线、以及与所述栅极扫描线处于同一层在靠近数据线和栅极扫描线的相交处分别设置于栅极扫描线两侧且平行于栅极扫描线的第三修复线和第四修复线；所述第一修复线的两端分别与第三修复线的一端、第四修复线的一端在空间上层叠，第二修复线的两端分别与第三修复线的另一端、第四修复线的另一端在空间上层叠；所述数据线、第一修复线、与第二修复线均由第二金属层图案化形成；所述栅极扫描线、第三修复线、与第四修复线均由第一金属层图案化形成。所述数据线、第一修复线、第二修复线、栅极扫描线、第三修复线、与第四修复线的材料均为钼、钛、铝、铜、镍中的一种或几种的堆栈组合。所述阵列基板结构还包括多个呈阵列式排布的TFT，TFT的栅极同样由第一金属层图案化形成，与所述栅极扫描线、第三修复线、及第四修复线位于同一层，且与栅极扫描线连接；TFT的源极、漏极同样由第二金属层图案化形成，与数据线、第一修复线、及第二修复线位于同一层，且源极与数据线连接。本专利技术提供的另一种阵列基板断线修复方法包括如下步骤：步骤1、提供一阵列基板；该阵列基板的结构包括多条相互平行间隔的栅极扫描线、多条相互平行间隔与所述多条栅极扫描线在空间上垂直且绝缘的数据线、与所述数据线处于同一层在靠近数据线和栅极扫描线的相交处分别设置于数据线两侧且平行于数据线的第一修复线和第二修复线、以及与所述栅极扫描线处于同一层在靠近数据线和栅极扫描线的相交处分别设置于栅极扫描线两侧且平行于栅极扫描线的第三修复线和第四修复线；所述第一修复线的两端分别与第三修复线的一端、第四修复线的一端在空间上层叠，第二修复线的两端分别与第三修复线的另一端、第四修复线的另一端在空间上层叠；所述数据线、第一修复线、与第二修复线均由第二金属层图案化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板结构，其特征在于，包括多条相互平行间隔的栅极扫描线(1)、多条相互平行间隔与所述多条栅极扫描线(1)在空间上垂直相交且绝缘的数据线(2)、与所述数据线(2)处于同一层在靠近数据线(2)和栅极扫描线(1)的相交处设置于数据线(2)一侧且平行于数据线(2)的第一修复线(21)；所述数据线(2)与第一修复线(21)均由第二金属层图案化形成。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板结构，其特征在于，包括多条相互平行间隔的栅极扫描
线(1)、多条相互平行间隔与所述多条栅极扫描线(1)在空间上垂直相交且
绝缘的数据线(2)、与所述数据线(2)处于同一层在靠近数据线(2)和栅
极扫描线(1)的相交处设置于数据线(2)一侧且平行于数据线(2)的第一
修复线(21)；所述数据线(2)与第一修复线(21)均由第二金属层图案化
形成。
2.如权利要求1所述的阵列基板结构，其特征在于，还包括与所述栅极
扫描线(1)处于同一层在靠近数据线(2)和栅极扫描线(1)的相交处设置
于栅极扫描线(1)一侧且平行于栅极扫描线(1)的第二修复线(11)；所述
栅极扫描线(1)与第二修复线(11)均由第一金属层图案化形成。
3.一种阵列基板断线修复方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供一阵列基板；
该阵列基板的结构包括多条相互平行间隔的栅极扫描线(1)、多条相互
平行间隔并与所述多条栅极扫描线(1)在空间上绝缘相交的数据线(2)、与
所述数据线(2)处于同一层在靠近数据线(2)和栅极扫描线(1)的相交处
设置于数据线(2)一侧且平行于数据线(2)的第一修复线(21)；所述数据
线(2)与第一修复线(21)均由第二金属层图案化形成；
步骤2、检测所述阵列基板中出现断线的数据线(2)；
步骤3、提供金属连接短线(3)，使用两条金属连接短线(3)分别将第
一修复线(21)的两端与相应数据线(2)出现断线的两端连接在一起。
4.如权利要求3所述的阵列基板断线修复方法，其特征在于，所述步骤
1提供的阵列基板的结构还包括：与所述栅极扫描线(1)处于同一层在靠近
数据线(2)和栅极扫描线(1)的相交处设置于栅极扫描线(1)一侧且平行
于栅极扫描线(1)的第二修复线(11)；所述栅极扫描线(1)与第二修复线
(11)均由第一金属层图案化形成；
所述步骤2还包括：检测所述阵列基板中出现断线的栅极扫描线(1)；
所述步骤3还包括：使用两条金属连接短线(3)分别将第二修复线
(11)的两端与相应栅极扫描线(1)出现断线的两端连接在一起。
5.如权利要求4所述的阵列基板断线修复方法，其特征在于，所述数据
线(2)、第一修复线(21)、栅极扫描线(1)、及第二修复线(11)的材料均
为钼、钛、铝、铜、镍中的一种或几种的堆栈组合；所述两条金属连接短线
(3)的材料为钨。
6.一种阵列基板结构，其特征在于，包括多条相互平行间隔的栅极扫描
线(1)、多条相互平行间隔与所述多条栅极扫描线(1)在空间上垂直且绝缘
的数据线(2)、与所述数据线(2)处于同一层在靠近数据线(2)和栅极扫
描线(1)的相交处分别设置于数据线(2)两侧且平行于数据线(2)的第一
修复线(21)和第二修复线(22)、以及与所述栅极扫描线(1)处于同一层
在靠近数据线(2)和栅极扫描线(1)的相交处分别设置于栅极扫描线(1)
两侧且平行于栅极扫描线(1)的第三修复线(11)和第四修复线(12)；所
述第一修复线(21)的两端分别与第三修复线(11)的一端、第四修复线
(12)的一端在空间上层叠，第二修复线(22)的两端分别与第三修复线
(...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨祖有，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42