本发明专利技术公开了一种通过激光刻痕取向硅钢冷轧板改善硅钢片磁性能的方法，所述取向硅钢的成分包括C：0.02-0.04％，Si：3.0-3.3％，S≤0.004％，Als：0.015-0.025％，N：0.085-0.014％，Cu：0.45-0.55％，其余为铁和杂质，其特征在于：对取向硅钢冷轧板改善硅钢片磁性能的步骤包括：炼钢、热轧、酸洗、一次冷轧、中间退火、二次冷轧、激光刻痕、回复退火涂MgO、高温退火、涂层及拉伸平整退火。本发明专利技术具有既提高磁感，又降低铁损的有益效果。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及取向硅钢处理方法，具体是一种通过激光刻痕取向硅钢冷乳板改善硅 钢片磁性能的方法。
技术介绍
取向硅钢是一种重要的软磁合金，主要用于电力电子工业，作为变压器、电抗器等 设备的铁心材料，在国民经济中发挥着重要作用。随着取向硅钢生产技术进步，很多企业已 经实现全HiB化。俄罗斯新力佩斯克钢铁公司采用的提高含铜低温一般取向硅钢磁感的方 法(W02004/040025A1)是：调整成分和热乳工艺，将热乳加热温度提高到1350-1400°C，成分 中碳含量根据硅含量进行调整，硅含量在3. 15 %的基础上每增加0.1 %，碳含量则在 0.028%的基础上增加0.003%，目的是在a-γ-a相的再结晶温度区进行热乳，在精乳结束 阶段，钢中奥氏体的体积百分比不大于3%，其他工艺和成分基本不变，可以使磁感提高到 1.90-1.92T。这种方法的最大缺点是需要大幅度提高热乳加热温度，从而失去了低温加热 的优势。专利US5653821报道一种含铜低温一般取向硅钢生产方法，该方法成分特点是:Cu 为0.4-0.6%，Als为0.018-0.025%，N为0.0080-0.012%，另外还添加了总量为0.06-0.18%的Ni和Cr，工艺路线与维兹钢铁公司相近。中间厚度为0.60-0.65mm，中间退火温度 为820-870°C，成品厚度0.27-0.30mm，回复退火温度为500-750°C。磁感B8在1.89-1.92T范 围，这种方法缺点是Ni的加入量较大，造成生产成本增加，另外，假如较多的Ni和Cr会造成 底层不良。目前世界上的激光刻痕技术主要用于在取向硅钢成品上刻痕细化磁畴，降低铁 损。如专利US2004040629A1提出在钢带表面形成具有一定形貌的熔融重凝固层的方法，这 种方法要求熔融重凝固层的深度大于等于15μπι，且深度与宽度之比大于等于0.2。专利 ZL201010562949.2提出了一种通过激光刻痕在表面形成一定形状的线状沟槽从而实现耐 热磁畴细化的方法。这些方法的共同特点是在取向硅钢成品板上刻痕，其目的是为了降低 铁损，而磁感会略有恶化，中间工序的冷乳板上刻痕提高磁感的方法未见报道。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决上述
技术介绍
存在的不足，提出一种既提高磁感，又降 低铁损的通过激光刻痕取向硅钢冷乳板改善硅钢片磁性能的方法。为了实现以上目的，本专利技术提供的一种通过激光刻痕取向硅钢冷乳板改善硅钢片 磁性能的方法，所述取向硅钢的成分包括C: 0.02-0.04%，Si: 3.0-3.3%，S< 0.004 %，A1s: 0 · 015-0 · 025 %，N: 0 · 085-0 · 014 %，Cu: 0 · 45-0 · 55 %，其余为铁和杂质，其特征在于:对取向 硅钢冷乳板改善硅钢片磁性能的步骤包括:炼钢、热乳、酸洗、一次冷乳、中间退火、二次冷 车L、激光刻痕、回复退火涂MgO、高温退火、涂层及拉伸平整退火。作为本专利技术的优选方案，所述热乳加热温度为1250-1300°c。进一步地，所述激光刻痕的具体步骤为通过刻痕方式、激光功率、扫描速率、刻痕 线间距的控制，在二次冷乳板上垂直于乳向刻划出若干条平行布置的线状或点线状沟槽， 相邻线状或点线状沟槽的线间距为3~5mm，各条线状或点线状沟槽的沟槽深度为10~20μ m、沟槽宽度为40~60μηι。 采用本专利技术可以达到既提高磁感，又降低铁损的效果，得到的磁性能为:磁感β8范 围为1.892-1.920Τ，铁损Ρπ/50范围为0.890-1.050W/kg，采用传统工艺磁性能水平为:磁感 B8范围为1.853-1.889T，铁损Ρπλο范围为1.107-1.271W/kg。同时，由于刻痕是在底层和涂 层形成之前进行的，不会对绝缘涂层产生不利影响。【附图说明】图1为刻痕线间距与磁性的关系。【具体实施方式】 下面结合附图及实施例对本专利技术作进一步说明。 实施例：如图1所示的一种通过激光刻痕取向硅钢冷乳板改善硅钢片磁性能的方 法，其特征在于:对取向硅钢依次进行如下步骤:炼钢、热乳、酸洗、一次冷乳、中间退火、二 次冷乳、激光刻痕、回复退火涂MgO、高温退火、涂层及拉伸平整退火。所述激光刻痕的具体 步骤为通过刻痕方式、激光功率、扫描速率、刻痕线间距的控制，在二次冷乳板上垂直于乳 向刻划出若干条平行布置的线状或点线状沟槽，相邻线状或点线状沟槽的线间距为3~ 5mm，各条线状或点线状沟槽的沟槽深度为10~20μπι、沟槽宽度为40~60μπι。 所述取向硅钢的成分包括C:0.02-0.04%，Si:3.0-3.3%，S< 0.004%，Als: 0.015-0.025%，Ν:0·085-0·014%，Cu:0.45-0.55%，其余为铁和杂质。所述热乳加热温度为1250-1300°C。表1如表1所示，二次冷乳法工艺的二次冷乳板、二次冷乳法工艺的一次冷乳板和一次 冷乳法工艺(高磁感取向硅钢)的最终冷乳板，在线间距都为4_，激光有效能量输入不同情 况下刻痕并经相应后工序处理后磁性能。激光有效能量是激光功率与扫描速率的比值。一 次冷乳法的冷乳板是采用的高磁感取向硅钢，其成品磁感一般在1.90T以上，铁损在1.05W/ kg以下，但是经过激光刻痕后，其磁性非但没有改善，而且还有明显的恶化。二次冷乳法工 艺的一次冷乳板刻痕后，其磁性能基本与未刻痕水平相当，只有对二次冷乳法的二次冷乳 板刻痕，才能产生明显的磁性改善效果。表2 如表2所示，刻痕沟槽深度和宽度与磁性的对应关系。沟槽深度必须控制在10~20 μπι范围、宽度控制在40~60μπι。按照本专利技术的范围控制，得到的铁损为0 · 889-1 · 049W/kg，磁 感为1.899-1.918T;超出本专利技术的范围，得到的铁损为1.106-1.274W/kg，磁感为1.854-1.887T〇 如图1所示，在其他刻痕参数相同的情况下，刻痕线间距与磁性的关系。在获得最 佳沟槽形状前提下，线间距对磁性有非常重要的影响。当刻痕线间距为3-5mm时，得到的铁 损为0.914-1.006W/kg，磁感为1.899-1.911T;低于3mm或高于5mm时，得到的铁损为1.106-1 · 132W/kg，磁感为 1 · 868-1 · 879T。 以上所述，仅是本专利技术的较佳实施例而已，并非对本专利技术的结构做任何形式上的 限制。凡是依据本专利技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均 仍属于本专利技术的技术方案的范围内。【主权项】1. 一种通过激光刻痕取向硅钢冷乳板改善硅钢片磁性能的方法，所述取向硅钢的成分 包括C:0.02-0.04%，Si:3.0-3.3%，S< 0.004%，Als:0.015-0.025%，N:0.085-0.014%， Cu: 0.45-0.55%，其余为铁和杂质，其特征在于:对取向硅钢冷乳板改善硅钢片磁性能的步 骤包括:炼钢、热乳、酸洗、一次冷乳、中间退火、二次冷乳、激光刻痕、回复退火涂MgO、高温 退火、涂层及拉伸平整退火。2. 根据权利要求1所述的通过激光刻痕取向硅钢冷乳板改善硅钢片磁性能的方法，其 特征在于:所述热乳加热温度为1250-1300°C。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种通过激光刻痕取向硅钢冷轧板改善硅钢片磁性能的方法，所述取向硅钢的成分包括C：0.02‑0.04％，Si：3.0‑3.3％，S≤0.004％，Als：0.015‑0.025％，N：0.085‑0.014％，Cu：0.45‑0.55％，其余为铁和杂质，其特征在于：对取向硅钢冷轧板改善硅钢片磁性能的步骤包括：炼钢、热轧、酸洗、一次冷轧、中间退火、二次冷轧、激光刻痕、回复退火涂MgO、高温退火、涂层及拉伸平整退火。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：朱业超，方泽民，曹阳，骆忠汉，李大明，程祥威，徐惠英，王常成，田文洲，
申请(专利权)人：武汉钢铁集团公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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