一种蒸镀掩模板及其制作方法技术

本发明专利技术提供了一种蒸镀掩模板，包括蒸镀掩模基板，蒸镀掩模基板包括开口区域和遮挡区域，设置在蒸镀掩模基板第一表面的不沾涂层，不沾涂层覆盖所述遮挡区域。本发明专利技术所提供的蒸镀掩模板，能够有效的防止有机材料在蒸镀掩模板表面的沾染，从而提高了有机材料的利用率。氧化铝和二氧化钛陶瓷膜，通过优化制作材料的配比，获得的不沾涂层具有表面致密的特点，具有更好的耐受高温的特性，能够经受蒸镀过程中的高温，从而具有很好的稳定性，保证了蒸镀精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种显示器件的蒸镀掩模板。
技术介绍
有机发光二极管器件(0LED，0rganic Light Emitting D1de)与传统的液晶显示器相比，具有更低的功耗，同时还拥有高亮度、高响应速度和宽色域，已经成为显示领域目前的主流器件。不同于液晶显示器，0LED是自发光器件，传统0LED显示器像素点的着色方式是将红色、绿色、蓝色三种有机材料通过蒸镀的方式沉积在基板对应的像素位置上，三色通过配合发光从而形成各种高纯度画质的图像。在有机材料的蒸镀过程中需要用到一种蒸镀掩模板(蒸镀MASK)组件，如图1所示，是现有技术中的一种蒸镀掩模板的示意图，有机材料104通过蒸镀MASK 100的开口区域101蒸镀到基板103上，而遮挡区域102阻挡有机材料的沉积，在进行一种特定颜色的有机材料的沉积时，将蒸镀掩模板的开口区域对应到这种颜色在基板的相应位置上，这样便能够实现在基板的不同区域上蒸镀不同颜色的有机材料。但是，现有技术在蒸镀的过程中，蒸镀MASK对有机材料的沾染严重，造成了有机材料的浪费。同时，有机材料的沾染会造成蒸镀MASK开口区域的面积发生变化，造成蒸镀不均匀从而产生显示像素阴影(由于蒸镀不均匀而造成的阴影区域)，影响有机发光器件的品质。另一方面，需要使用有机溶剂对蒸镀MASK表面沾染的有机材料进行定期的清洗，频繁的清洗工作既增加了人员成本，又影响生产效率，并且还会对蒸镀MASK造成磨损，提高了生产成本。
技术实现思路
鉴于现有技术存在的上述缺陷和不足，期望提供一种能够减少有机材料沾染的方案，为了实现上述目的，本专利技术提供了。本专利技术所提供的蒸镀掩模板包括:蒸镀掩模基板，蒸镀掩模基板包括开口区域和遮挡区域，设置在蒸镀掩模基板第一表面的不沾涂层，不沾涂层覆盖所述遮挡区域。在本专利技术的一个实施例中，可选的，蒸镀掩模基板的材料包括金属合金:铁镍合金、镍钴合金或者铁钴合金中的任意一种。可选的，不沾涂层为氧化铝与二氧化钛陶瓷膜，其中，铝原子与钛原子的摩尔百分比为2:1?20:1。可选的，氧化铝与二氧化钛陶瓷膜中，铝原子与钛原子的摩尔百分比为2:1?5:1，氧化铝与二氧化钛陶瓷膜的厚度为0.5?2μηι。在本专利技术的另一个实施例中，蒸镀掩膜基板具有第二表面，开口区域具有连接第一表面和第二表面的至少一个侧表面，不沾涂层覆盖侧表面。本专利技术还提供了一种蒸镀掩模板的制作方法，包括:提供一蒸镀掩模基板，在蒸镀掩模基板上形成开口区域和遮挡区域，在蒸镀掩模基板第一表面形成不沾涂层，不沾涂层覆盖所述遮挡区域。本专利技术所提供的蒸镀掩模板及其制作方法具有以下优点:在蒸镀掩模板的表面设置不沾涂层，能够有效的防止有机材料在蒸镀掩模板表面的沾染，从而提高了有机材料的利用率。本专利技术所使用的不沾涂层是氧化铝和二氧化钛陶瓷膜，通过优化制作材料的配比，获得的不沾涂层具有表面致密的特点，具有更好的耐受高温的特性，能够经受有机材料蒸镀过程中的高温，从而具有很好的稳定性，保证了有机材料的蒸镀精度。【附图说明】图1为现有技术中的一种蒸镀掩模板的示意图；图2A是本专利技术实施例一所提供的一种蒸镀掩模板的俯视图；图2B是图2A沿AA’的截面图；图3是本专利技术实施例一的氧化铝与二氧化钛陶瓷膜的电子透射显微镜图；图4是本专利技术实施例一所提供的又一种蒸镀掩模板示意图；图5是本专利技术实施例二所提供的蒸镀掩模板的制作方法流程示意图；图6是本专利技术实施例二制备氧化铝与二氧化钛溶胶的流程示意图；【具体实施方式】下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关专利技术，而非对该专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与专利技术相关的部分。需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。实施例一如图2A所述是本实施例提供的一种蒸镀掩模板的俯视图，图2B是图2A沿AA’的截面图。参考图2A和图2B，蒸镀掩模板200包括:蒸镀掩膜基板201，蒸镀掩膜基板201具有开口区域2011和遮挡区域2012，设置在蒸镀掩模基板201第一表面2013的不沾涂层202，不沾涂层202覆盖遮挡区域2012。本实施例所提供的蒸镀掩模板200具有开口区域2011，在蒸镀的过程中，有机材料通过开孔区域2011蒸镀到基板上，而遮挡区域2012能够对蒸镀材料起到阻挡作用，从而在特定区域进行蒸镀。本实施例在蒸镀掩膜基板201的第一表面2013设置了不沾涂层202，在蒸镀过程中，能够有效防止蒸镀材料在蒸镀掩模板表面的沾染，从而提高了材料的利用率。而另一方面，因为减少了蒸镀材料在蒸镀掩模板表面的沾染，从而减少了对蒸镀掩模板的清洗频率，节省了人员成本，并且由于在清洗蒸镀掩模板的过程中会造成对掩模板的磨损，而清洗频率的减少能够减小对掩模板的损坏，从而节约了生产成本。需要说明的是，本实施例中的开口区域2011不限定于图2A所示出的形状，开口区域2011可以根据需要设计为任何形状。可选的，本实施例中蒸镀掩膜基板201的材料包括金属合金。可选的，金属合金可以为铁镍合金、镍钴合金或者铁钴合金中的任意一种。铁镍合金、镍钴合金或者铁钴合金具有较低的热膨胀系数，在较高的蒸镀温度下体积膨胀量很小，能够保证蒸镀掩模板具有稳定的形状，从而保证了蒸镀的精度。可选的，本实施例中，不沾涂层202可以为氧化铝与二氧化钛陶瓷膜；具体的，在进行蒸镀的过程中，蒸镀掩模板表面的局部温度会达到200度左右，在此温度下，物质分子间具有很强的结合力，因而对不沾材料提出了更高的要求，本实施例中的氧化铝与二氧化钛陶瓷膜，能够经受高温而不会产生变形。通过合适的配比优化，本实施例中的氧化铝与二氧化钛陶瓷膜材料的气孔和晶界减小，无机小分子紧密排列，在表面形成致密的结构特性。一般的蒸镀材料从蒸镀源喷射出以后会变成气体分子，当气体分子和不沾涂层表面的无机小分子接触，会产生弹性碰撞，不但不会对蒸镀材料沾染，还会弹走气体分子。并且，表面致密的结构使得缺陷少，膜层的硬度高，更耐清洗，多次的清洗也不会对蒸镀掩模板造成磨损。本实施例中，当铝原子与钛原子的摩尔百分比为2:1?20:1，能够改变氧化铝陶瓷表面的粗糙形貌，形成致密的分子结构。可选的，当铝原子与钛原子的摩尔百分比为2:1?5:1，所形成的氧化铝与二氧化钛陶瓷膜表面分子排列更加致密，对蒸镀材料的气体分子具有更好的阻挡和反弹效果，从而具有更好的不沾特性。图3为本实施例氧化铝与二氧化钛陶瓷膜表面的电子透射显微镜图，如图3所示，氧化铝与二氧化钛陶瓷膜表面形成致密的晶粒，晶粒之间缺陷少，能够弹走蒸镀源喷射出的气体分子，使蒸镀材料不会沾染在蒸镀掩模板的表面，并且致密的晶粒使得氧化铝与二氧化钛陶瓷膜具有很高的硬度，更耐清洗，多次的清洗也不会对蒸镀掩模板造成磨损。可选的，氧化铝与二氧化钛陶瓷膜的厚度为0.5?2μηι，这个厚度范围能保证覆盖良好，同时又不会增加蒸镀掩模基板重量，导致蒸镀掩模基板变形。蒸镀掩膜基板表面具有一定的粗糙度，当氧化铝与二氧化钛陶瓷膜的厚度小于0.5μπι，将不能有效覆盖蒸镀掩膜基板，而如果氧化铝与二氧化钛陶瓷膜的厚度大于2微米会增加蒸镀掩膜基板的重量，会对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀掩模板，其特征在于，包括：蒸镀掩模基板，所述蒸镀掩模基板包括开口区域和遮挡区域；设置在所述蒸镀掩模基板第一表面的不沾涂层；所述不沾涂层覆盖所述遮挡区域。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：姚宇环，尹招弟，
申请(专利权)人：上海天马有机发光显示技术有限公司，天马微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31