偏光板及光学层叠体制造技术

本发明专利技术涉及偏光板及光学层叠体。本发明专利技术提供一种于高温高湿下的耐久性优异、且翘曲得到抑制的薄型偏光板。本发明专利技术的偏光板依次包含第1粘合层、透明保护层、第2粘合层和偏光膜，该第1粘合层的厚度为10μm以上，该透明保护层的厚度为30μm以下，该透明保护层的透湿度为200g/m2/24hr以下，该第2粘合层的整体吸水率为10重量％以下，该偏光膜的厚度为10μm以下，且该偏光膜的硼酸含量相对于偏光膜的重量为18重量％以下。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】偏光板及光学层叠体 本申请要求2014年9月19日提交的日本专利申请No. 2014-191768的35U.S.C.Section119下的优先权，将其引入此处W作参考。 阳00引技术区域 本专利技术是有关于一种偏光板及光学层叠体。
技术介绍
作为代表性图像显示设备的液晶显示设备的液晶单元的两侧每侧配置偏光板。该 配置由所述设备的图像形成体系而导致。偏光板通常包括偏光膜及保护该偏光膜的保护膜 (例如日本专利第4751481号和日本专利公开公报特开2003-149438号公报）。由于近年 来图像显示设备薄型化的倾向，用于该图像显示设备的偏光板对于薄型化的要求也提高， 并因此发展偏光膜及保护膜的薄型化。与偏光板的薄型化相关联，有人提出仅使用一片保 护偏光膜的保护膜的技术（例如日本专利第5332599号）。然而，日本专利第5332599号的 偏光板在贴附于显示面板时，该显示面板与偏光膜的距离大，故会产生显示面板容易翅曲 的问题。 阳0化]作为上述显示面板翅曲的一个原因，可例举偏光膜的变形（例如因溫度变化所致 的扩张或收缩）。作为用W减低偏光膜变形的一个方法，可考虑减低偏光膜中的棚酸浓度的 方法，但如果减低棚酸浓度，则明显出现W下问题。偏光膜的耐久性减低，尤其是在偏光膜 薄的情形，偏光膜不能在高溫高湿下使用。
技术实现思路
发巧要解决的间颗 本专利技术是为解决相关现有技术问题而完成，其主要目的在于提供一种在贴附于显 示面板等被粘物时可抑制该被粘物的翅曲、且于高溫高湿下的耐久性优异的薄型偏光板。 用于解决间颗的方案 本专利技术的偏光板依次包含第1粘合层、透明保护层、第2粘合层和偏光膜；其中，该 第1粘合层的厚度为10μmW上，该透明保护层的厚度为30μmW下，该透明保护层的透湿 度为200g/m2/24hrW下，该第2粘合层的整体吸水率为10重量％ ^下，该偏光膜的厚度为 10μπιW下，且该偏光膜的棚酸含量相对于偏光膜的重量为18重量％W下。 根据本专利技术的另一方面，可提供一种光学层叠体。该光学层叠体依次包含偏光板、 第3粘合层及光学膜，其中，该第3粘合层设置于该偏光板的所述偏光膜的与所述第2粘合 层相反的一侧。 于本专利技术的一个实施方案方案中，所述光学膜为亮度提升膜。 发巧的效果 根据本专利技术的一个实施方案，使用棚酸浓度低的偏光膜，使用低透湿的透明保护 层作为保护偏光膜的保护层，隔着吸水率低的粘合层（第2粘合层）将偏光膜与保护层层 叠，因此可W获得可在贴附于显示面板等被粘物时抑制该被粘物的翅曲且耐久性优异的薄 型偏光板。【附图说明】 图1为根据本专利技术的一个实施方案的偏光板的示意性截面图。 图2为根据本专利技术的一个实施方案的光学层压体的示意性截面图。 图3为显示用于本专利技术的光学层叠体中的直线偏光分离膜的一例的示意立体图。 图4A为实施例1于耐久性评价中的外观照片，图4B为比较例1于耐久性评价中 的外观照片。【具体实施方式】 !；〇〇化]A.偏化板的蒋体构推 图1是本专利技术的一个实施方案的偏光板的示意性截面图。图1的偏光板100依次 包含第1粘合层10、透明保护层20、第2粘合层30、偏光膜40。第1粘合层10系可作为将 偏光板100贴合于其他构件（例如IT0基板、液晶胞等）时的粘合层而起作用。透明保护 层20具有保护偏光膜40的功能。优选仅于偏光膜的一侧配置透明保护层。 在本专利技术中，通过于第1粘合层10与偏光膜30之间配置透明保护层20,可防止第 1粘合层1中的成分移动至偏光膜，防止偏光膜的劣化（例如透射率的降低）。此外，可防 止偏光膜中的成分（例如舰、钟）移动至作为被粘物的其他构件，可防止被粘物的污染或劣 化。 另一方面，于仅于偏光膜的一侧包括保护层的偏光板中，于高溫下，偏光膜容易变 形、翅曲。在因偏光膜的变形所产生的力相同的情形下，偏光膜与被粘物的距离越远，将偏 光板贴附于显示面板等被粘物时的被粘物的翅曲越大。具体而言，于偏光膜与被粘物之间 配置保护层的单侧保护的偏光板中，有因偏光膜变形所产生的力致使被粘物容易翅曲的倾 向。在本专利技术中，如后所述，通过将偏光膜的棚酸含量设为18重量％ ^下，可抑制因偏光膜 的变形所产生的力，减低上述翅曲。于所述本专利技术的偏光板中，能防止作为被粘物的显示面 板产生翅曲所导致的问题（例如显示不良等）。 此外，在本专利技术的偏光板中，透明保护层的透湿度为200g/m2/24hrW下，第2粘合 层的整体吸水率为10重量％ ^下。如果通过所述透明保护层及第2粘合层形成透明保护 层/第2粘合层/偏光膜的叠层构造，则可抑制水分自透明保护层侧渗入偏光膜，可防止偏 光膜劣化。因此，本专利技术的偏光板，即使使用如上所述棚酸含量较低的偏光膜，耐久性亦优 异。此外，通过在偏光膜的与第2粘合层成相反侧的一面层叠光学膜，防止偏光膜劣化的效 果进一步显著。包括偏光板及光学膜的光学层叠体的详情稍后描述。 阳似]B.偏化腸 偏光膜的厚度优选为10μπιW下，更优选为8μπιW下，进而优选为6μπιW下。该 薄偏光膜的使用可提供薄型偏光板。此外，通过减薄偏光膜，可缩小因周围环境的变化而产 生的偏光膜的膨胀-收缩力。当偏光膜厚时，由于偏光膜所产生的膨胀-收缩力会变大，因 此，为了抑制偏光膜的膨胀-收缩，必须粘合厚的保护层。另一方面，如本专利技术，当减薄偏光 膜而缩小偏光膜所产生的膨胀-收缩力时，可减薄透明保护层，且可减薄偏光板整体。此 夕F，如果偏光膜薄且偏光膜所产生的膨胀-收缩力减小，则在偏光膜与所粘合的构件（例如 亮度提升膜、相位差膜、液晶单元）间产生的应力会变小，因此抑制该构件所产生的光学应 变。于本专利技术中，可无损耐久性而减薄偏光膜。偏光膜的厚度的下限优选为lymW上，更 优选为2μηιW上。偏光膜的棚酸含量相对于偏光膜的重量为18重量％ ^下，优选为17. 5重量％W下，更优选为17重量％ ^下。如果含量在所述范围内，则可获得经抑制了因环境溫度的变 化所致的变形（扩张或收缩）所产生的力的偏光膜。如果能使用包括所述偏光膜的偏光板， 则可防止被粘物（例如显示面板）的翅曲。偏光膜的棚酸含量的下限，相对于偏光膜的重 量，优选12重量％^上。偏光膜的棚酸含量较12重量％少时，可能降低偏光膜的耐久性。 偏光膜的棚酸含量可通过制造偏光膜时的棚酸处理（例如不溶化处理、交联处理）所使用 的棚酸水溶液的棚酸浓度、经由水中拉伸而制造偏光膜时（后述）中的拉伸浴（棚酸水溶 液）的棚酸浓度等进行调整。棚酸含量的测定方法稍后描述。 偏光膜优选于波长380nm~780nm中的任一波长显示吸收二色性。偏光膜的单片 透射率（singleaxishansmittance)优选为40.0%W上，更优选为41.0%W上，进而优 选为42. 0%W上，特别优选为43. 0%W上。偏光膜的偏光度优选为99. 8 %W上，更优选为 99. 9%W上，进而优选为99. 95%W上。 优选偏光膜为舰系偏光膜。更具体地，偏光膜可由含有舰的聚乙締醇系树脂（W 下，有时称作叩VA系树脂"）膜所构成。 形成上述PVA系树脂膜的PVA系树脂可采用任意适合的树脂。例如，所述树脂的 实例包括：聚乙締醇、乙締-乙締醇共聚物。聚乙締醇可通过将聚乙酸乙締醋皂化而得。乙 締-乙締醇共本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏光板，其依次包含第1粘合层、透明保护层、第2粘合层和偏光膜；和，所述第1粘合层的厚度为10μm以上；所述透明保护层的厚度为30μm以下；所述透明保护层的透湿度为200g/m2/24hr以下；所述第2粘合层的整体吸水率为10重量％以下；所述偏光膜的厚度为10μm以下；和所述偏光膜的硼酸含量相对于所述偏光膜的重量为18重量％以下。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：喜多川丈治，木田友树，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP