吡唑基吡咯啉酮及其作为除草剂的用途制造技术

技术编号:13074195 阅读:94 留言:0更新日期:2016-03-30 10:02
本发明专利技术涉及具有化学式(I)的吡咯酮化合物其中X、Ra、Rb、Rc、R1、R2和R3是如在说明书中所定义的。此外,本发明专利技术涉及用于制备具有化学式(I)的化合物的方法和中间体,涉及包含这些化合物的除草组合物并且涉及使用这些化合物控制植物生长的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种具有化学式(I)的除草化合物其中X是选自S和O;Ra是选自氢、C1‑C6烷基以及C1‑C6卤代烷基;Rb是选自氢,甲酰基,羟基,卤素,硝基,氰基,C1‑C6烷基,C1‑C6氰基烷基,C3‑C6环烷基,C3‑C6氰基环烷基,C1‑C6卤代烷基,C1‑C6烷硫基,C1‑C6烷氧基,C1‑C6烷氧基C1‑C6烷基,C1‑C6烷硫基C1‑C6烷基,C1‑C6氰基烷氧基,C1‑C6卤代烷氧基,C1‑C6烷氧基C1‑C6烷氧基,C2‑C6烯基,C2‑C6炔基,C2‑C6氰基烯基,C2‑C6氰基炔基,C2‑C6烯氧基,C2‑C6炔氧基,C2‑C6卤代烯基,C2‑C6卤代炔基,C2‑C6卤代烯氧基,C2‑C6卤代炔氧基,C1‑C6烷氧基C2‑C6烯基,C1‑C6烷氧基C2‑C6炔基,C1‑C6烷基亚磺酰基,C1‑C6烷基磺酰基,C1‑C6卤代烷硫基,C1‑C6卤代烷基亚磺酰基,C1‑C6卤代烷基磺酰基,C1‑C6烷基磺酰基氧基,C1‑C6烷基羰基,C1‑C6卤代烷基羰基,C2‑C6烯基羰基,C2‑C6炔基羰基,C2‑C6卤代烯基羰基,C2‑C6卤代炔基羰基,三C1‑C6烷基甲硅烷基C2‑C6炔基,基团R5R6N‑,基团R5C(O)N(R6)‑,基团R5S(O2)N(R6)‑,基团R5R6NSO2‑,任选地被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的C6‑C10芳基基团,任选地被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的C6‑C10芳氧基基团,任选地被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的C6‑C10苄基基团,任选地被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的C6‑C10苄氧基基团,任选地被从1至3个独立地选自C1‑C4烷基的基团取代的C3‑C6杂环基基团,任选地被从1至3个独立地选自卤素或C1‑C6烷基的基团取代的C3‑C6环烷基基团以及任选地被从1至3个独立地选自卤素或C1‑C6烷基的基团取代的C3‑C6环烯基基团;并且其中当Rb是C2‑C6炔基、C2‑C6氰基炔基、C2‑C6卤代炔基或C1‑C6烷氧基C2‑C6炔基时,该炔基基团不直接附接至吡唑环;Rc是选自氢、卤素、氰基、C1‑C6烷基或C1‑C6卤代烷基;或Ra和Rb连同它们附接的氮和碳原子一起形成3‑7元饱和或部分不饱和环,该环任选地包括从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素、C1‑C6烷基和C1‑C6卤代烷基的基团取代;或Rb和Rc连同它们附接的碳原子一起形成3‑7元饱和或部分不饱和环,该环任选地包含从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素、C1‑C6烷基和C1‑C6卤代烷基的基团取代;R1是卤素或C1‑C3烷氧基;R2是C1‑C6烷基或C1‑C3烷氧基;R3选自卤素、羟基或以下基团中的任一个R5和R6独立地选自氢、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基,或R5和R6连同它们附接的碳原子一起形成3‑6元饱和或部分不饱和环,该环任选地包括从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素或C1‑C6烷基的基团取代;R7和R8独立地选自氢,C1‑C6烷基,C1‑C6卤代烷基,C2‑C6烯基,C2‑C6炔基,可以是单环或双环的包括从1至4个独立地选自N、O和S的杂原子并且任选地被1至3个独立地选自卤素、C1‑C3烷基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3烷氧基的基团取代的C5‑C10杂芳基基团,任选地被1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的C6‑C10芳基基团,或R7和R8连同它们附接的原子一起形成3‑6元饱和或部分不饱和环,该环任选地包括从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素或C1‑C6烷基的基团取代;R9选自C1‑C6烷基或任选地被1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基、以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的苄基;或其N‑氧化物或盐形式。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:J·E·波赫米尔M·费德特A·朗斯塔夫J·A·莫里斯T·R·戴森M·B·霍特森A·J·道灵W·G·怀廷哈姆A·J·达伦肯P·J·德福莱恩A·J·汤普森蜂巢主慈
申请(专利权)人:先正达参股股份有限公司先正达有限公司
类型:发明
国别省市:瑞士;CH

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1