一种薄膜制作工艺制造技术

技术编号:13069746 阅读:89 留言:0更新日期:2016-03-24 04:54
本发明专利技术提供了一种薄膜制作工艺,其具体步骤为:采用金刚石基片,将基片在丙酮、无水乙醇以及去离子水中依次超声10-12min,在氮气环境下烘干,置于溅射台上,以体积比2:1的氩气和氧气混合气体将氧化锌靶溅射至金刚石基片上,沉积时间为30min,对沉积后的薄膜进行快速退火处理,退火温度750℃,保温时间30min,通过本发明专利技术工艺提供的一种薄膜制作工艺而制备所得氧化锌薄膜表面形态优异,晶格强度好,而且制作的步骤简单,加快了制作的效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜领域,特别是涉及一种薄膜制作工艺
技术介绍
薄膜是一种薄而软的透明薄片。用塑料、胶粘剂、橡胶或其他材料制成。聚酯薄膜科学上的解释为:由原子,分子或离子沉积在基片表面形成的2维材料。例:光学薄膜、复合薄膜、超导薄膜、聚酯薄膜、尼龙薄膜、塑料薄膜等等。薄膜被广泛用于电子电器,机械,印刷等行业,而氧化锌薄膜具有良好的压电特性和光电特性,广泛应用于光电
,尤其是MEMS传感器技术中。氧化锌薄膜的晶格取向性是其重要属性之一,对其应用的最终产品有着重要的影响,现有的氧化锌薄膜工艺所得产品,薄膜表面光滑度不佳,不够致密,甚至有裂纹出现,从而影响了在其上布设微电器件的质量。
技术实现思路
本专利技术提供一种薄膜制作工艺,为实现本专利技术的目的,本专利技术的技术方案如下:—种薄膜制作工艺,其特征在于,其具体步骤为:(1)采用金刚石基片,将基片在丙酮、无水乙醇以及去离子水中依次超声10-12min,在氮气环境下烘干,置于溅射台上;(2)以体积比2:1的氩气和氧气混合气体将氧化锌靶溅射至金刚石基片上,沉积时间为30min;(3)对沉积后的薄膜进行快速退火处理,退火温度750°C,保温时间30min。优选的,所述溅射功率为350W,而溅射时候的基片温度为350-370°C的情况下,优选的,所述步骤(3)中退火时在250°C以上的时候采用快速退火,250°C以下的时候采用慢速退火。有益效果:通过本专利技术工艺提供的一种薄膜制作工艺而制备所得氧化锌薄膜表面形态优异,晶格强度好,而且制作的步骤简单,加快了制作的效率。【具体实施方式】本专利技术提供一种薄膜制作工艺,为实现本专利技术的目的,本专利技术的技术方案如下:—种薄膜制作工艺,其特征在于,其具体步骤为:(1)采用金刚石基片,将基片在丙酮、无水乙醇以及去离子水中依次超声llmin,在氮气环境下烘干,置于溅射台上;(2)以体积比2:1的氩气和氧气混合气体将氧化锌靶溅射至金刚石基片上,沉积时间为30min;(3)对沉积后的薄膜进行快速退火处理,退火温度750°C,保温时间30min。所述溅射功率为350W,而溅射时候的基片温度为350°C的情况下,所述步骤(3)中退火时在250°C以上的时候采用快速退火,250°C以下的时候采用慢速退火。通过本专利技术工艺提供的一种薄膜制作工艺而制备所得氧化锌薄膜表面形态优异,晶格强度好,而且制作的步骤简单,加快了制作的效率。显然本专利技术具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本专利技术的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本专利技术的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本专利技术的保护范围之内。【主权项】1.一种薄膜制作工艺,其特征在于,其具体步骤为: (1)采用金刚石基片,将基片在丙酮、无水乙醇以及去离子水中依次超声10-12min,在氮气环境下烘干,置于溅射台上; (2)以体积比2:1的氩气和氧气混合气体将氧化锌靶溅射至金刚石基片上,沉积时间为30min; (3)对沉积后的薄膜进行快速退火处理,退火温度750°C,保温时间30min。2.根据权利要求1所述的一种薄膜制作工艺,其特征在于,所述溅射功率为350W,而溅射时候的基片温度为350-370°C的情况下。3.根据权利要求1所述的一种绝缘外壳的制作方法,其特征在于,所述步骤(3)中退火。【专利摘要】本专利技术提供了一种薄膜制作工艺,其具体步骤为:采用金刚石基片,将基片在丙酮、无水乙醇以及去离子水中依次超声10-12min,在氮气环境下烘干,置于溅射台上,以体积比2:1的氩气和氧气混合气体将氧化锌靶溅射至金刚石基片上,沉积时间为30min,对沉积后的薄膜进行快速退火处理,退火温度750℃,保温时间30min,通过本专利技术工艺提供的一种薄膜制作工艺而制备所得氧化锌薄膜表面形态优异,晶格强度好,而且制作的步骤简单,加快了制作的效率。【IPC分类】C23C14/34, C23C14/58, C23C14/08【公开号】CN105420676【申请号】CN201510819063【专利技术人】焦国平, 齐继业, 方兴旺 【申请人】安徽松泰包装材料有限公司【公开日】2016年3月23日【申请日】2015年11月23日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜制作工艺,其特征在于,其具体步骤为:(1)采用金刚石基片,将基片在丙酮、无水乙醇以及去离子水中依次超声10‑12min,在氮气环境下烘干,置于溅射台上;(2)以体积比2:1的氩气和氧气混合气体将氧化锌靶溅射至金刚石基片上,沉积时间为30min;(3)对沉积后的薄膜进行快速退火处理,退火温度750℃,保温时间30min。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:焦国平齐继业方兴旺
申请(专利权)人:安徽松泰包装材料有限公司
类型:发明
国别省市:安徽;34

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