一种背光模组及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种背光模组及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够解决现有技术中背光模组厚度较大的问题。背光模组包括第一电极、位于第一电极表面的衬底层，衬底层的表面排布有量子线阵列，量子线阵列包括多个量子线阵列单元；量子线阵列单元包括依次位于衬底层表面的第一缓冲层、有源层、第二缓冲层以及第二电极；其中，第二缓冲层完全覆盖第一缓冲层和有源层，第二缓冲层包括与第一缓冲层重叠的重叠区以及除重叠区以外的非重叠区；第二电极至少与部分重叠区重叠。用于提供背光源。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种背光模组及其制作方法、显示装置。
技术介绍
LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示专职)作为一种平板显示装置，因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点，而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。然而LCD是一种被动发光显示装置件，需要BLU(Backlight Unite，背光模组)给液晶显示装置提供光源使其显示图像。根据光源入射位置的不同，上述背光模组可以分为直下式背光模组与侧入式背光模组两种。其中，直下式背光模组如图la所示，是将白光光源130例如CCFL(Cold CathodeFluorescent Lamp，阴极焚光灯管)或LED (Light Emitting D1de发光二极管)光源设置于液晶面板后方，光线经扩散板均匀化后形成面光源提供给液晶面板。由于光源130与扩散板131之间的混光距离Η与光线的均匀性成正比，混光距离越小，背光均匀性越差。因此上述混光距离Η使得直下式背光模组很难制作的很薄。此外，侧入式背光模组如图lb所示，是将光源130设置于导光板133的侧面，光源10发出的光线入射至导光板133后，经过反射板134的反射以及网点1311的散射后形成面光源提供给液晶面板。由于导光板133的出光率与其厚度D成正比，导光板133的厚度D越小，出光率越低，光效损失越大。因此导光板133的厚度D使得侧入式背光模组很难制作的很薄。在此基础上，无论对于直下式背光模组还是侧入式背光模组而言，该背光模组中均需要设置至少一层光学膜片132，例如多层光学棱镜，从而导致背光模组的厚度进一步增加。综上所述，现有技术的背光模组的厚度加大，从而阻碍了液晶显示装置的超薄化设计。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种背光模组及其制作方法、显示装置，能够解决现有技术中背光模组厚度较大的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案:本专利技术实施例的一方面，提供一种背光模组，包括第一电极、位于所述第一电极表面的衬底层，所述衬底层的表面排布有量子线阵列，所述量子线阵列包括多个量子线阵列单元;所述量子线阵列单元包括依次位于所述衬底层表面的第一缓冲层、有源层、第二缓冲层以及第二电极;所述第二缓冲层完全覆盖所述第一缓冲层和所述有源层;其中，所述第二缓冲层包括与所述第一缓冲层重叠的重叠区以及除所述重叠区以外的非重叠区；所述第二电极至少与部分所述重叠区重叠。优选的，所述衬底层的表面沿所述有源层延伸方向设置有V型槽，每一个所述V型槽与一个所述量子线阵列单元相对应，且所述第一缓冲层和所述有源层完全覆盖所述V型槽。优选的，所述第二电极至少与有源层的两端以及该有源层一侧的非重叠区重叠。优选的，还包括位于所述衬底层表面的自偏振光栅;所述自偏振光栅包括间隔设置的遮光部，相邻两个遮光部之间设置有多个所述量子线阵列单元。优选的，所述自偏振光栅的表面设置有平坦层。优选的，还包括下偏振片，所述下偏振片位于所述量子线阵列单元的出光侧。优选的，所述量子线阵列单元还包括位于所述第二电极与所述第二缓冲层之间的接触层，所述第二电极与所述接触层的图案一致。优选的，所述衬底层在沿所述量子线阵列单元的延伸方向的两个侧面上，至少在对应所述量子线阵列单元的位置设置有反射层。优选的，至少一个所述量子线阵列单元的表面设置有封装层。本专利技术实施例的另一方面，提供一种显示装置，包括液晶显示面板，还包括如上所述的任意一种背光模组;所述背光模组位于所述液晶显示面板的非出光侧。优选的，所述液晶显示面板包括阵列基板以及位于所述阵列基板远离所述背光模组一侧的液晶层;所述阵列基板上具有呈矩阵形式排列的亚像素，一个亚像素与一个量子线阵列单元相对应。优选的，与构成一个像素单元的三个亚像素分别对应的量子线阵列单元的有效线宽各不相同，用于发出三基色光。优选的，与构成一个像素单元的三个亚像素分别对应的量子线阵列单元的有效线宽均相同，且所述显示装置还包括设置于所述液晶显示面板出光侧的光致发光层，用于在所述量子线阵列单元发出光线的激发下，产生三基色光。本专利技术实施例的又一方面，提供一种背光模组的制作方法，包括:在衬底层的上表面形成量子线阵列，所述量子线阵列包括多个量子线阵列单元;形成所述量子线阵列的步骤包括通过量子线生长工艺，在所述衬底层的上表面依次形成第一缓冲层、有源层、第二缓冲层以及第二电极的图案;所述第二缓冲层完全覆盖所述第一缓冲层和所述有源层;其中，所述第二缓冲层包括与所述第一缓冲层重叠的重叠区以及除所述重叠区以外的非重叠区；所述第二电极至少与部分所述重叠区重叠;在衬底层的下表面形成第一电极。优选的，所述在衬底层的上表面形成阵列排布有量子线阵列单元之前，还包括:通过刻蚀工艺，在所述衬底层的上表面形成V型槽;所述V型槽形成之后，所述形成所述阵列排布有量子线阵列单元包括，在对应所述V型槽的位置形成所述量子线阵列单元，且所述第一缓冲层和所述有源层完全覆盖所述V型槽。优选的，所述在衬底层的上表面形成量子线阵列包括:在相邻两个量子线阵列之间设置有间隔区；形成所述量子线阵列之后，所述方法还包括在所述衬底层的上表面对应所述间隔区域的位置形成自偏振光栅的遮光部。本专利技术实施例提供一种背光模组及其制作方法、显示装置，该背光模组包括第一电极、位于第一电极表面的衬底层。衬底层的表面排布有量子线阵列，量子线阵列包括多个量子线阵列单元。该量子线阵列单元包括依次位于衬底层表面的第一缓冲层、有源层、第二缓冲层以及第二电极，第二缓冲层完全覆盖第一缓冲层和有源层。在此情况下，第二缓冲层包括与第一缓冲层重叠的重叠区以及除重叠区以外的非重叠区，第二电极至少与部分重叠区重叠。这样一来，衬底层能够为量子线阵列单元中的各个膜层提供生长基底，第一缓冲层用于间隔有源层与衬底层，第二缓冲层用于间隔有源层与接触层。在此情况下，一个量子线阵列单元与其位置对应的部分衬底层和第一电极可以构成一个量子线激光器，其中，激光器中的载流子具有尺寸效应，被限制在有源层构成的势阱中，形成量子能级。当对第一电极与第二电极施加电压后，载流子发生能级跃迀从而产生光子，使得该背光模组发光，以提供背光源。由此可知，上述背光模组的结构中无需设置导光板或扩散板，以及多层光学膜片。此外根据量子线激光器的工作原理可知，上述有源层的厚度需要制备成纳米级，而该背光模组中其它薄膜层的厚度也可以制备成纳米级。因此整个背光模组的厚度很薄，从而在应用至液晶显示装置时，能够有效减小液晶显示装置的厚度，利于显示装置超薄化设计的要求。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图la为现有技术提供的一种直下式背光模组的结构示意图；图lb为现有技术提供的一种侧入式背光模组的结构示意图；图2a为本专利技术实施例提供的一种背光模组的结构示意图；图2b为图2a所述背光模组的立体结构示意图；图2c为本专利技术实施例提供的另一种背光模组的结构示意图；图2d为本专利技术实施例提供的又一种背光模组的结构示意图；图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种背光模组，其特征在于，包括第一电极、位于所述第一电极表面的衬底层，所述衬底层的表面排布有量子线阵列，所述量子线阵列包括多个量子线阵列单元；所述量子线阵列单元包括依次位于所述衬底层表面的第一缓冲层、有源层、第二缓冲层以及第二电极；所述第二缓冲层完全覆盖所述第一缓冲层和所述有源层；其中，所述第二缓冲层包括与所述第一缓冲层重叠的重叠区以及除所述重叠区以外的非重叠区；所述第二电极至少与部分所述重叠区重叠。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：董瑞君，陈东，王光泉，孙海威，陈丽莉，曾智辉，禹璐，吴建杰，王倩，孙伟，陈会娟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11