一种高速直台脊波导激光器芯片加工方法技术

本发明专利技术适用于光电子技术领域，提供了一种高速直台脊波导激光器芯片加工方法，包括：将完成脊波导结构制作的外延片置于具有温度可调节的托盘上；利用电子束蒸发SiO2，并在脊波导结构上生长SiO2达到预设时间后，控制托盘温度进行退火；在完成退火后，再次进行电子束蒸发SiO2，并依据预设时间周期性的完成电子束蒸发SiO2在脊波导结构上生长SiO2和控制托盘温度进行退火的操作，直到生成指定厚度SiO2薄膜后停止电子束蒸发SiO2。本发明专利技术实施例利用了电子束蒸发SiO2的方式改进了生长得到的SiO2层表面质量，并针对SiO2层中可能存在的应力，提出了将原本待生长指定厚度的SiO2，分离成多次生长和退火的过程，从而将应力有效的减小。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光电子
，尤其涉及。
技术介绍
传统的高速半导体激光器制作方法如下:利用PECVD法在脊波导结构上生长Si〇2层，涂覆苯并环丁烯BCB，通过光刻方法获得图形。然后通过采用反应离子刻蚀(Reactive1n Etching，简写为:RIE)设备进行大面积干法刻蚀BCB，只留双沟道里的BCB层，然后采用RIE刻蚀Si02层，露出电极接触窗口，完成P面电极制作；将外延片减薄后，完成N面电极制作。但是在实际应用中，发现利用PECVD法生成的Si02表面比较粗糙，并附带有不少裂纹，尤其是其在生长过程中存在的应力无法消除的问题，从而给高速半导体激光器制作方法中其他步骤带来了容易碎裂的问题，也给制造出的高速半导体激光器制作的工作稳定性带来了问题。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的在于提供，以解决现有技术的问题。本专利技术实施例是这样实现的，，所述方法包括:将完成脊波导结构制作的外延片置于具有温度可调节的托盘上，其中，所述托盘被安装在电子束蒸发室内；利用电子束蒸发Si02，并在所述脊波导结构上生长Si02达到预设时间后，控制所述托盘温度进行退火；在完成所述退火后，再次进行电子束蒸发Si02，并依据所述预设时间周期性的完成所述电子束蒸发Si02在所述脊波导结构上生长Si02和控制所述托盘温度进行退火的操作，直到生成指定厚度Si02薄膜后停止电子束蒸发Si02。优选的，所述托盘的温度调节范围为0_800°C，则所述控制所述托盘温度进行退火，具体实现为:获取当前脊波导结构表面生长的Si02温度T;控制所述托盘升温到区间，退火时间控制在分钟。优选的，所述预设时间具体根据每次退火时可新生成的Si02厚度和电子束生长Si02的速率计算得到。优选的，在生长Si02达到指定厚度后，在所述电子束蒸发室内填充Ar和N2的氛围下，进行等离子体处理，其中，气压控制在3_6Pa。优选的，所述等离子体处理具体采用DM450C系统的离子轰击装置。优选的，在生长完指定Si02厚度后，所述方法还包括:在Si02层上继续涂敷光刻胶，进行90°C固化；利用光刻机完成电极窗口的光刻；曝光显影钝化，形成光刻胶图形；利用曝光显影形成光刻胶做掩蔽，用CF4和02气体刻蚀Si02层，形成电流注入通道；完成P面电极制作；将外延片背面减薄为ΙΟΟμπι，再制作N面电极。优选的，在生长Si02过程中，所述电子束蒸发室内填充有指定量高纯02。优选的，在生长Si02过程中，所述电子束蒸发室的真空度维持在4X 10—2Pa_6 X 10—2Pa。本专利技术实施例提供的的有益效果包括:本专利技术实施例利用了电子束蒸发Si02的方式改进了生长得到的Si02层表面质量，并针对Si02层中可能存在的应力，提出了将原本待生长指定厚度的Si02，分离成多次生长和退火的过程，从而将应力有效的减小。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种现有的PECVD法制备Si02膜的效果示意图；图2是本专利技术实施例提供的的流程示意图；图3是本专利技术实施例提供的的流程示意图；图4是本专利技术实施例提供的的流程示意图；图5是本专利技术实施例提供的一种高速半导体激光器基本结构示意图；图6是本专利技术实施例提供的一种钝化层上涂敷光刻胶的结构示意图；图7是本专利技术实施例提供的一种光刻胶曝光显影后的结构示意图；图8是本专利技术实施例提供的一种用CF4和02气体刻蚀Si02后的结构示意图；图9是本专利技术实施例提供的一种基于电子束蒸发经Ar等离子体处理制备Si02膜的效果示意图；图10是本专利技术实施例提供的一种可调节温度的托盘结构示意图。【具体实施方式】为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。为了说明本专利技术所述的技术方案，下面通过具体实施例来进行说明。实施例一如图2所示为本专利技术提供的，所述方法包括:在步骤201中，将完成脊波导结构制作的外延片置于具有温度可调节的托盘上，其中，所述托盘被安装在电子束蒸发室内。在步骤202中，利用电子束蒸发Si02，并在所述脊波导结构上生长Si02达到预设时间后，控制所述托盘温度进行退火。在步骤203中，在完成所述退火后，再次进行电子束蒸发Si02，并依据所述预设时间周期性的完成所述电子束蒸发Si02在所述脊波导结构上生长Si02和控制所述托盘温度进行退火的操作，直到生成指定厚度Si02薄膜后停止电子束蒸发Si02。本专利技术实施例利用了电子束蒸发Si02的方式改进了生长得到的Si02层表面质量，并针对Si02层中可能存在的应力，提出了将原本待生长指定厚度的Si02，分离成多次生长和退火的过程，从而将应力有效的减小。在本专利技术实施例中，所述托盘的温度调节范围为0_800°C，则在步骤202中所执行的控制所述托盘温度进行退火的步骤内容，具体实现为:获取当前脊波导结构表面生长的Si02温度T;在具体实现方式中，该温度T通常为100-500。。。控制所述托盘升温到区间，退火时间控制在分钟。如图10所示，所述托盘包括托盘架20，所述托盘架20上设置有夹具槽21，用于为固定外延片的夹具提供固定槽;所述托盘架20上还设置有可温控加热丝22。在可选的方案中，所述托盘架除了可以利用所述夹具槽21固定外延片的方式，还可以利用设置吸盘空23，利用吸附的方式固定外延片。在本专利技术实施例中，所述预设时间具体根据每次退火时可新生成的Si02厚度和电子束生长Si02的速率计算得到。在本专利技术实施例中，存在一种优选的实现方案，其中，在生长Si02达到指定厚度后，在所述电子束蒸发室内填充Ar和犯的氛围下，进行等离子体处理，其中，气压控制在3-6Pa。在实际操作中，所述等离子体处理通常当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高速直台脊波导激光器芯片加工方法，其特征在于，所述方法包括：将完成脊波导结构制作的外延片置于具有温度可调节的托盘上，其中，所述托盘被安装在电子束蒸发室内；利用电子束蒸发SiO2，并在所述脊波导结构上生长SiO2达到预设时间后，控制所述托盘温度进行退火；在完成所述退火后，再次进行电子束蒸发SiO2，并依据所述预设时间周期性的完成所述电子束蒸发SiO2在所述脊波导结构上生长SiO2和控制所述托盘温度进行退火的操作，直到生成指定厚度SiO2薄膜后停止电子束蒸发SiO2。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：罗飚，汤宝，王任凡，刘应军，
申请(专利权)人：武汉电信器件有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42