本发明专利技术涉及薄膜生产领域，尤其涉及一种原膜基材的清洗装置，包括清洗机和烘干机，所述烘干机设置在清洗机之后，所述清洗机包括溶剂槽、清洗辊和过滤机构，所述溶剂槽包括内槽和外槽，所述内槽盛满清洗溶剂，所述外槽里的清洗溶剂液面低于内槽壁，所述清洗辊为PVA海绵辊，下部浸泡在内槽的清洗溶剂里，上部与原膜基材接触，所述过滤机构包括依次连接的入口、滤芯、水泵和出口，所述入口连接外槽底部，所述出口设置在内槽里。本发明专利技术结构合理，不但可清除原膜基材上的大小粉尘，而且可处理原膜基材表面析出的小分子成分，同时还能降低原膜基材内部的静电，避免对后续工序的影响，减少质量问题的产生，节约成本，确保高档产品品质。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及薄膜生产领域，尤其涉及一种原膜基材的清洗装置。
技术介绍
目前，PET广泛运用在光学产品上，对基膜的洁净度要求非常高。由于很难保证基膜的生产环境完全无尘以及基膜完全无静电，故基膜在生产过程中，多多少少会吸附一些颗粒，另一方面在Β0ΡΕΤ基膜生产过程中由于高温作用所产生的低分子量物质易在膜面形成低聚物，基膜表面吸附的这些物质会影响到后续加工工序，产生产品质量问题，造成合格率低下，增加了产品成本，若没及时发现问题则会影响最终产品的质量。上述问题无法在PET生产线上得到完全解决，有公司采用触媒的方式进行处理，但技术保密且成本昂贵。目前主要采用的是离线处理技术，大体分为三种方式:1、粘尘辊技术:利用胶辊吸附细小粉尘的特点处理，但无法材料基膜表面几个微米以下大小的粉尘；2、超声波技术:利用超声波振动，然后利用洁净空气排除，同样无法处理小颗粒粉尘；3、光学处理方式:利用光学原理分解小分子成分的杂物，但无法分解颗粒稍大的粉尘，并且分解有一定局限性。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种原膜基材的清洗装置，以解决现有基膜生产中颗粒和低聚物影响后工序加工质量的问题。为了实现上述的目的，采用如下的技术方案。一种原膜基材的清洗装置，包括清洗机和烘干机，所述烘干机设置在清洗机之后，所述清洗机包括溶剂槽、清洗辊和过滤机构，所述溶剂槽包括内槽和外槽，所述内槽盛满清洗溶剂，所述外槽里的清洗溶剂液面低于内槽壁，所述清洗辊为PVA海绵辊，下部浸泡在内槽的清洗溶剂里，上部与原膜基材接触，所述过滤机构包括依次连接的入口、滤芯、水栗和出口，所述入口连接外槽底部，所述出口设置在内槽里。所述清洗辊为PVA海绵辊，下部吸取清洗溶剂，然后转动到上部清洗原膜基材，清洗后将颗粒带到清洗溶剂液面上。由于水栗的工作，内槽的液面上升，颗粒随着清洗溶剂流向外槽，由外槽底部进入过滤机构被滤芯过滤，过滤后的清洗溶剂又通过水栗返回到内槽里。而原膜基材经过清洗后，进入烘干机进行烘干，避免残留的清洗溶剂影响后续的电晕、上胶、复合等工作。PVA海绵辊吸取清洗溶剂的能力强，耐酸性碱性，有助于提高清洗效果。所述清洗机还包括挤压辊，所述挤压辊设置在内槽上方并与清洗辊接触，接触位置位于清洗辊转出清洗溶剂之后、接触原膜基材之前。挤压辊主要用于挤出清洗辊表面过量的清洗溶剂，可调节对清洗辊的压力。所述清洗机还包括擦拭辊，所述擦拭辊设置在外槽的清洗溶剂液面上方，位于清洗辊之后，上部与原膜基材接触。擦拭辊负责吸收清洗后残留在基材表面的较大量清洗溶剂，可对擦拭辊辊芯施加一定的负压，使得擦拭辊外表面的溶剂可以渗透入辊芯，保持擦拭辊的干燥效率。所述擦拭辊为PVA海绵辊，有助于提高擦干效果，回收清洗溶剂。所述过滤机构的出口设置在清洗辊附近并对准清洗辊，此时出口除了将过滤后的清洗溶剂排入内槽，还能借助水栗的冲力对清洗辊表面进行冲洗，有助于将粘在清洗辊表面的颗粒冲洗下来。所述烘干机包括上风机和下风机，分别位于原膜基材的上方和下方并对准原膜基材。上下风机吹出热风，下风机主要负责干燥原膜基材，上风机主要负责给原膜基材上方施加一定压力，与下风机相对的上风机用于与下风机对抗，防止原膜基材在烘干机内的张力异常，与导辊相对的上风机则用于使原膜基材贴合导辊表面，防止擦伤。与现有技术相比，本专利技术结构合理，利用PVA海绵辊对原膜基材进行清洗，又利用内外槽与过滤机构配合使清洗溶剂保持清洁，不但可清除原膜基材上的大小粉尘，而且可处理原膜基材表面析出的小分子成分，同时还能降低原膜基材内部的静电，避免对后续工序的影响，减少质量冋题的广生，节约成本，将广品成品率提尚8%以上，确保尚档广品品质。【附图说明】图1为本专利技术的结构示意图。【具体实施方式】下面结合附图对本专利技术作进一步的描述。本专利技术的结构如图1所示，包括清洗机和烘干机6，烘干机6设置在清洗机之后。清洗机包括溶剂槽1、清洗辊2和过滤机构3。溶剂槽1包括内槽11和外槽12，内槽11盛满清洗溶剂，外槽12里的清洗溶剂液面低于内槽11壁，清洗辊2采用PVA海绵辊，下部浸泡在内槽11的清洗溶剂里。过滤机构3包括入口 31、滤芯32、水栗33和出口 34，入口 31连接外槽12底部，出口 34设置在内槽11里。烘干机6包括上风机61和下风机62。工作时，清洗辊2下部吸取清洗溶剂，经过挤压辊4挤压掉过多的清洗溶剂后转动到上部，原膜基材8在多个导辊7的作用下传动，与清洗辊2接触时被清洗，然后经过擦拭辊5吸干残留的大部分清洗溶剂，还有残留的清洗溶剂会在进入烘干机6内被下风机62的热风吹干，完成整个清洗过程。【主权项】1.一种原膜基材的清洗装置，其特征在于，包括清洗机和烘干机，所述烘干机设置在清洗机之后，所述清洗机包括溶剂槽、清洗辊和过滤机构，所述溶剂槽包括内槽和外槽，所述内槽盛满清洗溶剂，所述外槽里的清洗溶剂液面低于内槽壁，所述清洗辊为PVA海绵辊，下部浸泡在内槽的清洗溶剂里，上部与原膜基材接触，所述过滤机构包括依次连接的入口、滤芯、水栗和出口，所述入口连接外槽底部，所述出口设置在内槽里。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗机还包括挤压辊，所述挤压辊设置在内槽上方并与清洗辊接触，接触位置位于清洗辊转出清洗溶剂之后、接触原膜基材之前。3.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗机还包括擦拭辊，所述擦拭辊设置在外槽的清洗溶剂液面上方，位于清洗辊之后，上部与原膜基材接触。4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述擦拭辊为PVA海绵辊。5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述过滤机构的出口设置在清洗辊附近并对准清洗辊。6.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述烘干机包括上风机和下风机，分别位于原膜基材的上方和下方并对准原膜基材。【专利摘要】本专利技术涉及薄膜生产领域，尤其涉及一种原膜基材的清洗装置，包括清洗机和烘干机，所述烘干机设置在清洗机之后，所述清洗机包括溶剂槽、清洗辊和过滤机构，所述溶剂槽包括内槽和外槽，所述内槽盛满清洗溶剂，所述外槽里的清洗溶剂液面低于内槽壁，所述清洗辊为PVA海绵辊，下部浸泡在内槽的清洗溶剂里，上部与原膜基材接触，所述过滤机构包括依次连接的入口、滤芯、水泵和出口，所述入口连接外槽底部，所述出口设置在内槽里。本专利技术结构合理，不但可清除原膜基材上的大小粉尘，而且可处理原膜基材表面析出的小分子成分，同时还能降低原膜基材内部的静电，避免对后续工序的影响，减少质量问题的产生，节约成本，确保高档产品品质。【IPC分类】B01D65/02【公开号】CN105413474【申请号】CN201510932181【专利技术人】尹峰, 刘煜纯, 谢庆坚, 陈宏 【申请人】广东可逸智膜科技有限公司【公开日】2016年3月23日【申请日】2015年12月15日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种原膜基材的清洗装置，其特征在于，包括清洗机和烘干机，所述烘干机设置在清洗机之后，所述清洗机包括溶剂槽、清洗辊和过滤机构，所述溶剂槽包括内槽和外槽，所述内槽盛满清洗溶剂，所述外槽里的清洗溶剂液面低于内槽壁，所述清洗辊为PVA海绵辊，下部浸泡在内槽的清洗溶剂里，上部与原膜基材接触，所述过滤机构包括依次连接的入口、滤芯、水泵和出口，所述入口连接外槽底部，所述出口设置在内槽里。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：尹峰，刘煜纯，谢庆坚，陈宏，
申请(专利权)人：广东可逸智膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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