掩模框架组件及其制造方法技术

本发明专利技术公开了掩模框架组件及其制造方法。本发明专利技术包括具有开口部和围绕所述开口部的支承部的框架、在与所述开口部对应的位置包括沉积区域的掩模以及可旋转地设置到所述支承部并且与所述掩模连接的位置固定部。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施方式涉及用于薄膜沉积的掩模框架组件以及该掩模框架组件的制造方法。
技术介绍
通常，作为有源发光型显示元件，作为平坦式显示器之一的有机发光显示装置不仅具有视角宽、对比度优异的优点，而且还具有能够通过低电压驱动、呈轻量的扁平状并且响应速度快的优点，由此作为下一代显示元件而备受瞩目。这种发光元件根据形成发光层的物质划分为无机发光元件和有机发光元件，并且相比于无机发光元件，有机发光元件具有亮度、响应速度等特性优秀、能够以彩色显示等的优点，因此对其的开发最近广为进行。有机发光显示装置通过真空沉积法形成有机膜和/或电极。然而，随着有机发光显示装置逐渐被高分辨率化，沉积工艺中所用的掩模的开放式狭缝(open slit)的宽度逐渐变窄并且其散布也需要被进一步减小。此外，为了制造高分辨率有机发光显示装置，需要减少或去除阴影现象(shadoweffect) ο为此，目前在衬底与掩模紧贴的状态下进行沉积工艺，并且正在兴起用于改善衬底与掩模的附接度的技术的开发。上述的
技术介绍
是专利技术人为得出本专利技术而拥有的技术信息或者在得出本专利技术的过程中习得的技术信息，并不一定是在本专利技术的申请前已公开于一般公众的公知技术。
技术实现思路
本专利技术的实施方式提供。根据本专利技术的一方面，提供掩模框架组件，所述掩模框架组件包括具有开口部和围绕所述开口部的支承部的框架、在与所述开口部对应的位置包括沉积区域的掩模、和可旋转地设置到所述支承部并且与所述掩模连接的位置固定部。此外，所述掩模框架组件还可以包括供所述位置固定部的至少一部分插入并且接合到所述框架的支承件。此外，所述位置固定部可以包括多个凸出部，其中，所述多个凸出部中的一个凸出部可以与所述掩模接合，所述多个凸出部中的另一个凸出部可以被插入到所述支承件的锁定槽中。此外，所述位置固定部可以包括固定到所述支承部的轴和具有多个凸出部的轮，其中，所述轴插入到所述轮中。此外，所述凸出部可以所述轴为中心形成为放射形。此外，所述位置固定部可以沿着所述框架布置为多个。此外，所述支承件可以相对于所述框架进行线性运动。此外，所述支承件可以包括形成有供所述位置固定部的至少一部分插入的锁定槽的基体部、布置在所述基体部与所述框架之间的弹性部、和一部分插入到所述框架中并且贯通所述基体部和所述弹性部的固定部件。此外，所述弹性部可以在其压缩方向的相反方向上形成排斥力。此外，如果调节所述锁定槽的高度，则所述位置固定部可以进行旋转以调节所述掩模的张力。根据本专利技术的另一方面，提供掩模框架组件，所述掩模框架组件包括具有开口部和围绕所述开口部的支承部的框架、在与所述开口部对应的位置包括沉积区域的掩模、可旋转地设置到所述框架并且与所述掩模接合的位置固定部、和与所述框架接合并且通过相对于所述框架上下运动来旋转所述位置固定部的支承件，此外，所述位置固定部可以包括多个凸出部，其中，所述多个凸出部中的一个凸出部可以与所述掩模接合，所述多个凸出部中的另一个凸出部可以被插入到所述支承件的锁定槽中。此外，所述支承件可以包括形成有供所述位置固定部的一部分插入的锁定槽的基体部、布置在所述基体部与所述框架之间的弹性部、和一部分插入到所述框架中并且贯穿所述基体部和所述弹性部的固定部件。此外，如果调节所述锁定槽的高度，则所述位置固定部可以进行旋转以调节所述掩模的张力。此外，所述弹性部可以在其压缩方向的相反方向上形成排斥力。此外，所述支承件可以在所述框架的外侧布置成与所述位置固定部对应。根据本专利技术又另一方面，提供掩模框架组件制造方法，所述方法包括将包括多个凸出部的位置固定部设置在框架的凹槽中的步骤；将所述位置固定部的所述多个凸出部中的第一凸出部与掩模的边缘部焊接并接合的步骤；以及将所述多个凸出部中的、不同于所述第一凸出部的第二凸出部插入到支承件的锁定槽中以固定所述位置固定部的步骤。此外，所述方法还可以包括为了替换所述掩模，将与所述第一凸出部相邻的第三凸出部与替换的掩模的边缘部接合并且将与所述第二凸出部相邻的第四凸出部插入到所述锁定槽中以固定所述位置固定部的步骤。此外，所述方法还可以包括使所述支承件相对于所述框架上下运动来旋转所述位置固定部以调节所述掩模的张力的步骤。通过权利要求范围和专利技术的详细说明，除了上述以外的其他方面、特征、优点将变得明确。根据本专利技术的实施方式，通过最小化替换掩模时所产生的之间的间隔从而可以将有机发光元件精密地形成在衬底上。【附图说明】图1是示出根据本专利技术的实施方式的掩模框架组件的立体图。图2是沿图1的I1-1I取得的剖视图。图3是放大示出图2的A的局部剖视图。图4是示出根据本专利技术的另一实施方式的掩模框架组件的剖视图。图5a、5b和5c是放大示出图4的B的局部剖视图。图6是示出使用根据本专利技术的实施方式的掩模框架组件沉积的有机发光显示装置的一个子像素的剖视图。【具体实施方式】本专利技术可以实施多种变型并且可以具有多种实施方式，并且旨在附图中示出特定实施方式并对其进行详细说明。通过参照结合附图详细说明的实施方式，本专利技术的效果和特征以及实现其的方法将变得明确。然而，本专利技术并不限于下面所公开的实施方式，而是可以多种形态实现。在下面的实施方式中，“第一”、“第二”等的措辞并不具有限定的含义，而是以将一个构成要素与其他构成要素区分开的目的使用。此外，除非文中另有明确指示，否则单数的表述包括复数的表述。此外，“包括”或“具有”等的措辞是指说明书中所述记载的特征或构成要素的存在，而不是提前排除一个以上的其他特征或构成要素的附加可能性。此外，为了说明的便利，附图中构成要素的大小可以被夸大或被缩小。例如，为了说明的便利，附图中所示的各构件的大小和厚度被任意示出，因此本专利技术并不一定限定于图中所示。此外，当能够以不同的方式实现某些实施方式时，特定的工艺可以按照与所说明的顺序不同的顺序执行。例如，连续说明的两个工艺可以实质上同时执行，也可以按照与所说明的顺序相反的顺序进行。下面，将参照附图对本专利技术的实施方式进行详细说明，并且在参照附图进行说明时，将对相同或对应的构成要素赋予相同的附图标记，并且将省略对其的重复描述。图1是示出根据本专利技术的实施方式的掩模框架组件100的立体图，图2是沿图1的I1-1I取得的剖视图，图3是放大示出图2的A的局部剖视图。参照图1至图3，掩模框架组件100可以包括框架110、掩模120和位置固定部130。框架110可以与掩模120接合以支承掩模120。框架110可以包括可使沉积物质通过的开口部和形成于开口部的外侧的支承部。框架110可以由金属或合成树脂等制成，并且形成为四边形形状并具有一个以上的开口部，但是实施方式的思想并不限于此，而是可以形成为圆形或六边形等多种形态。但是，为了说明的便利，下文中将主要对包括四边形形状的支承部的框架110进行说明。框架110是与掩模120的边缘部123接触的部分。框架110可以包括供位置固定部130设置的凹槽111。凹槽111可设置为多个，并且其布局可以是多种形式的。例如，可以在框架110的每条边上各形成一个凹槽111，或者可以在框架110的每条边上各形成多个凹槽111。掩模120可以包括沉积区域121和形成于沉积区域121的外侧的边缘部123。沉积区域121可以包括沉积用图案部122。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模框架组件，包括：框架，包括开口部和围绕所述开口部的支承部；掩模，在与所述开口部对应的位置包括沉积区域；以及位置固定部，可旋转地设置到所述支承部，并且与所述掩模连接。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：韩政洹，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR