光学膜制造用初始膜制造技术

[课题]提供光学膜制造用初始膜以及使用了其的光学膜的制造方法，所述光学膜制造用初始膜的拉伸性优异且能够生产率良好地制造光学膜，并且能够容易地制造光学特性和色相均优异的光学膜。[解决方案]光学膜制造用初始膜，其包含含羟甲基的乙烯醇系聚合物，所述含羟甲基的乙烯醇系聚合物包含乙烯醇单元和下述式（1）所示的结构单元；以及，光学膜的制造方法，其具备使用该光学膜制造用初始膜进行单轴拉伸的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于制造偏光膜等光学膜的初始膜（origialfilm)、以及使用了该初 始膜的光学膜的制造方法，所述初始膜包含：具有1，3-二醇结构的含羟甲基的乙烯醇系聚 合物。
技术介绍
具有透光和遮光功能的偏振板与用于改变光的偏振光状态的液晶均是液晶显示 器（LCD)的基本构成要素。多种偏振板具有在偏光膜的表面贴合有三醋酸纤维素（TAC)膜 等保护膜的结构，作为构成偏振板的偏光膜，使将乙烯醇系聚合物膜（以下有时将"乙烯醇 系聚合物"称为"PVA"）进行单轴拉伸而成的基体吸附碘系色素（13、15等)、双色性有机染 料之类的双色性色素而得到的偏光膜成为主流。IXD逐渐应用于计算器和腕表等小型仪器、手机、笔记本电脑、液晶显示器、液晶彩 色投影仪、液晶电视、车载用导航系统、室内外使用的计量仪器等广大的范围，近年来，尤其 是要求显示品质的高级化。与此相伴，对偏光膜也要求高级化，具体而言，要求偏振度、透射 度高、光学特性优异、且色相也优异的偏光膜。 然而，已知若干种包含改性PVA的光学膜制造用初始膜。例如已知的是，由含有 〇. 〇1~1摩尔％的羧酸基、ω-羟基-α-烯烃基等亲水性官能团的特定PVA形成的偏光膜的 初始用聚乙烯醇膜的拉伸?取向处理性和双色性物质的吸附处理性优异(参照专利文献1 等)。另外已知的是，包含在侧链含有1，2-二醇键的特定PVA的特定光学用PVA膜的光学 特性和拉伸性优异(参照专利文献2)。现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开平8-201626号公报 专利文献2 :日本特开2009-24076号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的课题 然而，使用了现有已知的包含改性PVA的光学膜制造用初始膜时，从获得光学特性和 色相均优异的光学膜这一点出发，还存在改善的余地。另外，在此基础上，使用了现有公知 的包含改性PVA的光学膜制造用初始膜时，尤其是连续制造光学膜时等，依然容易发生拉 伸断裂等故障，从光学膜的生产率这一点出发，还存在改善的余地。因而，本专利技术的目的在于，提供光学膜制造用初始膜以及使用了其的光学膜的制 造方法，所述光学膜制造用初始膜的拉伸性优异且能够生产率良好地制造光学膜，并且能 够容易地制造光学特性和色相均优异的光学膜。 用于解决问题的手段 本专利技术人等为了实现上述目的而重复进行了深入研究，结果发现：根据包含含羟甲基 PVA的膜而能够解决上述课题，所述含羟甲基PVA的主链包含具有1，3-二醇结构的特定结 构单元，基于该见解而进一步重复研究，从而完成了本专利技术。SP，本专利技术涉及如下内容： 光学膜制造用初始膜，其包含含羟甲基PVA，所述含羟甲基PVA包含乙烯醇单元和 下述式（1)所示的结构单元； 根据所述的光学膜制造用初始膜，其中，前述含羟甲基PVA中的前述式（1)所 示的结构单元的含有率为〇. 1~2摩尔％ ; 根据或所述的光学膜制造用初始膜，其中，前述含羟甲基PVA还包含乙烯 单元； 根据所述的光学膜制造用初始膜，其中，前述含羟甲基PVA中的乙烯单元的含 有率为1~4摩尔％ ; 根据~中任一项所述的光学膜制造用初始膜，其中，前述含羟甲基PVA的皂 化度为95摩尔％以上； 根据~中任一项所述的光学膜制造用初始膜，其为偏光膜制造用初始膜； 光学膜的制造方法，其具备：使用~中任一项所述的光学膜制造用初始膜 进行单轴拉伸的工序。 专利技术的效果 根据本专利技术，提供光学膜制造用初始膜以及使用了其的光学膜的制造方法，所述光学 膜制造用初始膜的拉伸性优异且能够生产率良好地制造光学膜，并且能够容易地制造光学 特性和色相均优异的光学膜。【具体实施方式】 本专利技术的光学膜制造用初始膜包含含羟甲基PVA，所述含羟甲基PVA包含乙烯醇 单元和下述式（1)所示的结构单元。 本专利技术的光学膜制造用初始膜中包含的含羟甲基PVA通过包含上述式（1)所示的 具有1，3-二醇结构的结构单元，因而拉伸性提高。另外，在此基础上，根据本专利技术的光学膜 制造用初始膜，能够容易地制造光学特性和色相均优异的光学膜。本专利技术不受任何限定， 作为能够获得上述优点的原因，可以认为：结晶性因式（1)所示结构单元而降低、以及基于 1，3-二醇结构的高氢键力所带来的影响。 含羟甲基PVA中的式（1)所示结构单元的含有率没有特别限定，将构成含羟甲基 PVA的全部结构单元的摩尔数记作100摩尔％，优选在0. 1~2摩尔％的范围内、更优选在 0. 2~1. 9摩尔％的范围内、进一步优选在0. 3~1. 8摩尔％的范围内。通过使该含有率为0. 1 摩尔％以上，膜的拉伸性进一步提高，另外，能够获得色相更优异的光学膜。另一方面，通过 使该含有率为2摩尔％以下，能够更有效地防止制造光学膜时的膜的溶解，另外，能够获得 光学特性更优异的光学膜。需要说明的是，本说明书中，结构单元是指构成聚合物的重复单 JL· 〇含羟甲基PVA的聚合度优选在1，500~6, 000的范围内、更优选在1，800~5, 000的 范围内、进一步优选在2, 000~4, 000的范围内。通过使该聚合度为1，500以上，能够进一步 提高将膜进行单轴拉伸而得到的偏光膜等光学膜的耐久性。另一方面，通过使该聚合度为 6, 000以下，能够抑制制造成本的上升、制膜时的工序通过性的不良等。需要说明的是，本说 明书中的含羟甲基PVA的聚合度是指基于JISK6726-1994的记载而测定的平均聚合度。 从将膜进行单轴拉伸而得到的偏光膜等光学膜的耐水性的观点出发，含羟甲基 PVA的阜化度优选为95摩尔％以上、更优选为96摩尔％以上、进一步优选为98摩尔％以 上。需要说明的是，本说明书中的含羟甲基PVA的皂化度是指：含羟甲基PVA中具有的乙 稀醇单元的摩尔数相对于通过阜化而能够转换成乙稀醇单元（-CH2-CH(0H)-)的结构单元 (典型而言为乙烯酯单元）与该乙烯醇单元的总摩尔数的比例(摩尔％)。该皂化度也可以考 虑式（1)所示结构单元、其衍生物的量并基于JISK6726-1994的记载来进行测定。 含羟甲基PVA的制造方法没有特别限定。例如可列举出如下方法：将乙烯酯系单 体与能够和其共聚且能够转换成式（1)所示结构单元的不饱和单体进行共聚，将所得乙烯 酯系共聚物的乙烯酯单元转换成乙烯醇单元，另一方面，将源自能够转换成式（1)所示结构 单元的不饱和单体的结构单元转换成式（1)所示结构单元的方法。能够转换成式（1)所示 结构单元的不饱和单体的具体例示于以下的式（2)。式（2)中，R表示碳原子数1~10的烷基。作为R的结构，没有特别限定，一部分可以具 有分枝、环状结构。另外，一部分可以被其它官能团取代。R优选为碳原子数1~5的烷基， 作为该烷基的例子，可列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基等 直链烷基或具有支链的烷基。另外，作为R可以具有的取代基，可列举出烷氧基、卤原子、羟 基等。需要说明的是，多个存在的R彼此相同或不同均可。 作为式（2)所示的不饱和单体，可列举出例如1，3-二乙酰氧基-2-亚甲基丙烷、 1，3-二丙酰氧基-2-亚甲基丙烷、1，3-二丁酰氧基-2-亚甲基丙烷等。其中，从制造容易 性的观点来看，优选使用1，3-二乙酰氧基-2-亚甲基丙烷。 一般来说，与P本文档来自技高网...

【技术保护点】
光学膜制造用初始膜，其包含含羟甲基的乙烯醇系聚合物，所述含羟甲基的乙烯醇系聚合物包含乙烯醇单元和下述式（1）所示的结构单元，[化1]。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：高藤胜启，矶崎孝德，
申请(专利权)人：株式会社可乐丽，
类型：发明
国别省市：日本;JP