【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本申请要求享有分别于2014年9月26日和2014年6月30日提交的韩国专利申请第10-2014-0129209和10-2014-0080490号的优先权和权益,并将其公开的全部内容通过引用方式并入本文。本专利技术涉及一种偏光板的制造方法以及通过使用该方法制造的偏光板,更具体而言,本申请涉及一种具有局部去偏光区域以适用于如摄像头模块和形成颜色等的部件的设备的偏光板,以及用于制造该偏光板的方法。
技术介绍
偏光板被应用于各种显示装置,例如液晶显示器和有机电致发光装置。近来,主要使用的偏光板是其中在PVA偏光片的一个表面或者两个表面上层压保护膜的形式:其中所述PVA偏光片通过以下制造:通过在基于聚乙烯醇(以下称为PVA)的膜上染色碘和/或二向色性染料,然后通过使用硼酸等交联碘和/或二向色性染料,之后拉伸的方法取向。同时,现今存在显示装置向更薄发展的趋势,而且为了实现大屏幕,显示装置的开发趋势还有不显示屏幕的边框部分和使边缘处的厚度最小化。此外,为了实现各种功能,如摄像头的部件倾向于被装备在显示装置中,且考虑到设计因素,还做出各种努力以对产品的徽标或者边缘区域提供各种颜色,或者使产品的徽标或者边缘区域脱色。然而,在本领域中的偏光板的情况下,由于偏光板的整个区域由碘和/或二向色性染料染色,偏光板具有暗的黑色,结果,其问题在于难以对显示装置提供各种颜色,特别地,在偏光板位于如摄像头的部件上的情况下,由 >于偏光板吸收了50%以上的光量而减少了摄像头镜头的能见度。为了解决此问题,已商业化的方法是通过如冲孔或者切割的方法在偏光板的一部分穿孔(钻孔)而物理去除偏光板的覆盖摄像头镜头的一部分。然而,上述的物理方法劣化了图像显示器的外观,而可能由于穿孔工艺的特性而损坏偏光板。同时,为了防止如偏光板撕裂的损伤,偏光板的钻孔部分应当形成在足够远离角落的区域,结果,其问题在于,在应用偏光板的情况下,图像显示器的边框部分相对变宽了,这背离了当前图像显示器的更窄的边框的设计趋势。此外,其问题在于,如上所述,在摄像头模块装备在偏光板的钻孔部分中的情况下,由于摄像头镜头暴露于外部,在长期使用摄像头镜头时,摄像头镜头容易被污染和损坏。因此,为了克服上述问题,需要开发一种新的工艺,以提供用于在偏光片的局部区域脱色而不必钻孔以形成去偏光区域,且同时抑制可能在去偏光区域中出现的细纹和表面粗糙从而降低雾度的方法。
技术实现思路
【技术问题】本专利技术致力于解决上述问题,以提供一种偏光板,其中去除了偏光板的一些区域的偏光性,还提供制造该偏光板的方法,以及提供一种偏光板,其通过去除偏光性而同时没有如本领域一样进行物理穿孔,且同时,使去除偏光性的区域的皱纹最小化,从而具有优异的表面粗糙度和雾度。【技术方案】根据本专利技术的一个示例性实施方式,本专利技术提供了一种用于制造偏光板的方法,该方法包括:制备偏光板,其中,在以碘和二向色性染料的至少一种或多种染色的基于聚乙烯醇的偏光片的一个表面上层压保护膜;以及通过使包含1至30wt%的脱色剂的脱色溶液与所述偏光片的另一个表面局部接触而形成在400nm至800nm的范围内的波长段上具有80%以上的单体透射率的至少一个去偏光区域。此外,优选所述脱色剂包括选自氢氧化钠(NaOH)、硫氢化钠(NaSH),叠氮化钠(NaN3),氢氧化钾(KOH),硫氢化钾(KSH)和硫代硫酸钾(KS2O3)中的一种或多种。优选脱色溶液的pH值是11至14,且脱色溶液的粘度为1cP至2000cP。同时,优选所述脱色溶液进一步包括粘度剂,并且优选所述粘度剂包括选自基于聚乙烯醇的树脂,基于聚乙酰乙酸乙烯酯的树脂,基于由乙酰乙酰基改性聚乙烯醇的树脂,亚丁基二醇乙烯基醇类(butenediolvinylalcohols),基于聚乙二醇的树脂和基于聚丙烯酰胺的树脂。在这种情况下,优选的是该方法进一步包括在形成所述去偏光区域之后,通过使用醇或酸溶液进行洗涤。此外,必要时,本专利技术的制造方法可进一步包括在形成至少一个去偏光区域之后,在所述偏光板的至少一个表面上形成光学层。此外,该方法可以进一步包括,在形成去偏光区域之后,在所述偏光板的至少一个表面上形成光学层,且所述光学层可以是保护膜,延迟膜,亮度提高膜,硬涂层,防反射层,内聚层(cohesivelayer),粘合层,或它们的组合。此外,本专利技术提供了通过上述制造方法制造的偏光板,所述偏光板包括:由碘和二向色性染料的至少一种或多种染色的基于聚乙烯醇的偏光片,以及在所述基于聚乙烯醇的偏光片的至少一个表面上层压的保护膜,其中,所述偏光板局部具有去偏光区域,该去偏光区域在400nm至800nm范围内的波长段具有80%以上的单体透射率,且所述去偏光区域的算术平均粗糙度(Ra)为100nm以下。此外,优选的,所述去偏光区域的均方根粗糙度(Rq)是100nm以下。在这种情况下,在偏光片的去偏光区域中,偏光度可以是20%以下,并且去偏光区域以外的区域中,单体透射率可以是40%至45%,且偏光度可以是99%以上。此外,优选在偏光板的去偏光区域中的雾度是3%以下。在此情况下,优选地,在去偏光区域中,碘和二向色性染料的至少一种或多种的含量为0.1wt%至0.5wt%,且在去偏光区域以外的区域中,碘和二向色性染料的至少一种或多种的含量为1wt%至4wt%。根据上述制造方法的去偏光区域的面积和根据上述偏光板的去偏光区域的面积可以为0.5mm2以上以及500mm2以下。【有益效果】通过使脱色溶液与基于聚乙烯醇的偏光片的一些区域相接触以使相应的区域去偏光,本专利技术可以使偏光板的损伤,如孔和撕裂最小化。在使用通过上述方法制造的本专利技术的偏光板的情况下,即使偏光板装备在如摄像头的部件上,也不会发生亮度降低导致的问题。此外,在本专利技术的制造方法中,首先,在偏光片的一个表面上层压保护膜之后,进行脱色,且由此有可能提供这样的偏光板,其中,通过抑制在脱色工艺中偏光片吸收水分而溶胀,从而使细纹最小化,因而去偏光区域的表面粗糙度和雾度优异。附图说明图1是通过使用白光三维测量机拍摄实施例1的偏光板中的去偏光区域的表面而获得的3D图像(光学轮廓)。图2是通过使用白光三维测量机拍摄对比实施例1的偏光片中的去偏光区域的表面而获得的3D图像(光学轮廓)。具体实施方式以下将描述本专利技术的优选的示例性实施方式。然而,本专利技术的示本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于制造偏光板的方法,该方法包括:制备偏光板,其中,在以碘和二向色性染料的至少一种或多种染色的基于聚乙烯醇的偏光片的一个表面上层压保护膜;以及通过使包含1至30wt%的脱色剂的脱色溶液与所述偏光片的另一个表面局部接触而形成在400nm至800nm的范围内的波长段上具有80%以上的单体透射率的至少一个去偏光区域。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.06.30 KR 10-2014-0080490;2014.09.26 KR 10-2011.一种用于制造偏光板的方法,该方法包括:
制备偏光板,其中,在以碘和二向色性染料的至少一种或多种染色的基
于聚乙烯醇的偏光片的一个表面上层压保护膜;以及
通过使包含1至30wt%的脱色剂的脱色溶液与所述偏光片的另一个表面
局部接触而形成在400nm至800nm的范围内的波长段上具有80%以上的单
体透射率的至少一个去偏光区域。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述脱色剂包括选自氢氧化钠
(NaOH)、硫氢化钠(NaSH),叠氮化钠(NaN3),氢氧化钾(KOH),硫氢
化钾(KSH)和硫代硫酸钾(KS2O3)中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述脱色溶液的pH值为11至
14。
4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述脱色溶液的粘度为1cP至
2000cP。
5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述脱色溶液进一步包括粘度剂。
6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述粘度剂包括选自基于聚乙烯
醇的树脂,基于聚乙酰乙酸乙烯酯的树脂,基于由乙酰乙酰基改性的聚乙烯
醇的树脂,亚丁基二醇乙烯基醇类,基于聚乙二醇的树脂和基于聚丙烯酰胺
的树脂。
7.根据权利要求5所述的方法,其中,所述脱色溶液包括:基于总重量,
1wt至30wt%的脱色剂;0.5wt%至30wt%的粘度剂;以及余量的水。
8.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:
在形成去偏光区域之前,在所述偏光片的另一个表面上形成包含至少一
个钻孔部分的掩模层。
9.根据权利要求8所述的方法,其中,在形成掩模层中,在掩模膜的至
少一个区域中形成钻孔部分,并将所述掩模膜附着在所述偏光片的另一个表
面上。
10.根据权利要求8所述的方法,其中,在形成掩模层中,在偏光片的
另一个表面上形成涂布层,且可以选择性地去除所述涂布层的至少一个区域
以...
【专利技术属性】
技术研发人员:李炳鲜,金志映,南星铉,罗钧日,
申请(专利权)人:LG化学株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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