【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及过渡金属络合物在OLED中和在其他光电子设备中作为发射体的应用。
技术介绍
目前,在屏幕技术和照明
采用了新的方法。可以制造厚度低于0.5mm的平面显示器或发光面。这些方法的突出之处在于很多吸引人的特性。例如可以将发光面制造成具有非常小的能耗的壁纸(Tapete),并且能以非常小的重量和非常低的耗电制造具有目前为止不能实现的色牢度(Farb-Echtheit)、亮度和视角无关性的彩色屏幕。屏幕可以设计成微型显示器或具有数平米面积的刚性形式或柔性形式的大型屏幕,但也可以设计成透射显示器或反射显示器。此外,还可以使用简单且节省成本的制造方法,如丝网印刷或喷墨印刷。由此,与传统的平面屏幕相比可以实现非常经济的制造。这种新技术基于OLED,即有机发光二极管的原理。此外,很多新的光电子应用场合,例如在有机的场效应晶体管、有机光敏二极管等领域中的应用场合的突出之处就在于使用了特殊的金属有机材料(原子)。由此,特别是对于OLED领域已知,这种布置结构目前在经济上已经是重要的,因为已经开始进行批量制造。这种OLED主要包括多个有机层,这些有机层也可以灵活且经济地制造。OLED器件可以大面积地设计成发光体,但也可以较小地设计成显示器的像点。相对于传统技术,如例如液晶显示器(LCD)、等离子显示器或阴极射线管显示器(CRT),OLED具有很多的优点,如只有几伏特的小工作电压、只有几百nm的 ...
【技术保护点】
发光的过渡金属络合物,具有‑最低的三重态(T1)的发射,和‑高于最低的三重态(T1)的单重态(S1)的发射,其中,这些状态的占据处于热平衡,并且所述过渡金属络合物的优选至少3%的发射强度由所述三重态或所述单重态得到。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.06.19 DE 102013106426.41.发光的过渡金属络合物,具有
-最低的三重态(T1)的发射,和
-高于最低的三重态(T1)的单重态(S1)的发射,
其中,这些状态的占据处于热平衡,并且
所述过渡金属络合物的优选至少3%的发射强度由所述三重态或所述单
重态得到。
2.根据权利要求1所述的过渡金属络合物,其中,所述过渡金属络合
物在最低的三重态(T1)和位于其上的单重态(S1)之间具有小于2000cm-1,
优选小于1000cm-1,特别是优选小于300cm-1的能量差。
3.根据权利要求1或2所述的过渡金属络合物,其中,所述过渡金属
络合物最低的三重态具有亚态I、II、III的零场分裂,亚态III和I之间的能
量差ΔE(III-I)大于3cm-1、优选大于10cm-1,并且特别优选大于20cm-1。
4.根据权利要求1-3中任意一项所述的过渡金属络合物,其中,所述
过渡金属络合物具有小于100μs,优选小于50μs,更为优选小于20μs以及
特别优选小于5μs的最低三重态(T1)的放射性寿命。
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的过渡金属络合物,其中,所述
过渡金属络合物具有Cu(I)和/或Ag(I)中心离子。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的过渡金属络合物,其中,所述
过渡金属络合物具有至少一个多齿配体,所述多齿配体配合在过渡金属络合
物的中心离子上。
7.根据权利要求1-6中任意一项所述的过渡金属络合物,其中,所述
过渡金属络合物是单核、双核或多核的络合物,其中绕金属中心的配位是三
重或多重的。
8.根据权利要求1-7中任意一项所述的过渡金属络合物,其中,所述
过渡金属络合物具有金属到配体的电荷转移跃迁,其中所述MLCT状态具
有:
-具有显著的d轨道特性的HOMO分量,所述d轨道在双核或多核的
络合物中由多个中心离子实现;以及
-LUMO分量,它基本上由配体的π*轨道组成,所述配体在双核或多核
的络合物中键合在多个中心离子上。
9.根据权利要求1-8中任意一项所述的过渡金属络合物在光电子装置
中的应用,特别是用于发射光。
10.根据权利要求9所述的应用,其中,在光电子装置中的发射层具有
根据权利要求1-5中任意一项的过渡金属络合物,发射层中所述过渡金属络
合物的浓度为2重量%至100重量%。
11.光电子装置,该光电子装置具有根据权利要求1-8中任意一项所述
的过渡金属络合物。
12.根据权利要求11所述的装置,其中,过渡金属络合物在发射层或
吸收层中的比例关于发射层的总重量为2-100重量%,优选为20-80重量%。
13.根据权利要求11...
【专利技术属性】
技术研发人员:H·耶尔森,M·莱特尔,R·切尔维涅茨,U·蒙科维乌斯,
申请(专利权)人:辛诺拉有限公司,
类型:发明
国别省市:德国;DE
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