一种阴极电弧蒸发源靶座制造技术

本发明专利技术属于电弧蒸发源技术领域，具体涉及一种方便靶材安装拆卸的阴极电弧蒸发源靶座。一种阴极电弧蒸发源靶座包括由铜制成的靶座，靶座内部设有空腔，在靶座侧表面下端设有螺纹、其上表面中心设有中心螺纹孔。本发明专利技术优点在于，可使用厚度较薄的靶材，靶材安装、拆卸更方便，冷却效果好，生产效率大幅度提高，节约了镀层材料，降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于电弧蒸发源
，具体涉及一种方便靶材安装拆卸的阴极电弧蒸发源靶座。
技术介绍
适用于切削刀具、注塑模具和发动机耐磨零部件的硬质涂层，其一种重要制备方法为多弧离子镀。离子镀是在真空条件下，利用气体放电使得气体和蒸发物质离化，在气体和蒸发物离子轰击的同时将蒸发物或者反应物沉积在基片上的沉积技术，多弧离子镀技术是离子镀的一种改进方法，是依靠阴极电弧源蒸发离子来进行沉积的技术，其实用性强，且具有成膜速率高，膜层致密，膜基结合力强等优良特点。阴极电弧蒸发源是多弧离子镀的核心部分，涂镀不同的硬质涂层材料需要更换相应的靶材，而每次镀层生产完成后也需要拆卸靶材称重，以精确控制涂层工艺。目前，靶材直接安装于阴极电弧蒸发源上，不仅不便于安装拆卸，还会造成靶材的浪费。因此，需要一种特制的阴极电弧蒸发源靶座来满足快速安装拆卸靶材的要求。
技术实现思路
针对上述技术问题，本专利技术提供一种便于靶材安装拆卸的阴极电弧蒸发源靶座。实现本专利技术的技术方案如下:一种阴极电弧蒸发源靶座包括由铜制成的靶座，靶座内部设有空腔，在靶座侧表面下端设有螺纹、其上表面中心设有中心螺纹孔。进一步讲,祀座上表面厚度不大于1CM。还可以，靶座内部空腔设有支撑，支撑一端设在靶座上表面内壁上、另一端设在靶座侧表面内壁上。进一步讲，靶座侧表面下端部设有缺口，螺纹设在缺口底部。本专利技术的有益效果在于:靶材通过靶座中心螺纹孔快速安装在靶座上或从靶座中心螺纹孔上快速拆卸，提高了生产效率；如采用焊接如靶材太薄易焊穿，靶材不易太薄，另采用粘贴方式，靶材太薄粘贴不均匀时，靶材表面会产生褶皱，其靶材也不易太薄，采用螺纹安装可采用厚度较薄的靶材，从而节约了镀层材料；靶座内部开空腔和采用铜制靶座，可使冷却水进入，提高热传导。【附图说明】图1为本专利技术的结构示意图。图2为图1的A-A断面视图。图3为本专利技术的优先横截面示意图。图中，1靶座，2螺纹，3中心螺纹孔，4空腔，5支撑，6缺口。具体实施例下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明: 如图1、图2所示，一种阴极电弧蒸发源靶座包括由铜制成的靶座1，靶座1内部设有空腔4，在靶座1上表面中心设有中心螺纹孔3，靶座1上表面厚度不大于1CM ;靶座1侧表面下端部设有缺口 6，螺纹2设在缺口 6底部。如图3中，一种阴极电弧蒸发源靶座包括由铜制成的靶座1，靶座1内部设有空腔4，在靶座1上表面中心设有中心螺纹孔3，靶座1上表面厚度不大于1CM靶座1内部空腔4设有支撑5 (靶座1上表面太薄，在冷水过程中易形变，增加支撑5后，即不影响泠水效果，还可以增强靶座1上表面的刚度，防止形变)，支撑5 —端设在靶座1上表面内壁上、另一端设在靶座1侧表面内壁上；靶座1侧表面下端部设有缺口 6，螺纹2设在缺口 6底部。工作原理:将阴极电弧蒸发源靶座1通过侧表面下端的螺纹2与直冷式阴极电弧蒸发源连接、旋紧(缺口 6正好将直冷式阴极电弧蒸发源完全盖住，可以防止冷却水流到靶座1的上表面),冷却水可充分进入空腔4内冷却。将待镀镀层所需靶材通过靶座1上表面中心螺纹孔3安装到靶座1上，待涂层作业。由于不同涂层需要不同靶材，每次涂层完成后亦需要将靶材拆卸称重，本专利技术能实现快速靶材安装拆卸，采用螺纹连接方式阴极电弧蒸发源靶座可安装厚度较薄的靶材；内空腔4可使冷却水进入，提高冷却效率。本专利技术提高了生产效率，节约了镀层材料，降低了生产成本。本专利技术的实施例公布的是较佳的实施例，但并不限于此，本领域的技术人员，极易根据上述实施例，领会本专利技术的核心技术，做出不同的引申和改进，但只要不脱离本专利技术的精神，都在本专利技术的保护范围内。【主权项】1.一种阴极电弧蒸发源靶座，其特征在于:所述靶座包括由铜制成的靶座(1)，靶座(1)内部设有空腔(4)，在靶座⑴侧表面下端设有螺纹(2)、其上表面中心设有中心螺纹孔⑶。2.根据权利要求1所述的一种阴极电弧蒸发源靶座，其特征在于:所述靶座(1)上表面厚度不大于1CM。3.根据权利要求2所述的一种阴极电弧蒸发源靶座，其特征在于:所述靶座(1)内部空腔(4)设有支撑(5)，支撑(5) —端设在靶座(1)上表面内壁上、另一端设在靶座(1)侧表面内壁上。4.根据权利要求1所述的一种阴极电弧蒸发源靶座，其特征是:所述靶座1侧表面下端部设有缺口(6)，螺纹⑵设在缺口(6)底部。【专利摘要】本专利技术属于电弧蒸发源
，具体涉及一种方便靶材安装拆卸的阴极电弧蒸发源靶座。一种阴极电弧蒸发源靶座包括由铜制成的靶座，靶座内部设有空腔，在靶座侧表面下端设有螺纹、其上表面中心设有中心螺纹孔。本专利技术优点在于，可使用厚度较薄的靶材，靶材安装、拆卸更方便，冷却效果好，生产效率大幅度提高，节约了镀层材料，降低了生产成本。【IPC分类】C23C14/32【公开号】CN105369203【申请号】CN201410422215【专利技术人】闫少健, 韩滨, 付德春 【申请人】宜昌后皇真空科技有限公司【公开日】2016年3月2日【申请日】2014年8月26日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阴极电弧蒸发源靶座，其特征在于：所述靶座包括由铜制成的靶座(1)，靶座(1)内部设有空腔(4)，在靶座(1)侧表面下端设有螺纹(2)、其上表面中心设有中心螺纹孔(3)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：闫少健，韩滨，付德春，
申请(专利权)人：宜昌后皇真空科技有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42