本发明专利技术涉及一种调色剂，其包含调色剂颗粒，所述调色剂颗粒具有包含有机硅聚合物的表面层。所述有机硅聚合物具有特定的部分结构。所述表面层具有特定的平均厚度Dav。规定了在通过FIB-TOF-SIMS的映射测量中响应于调色剂颗粒用一次离子照射而从所述调色剂颗粒放出的硅离子与碳离子之比。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于图像形成方法如电子照相和静电打印中将静电图像（静电潜像） 显影的调色剂。
技术介绍
近年来，随着计算机和多媒体的发展，在包括办公和家庭在内的各个领域内存在 输出高清晰度全色图像的手段的需求。 对于涉及经常复印和打印的商业用途，存在即使在许多复印件和打印件输出之后 图像品质也不劣化的高耐久性的需求。对于小型办公和家庭中的用途，从节约空间、节能和 轻量化方面存在对小型设备的需求以及对高品质图像的需求。为了满足这些需求，必须改 进调色剂性能，例如环境稳定性、低温定影性、显影耐久性和储存稳定性。 特别地，在由叠加的彩色调色剂形成的全色图像的情况中，各种彩色调色剂必须 以相同的方式显影，否则发生不良的颜色再现和颜色不均一。例如，当用作调色剂用着色剂 的颜料或染料于调色剂颗粒的表面上析出时，这可影响显影性并引起颜色不均一。 定影性和混色性（colormixtureproperties)在全色图像中也是重要的。例如， 尽管选择低温定影性有效的粘结剂树脂以满足高速打印的需求，但此类粘结剂树脂大大影 响了显影性和耐久性。 还存在对可长期使用并在各种温度和湿度下产生高清晰度全色图像的调色剂的 需求。为了满足这些需求，必须减少由不同操作环境如温度和湿度引起的调色剂的电荷量 的变化以及调色剂表面性质的变化。还必须减少组件如显影辊、充电辊、调节刮板和感光鼓 的污染。因此，存在对具有稳定的带电性（chargeability)、不引起组件的污染、且即使在各 种环境下长期储存后也具有一致的显影耐久性的调色剂的需求。 依赖于温度和湿度的储存稳定性或调色剂的电荷量的变化可由调色剂的脱模剂 或树脂组分从调色剂的内部渗出到表面（下文中还简称为渗出）并改变调色剂的表面性质 所引起。 此类问题可通过用树脂覆盖调色剂颗粒的表面的方法来解决。 日本专利特开2006-146056公开了一种使无机细颗粒稳固地附着至其表面的调 色剂，所述调色剂作为在常温常湿环境或高温高湿环境下具有良好高温储存稳定性和打印 耐久性的调色剂。 然而，即使在使无机细颗粒稳固地附着至调色剂颗粒的表面的调色剂中，脱模剂 或树脂组分可通过无机细颗粒之间的间隙渗出，且无机细颗粒可由于降解而从表面分离。 因此，严苛环境下调色剂的耐久性和组件的污染应当得到进一步改进。 日本专利特开03-089361公开了通过添加硅烷偶联剂至反应体系来生产聚合调 色剂的方法，从而生产没有暴露于调色剂表面的着色剂或极性物质、具有窄的电荷分布、且 具有很大程度上不依赖于湿度的电荷量的调色剂。然而，在此类方法中，调色剂表面上硅烷 化合物的析出和水解缩聚不足，且环境稳定性和显影耐久性需要得到进一步改进。 日本专利特开08-095284公开了覆盖有硅烷化合物的聚合调色剂，从而控制调色 剂的电荷量并在任意温度和任意湿度下形成高品质打印图像。然而，硅烷化合物高极性的 有机官能团导致在调色剂表面上硅烷化合物的析出和水解缩聚不足。结果，必须减少归因 于高温高湿环境下带电性的变化的图像浓度变化，减少归因于调色剂熔融粘附的组件污 染，和改进储存稳定性。 日本专利特开2001-75304公开了具有通过含有硅化合物的团聚体的粘附形成的 覆盖层的聚合调色剂作为具有改进的流动性、较少的流化剂分离的可能性、改进的低温定 影性和改进的粘连性能（blockingproperties)的调色剂。然而，必须进一步减少脱模剂 或树脂组分的通过含有硅化合物的团聚体之间的间隙的渗出。还必须减少归因于由调色剂 表面上硅烷化合物的析出和水解缩聚不足造成的高温高湿环境下带电性的变化的图像浓 度变化，减少归因于调色剂熔融粘附的组件污染，并改进储存稳定性。
技术实现思路
本专利技术提供不具有上述问题的调色剂。更具体地，本专利技术提供具有良好环境稳定 性、低温定影性、显影耐久性和储存稳定性的调色剂。 作为深入研究的结果，本专利技术人通过发现下列结构能解决所述问题而实现了本发 明。 本专利技术提供一种含有调色剂颗粒的调色剂，所述调色剂颗粒各自具有包含有机硅 聚合物的表面层， 其中所述有机硅聚合物具有由下式（T3)表示的部分结构， R-Si(01/2)3 (T3) 其中R表示具有1至6个碳原子的烷基或苯基， 其中所述表面层的如通过用透射电子显微镜（TEM)观察各个所述调色剂颗粒的 截面测量的平均厚度Dav.为5.Onm以上且150.Onm以下，和 所述调色剂在通过聚焦离子束飞行时间二次离子质谱法（focused-ion-beam time-〇f-flightsecondaryionmassspectrometry，FIB-TOF-SIMS)的映射测量中的 (ASi/AC)比为20. 00以上，其中ASi表示ISi/I，AC表示IC/I，ISi表示硅离子的强度，IC 表示碳离子的强度，和I表示一次离子的数量，所述硅离子和所述碳离子响应于所述调色 剂颗粒用一次离子照射而从所述调色剂颗粒中放出。 参考附图，从下列示例性实施方案的描述中，本专利技术进一步的特征将变得显而易 见。【附图说明】 图1为用TEM观察的调色剂颗粒的截面图像的示意图。 图2为用差示扫描量热仪（DSC)测量的根据本专利技术实施方案的调色剂的可逆热流 曲线（reversingheatflowcurve) 〇 图3为用于本专利技术实施方案的图像形成设备的示意图。【具体实施方式】 下面将详细描述本专利技术。 根据本专利技术实施方案的调色剂为包含调色剂颗粒的调色剂，所述调色剂颗粒各自 具有包含有机娃聚合物的表面层， 其中所述有机硅聚合物具有由下式（T3)表示的部分结构， R-Si(01/2)3 (T3) 其中R表示具有1至6个碳原子的烷基或苯基， 其中所述表面层的如通过用透射电子显微镜（TEM)观察各个所述调色剂颗粒的 截面测量的平均厚度Dav.为5.Onm以上且150.Onm以下，和 所述调色剂在通过聚焦离子束飞行时间二次离子质谱法（FIB-TOF-S頂S)的映射 测量中的（ASi/AC)比为20. 00以上，其中ASi表示ISi/I，AC表示IC/I，ISi表示硅离子的 强度，1C表示碳离子的强度，和I表示一次离子的数量，所述硅离子和所述碳离子响应于所 述调色剂颗粒用一次离子照射而从所述调色剂颗粒中放出。 由于归因于有机硅聚合物的T3结构的耐久性和式（T3)中R的疏水性和带电性， 可减少存在于调色剂内部而不是表面层中且可能渗出的低分子量（Mw为1000以下）树 月旨、低Tg(40°C以下）树脂、和在某些情况下的脱模剂的渗出。这可改进调色剂的搅拌性 (agitation)。因此，调色剂可具有尚储存稳定性，以及关于在30%以上的尚图像打印率下 的打印耐久的良好的环境稳定性和显影耐久性。 在由式（T3)表示的部分结构中，R表示具有1至6个碳原子的烷基或苯基。各种 环境中电荷量的变化趋于随着R的疏水性增加。特别地，具有1至5个碳原子的烷基导致 高环境稳定性。 在本专利技术的实施方案中，当R表示具有1至3个碳原子的烷基、特别是甲基时，进 一步改进了带电性和起雾的防止。良好的带电性产生良好的转印性和较少的未转印调色 剂，这可减少感光鼓、充电构件和转印构件的污染。 在本专利技术的实施方案中，重要的是调色剂在通过聚焦离子本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种调色剂，其包括调色剂颗粒，其特征在于，所述调色剂颗粒各自具有包含有机硅聚合物的表面层，其中所述有机硅聚合物具有由下式(T3)表示的部分结构，R‑Si(O1/2)3 (T3)其中R表示具有1至6个碳原子的烷基或苯基，其中所述表面层的通过用透射电子显微镜TEM观察各个所述调色剂颗粒的截面测量的平均厚度Dav.为5.0nm以上且150.0nm以下，和所述调色剂在通过聚焦离子束飞行时间二次离子质谱法FIB‑TOF‑SIMS的映射测量中的ASi/AC比为20.00以上，其中ASi表示ISi/I，AC表示IC/I，ISi表示硅离子的强度，IC表示碳离子的强度，和I表示一次离子的数量，所述硅离子和所述碳离子响应于所述调色剂颗粒用一次离子照射而从所述调色剂颗粒中放出。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：阿部浩次，照井雄平，桂大侍，矶野直也，野中克之，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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