在母材的表面通过掩模形成凸起的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种通过掩模形成凸起的方法及装置，更为详细地，涉及一种通过掩模形成凸起的方法，其包括：掩模形成步骤，在母材上形成掩模层；蚀刻步骤，对母材上未形成掩模的区域进行蚀刻；以及掩模去除步骤，去除所述掩模层，并且所述掩模形成步骤包括：至少形成一个以上的小型掩模的步骤，以及至少形成一个以上的大型掩模的步骤。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种通过掩模（masking)形成凸起的方法及装置，更为详细地涉及一 种方法及装置，其用于对母材的表面进行特殊处理，从而提高根据母材的AR特性调节的反 射防止功能，并改善超疏水功能。
技术介绍
通过在包括手机、平板电脑（tablet PC)等使用触摸功能的显示器（display)在 内如TV和电脑显示器等一样的平板（flat panel)显示器的覆盖窗（cover window)、太阳 能电池的覆盖窗、建筑物的外部玻璃、眼镜、汽车用玻璃等减少光的反射，从而可提高设备 的效率并提高能见度。 通常，透过光的界面的两个媒质之间的折射率差较大时，产生根据被称为菲涅耳 (Fresnel)反射法则的两个媒介之间的折射率和入射角及反射角决定反射率的反射现象。 显示器设备在野外等当外部光强度较大时，即使是较小的反射率，也会因为仅次 于从内部放出的光的强度而降低夜晚的能见度。 此外，类似于太阳能电池的覆盖玻璃，越是提高太阳光的透过，越是增加发电量， 因此应减少反射。另外，在建筑物外部玻璃或汽车玻璃上等，因为反射而导致的晃眼直接关 系到安全问题，从而有必要达成一定水准以下的反射防止。 由此，以抑制玻璃表面上的反射为目的，相对于作为入射光波长的λ，具有大约 λ /4的厚度同时，将具有空气和玻璃的折射率之间值的物质涂覆在玻璃表面，则可减少反 射。但是，所述方法相对于作为特定的波长的λ，可抑制反射，因此如果要对可视光全区域 进行反射防止，则需要用对各种波长涂覆的多层薄膜进行涂覆。 此外，由多层薄膜形成的涂覆层与作为基板的玻璃的粘着力有限，因此会产生剥 离，并且如果产生所述剥离，则表面的薄膜层由于不均匀而出现杂乱的颜色。 由于所述原因，通过多层薄膜涂覆的反射防止技术具有如下缺点，难以适用于触 摸面板等经常形成接触的表面。 作为反射防止技术的另一方法，有最近迅速受到关注并进行研究的利用蛾眼效果 的方法，如果将小于可见光线波长带的直径的纳米凸起形成于玻璃表面，则可见光线透过 所述表面时，无法识别纳米凸起的存在，但是识别到根据凸起形状玻璃表面的折射率逐渐 变化，从而反射率降低。 通过用于将所述蛾眼效果实现于基板的方法，可以实现各种工艺，并且各个不同 的工艺具有优缺点。例如纳米压印（nanoimprinting)技术在模具（mold)的表面形成纳米 结构物，从而利用液态聚合物（Po I ymer)可形成纳米结构物，但是难以进行大面积和高速 生产。 此外，在类似于光刻（Photo-lithography)的半导体工艺中，为了进行纳米图案 化，而必须使用EUV，是费用非常高的工艺。由此，通过在透明的基板表面形成纳米掩模并利 用所述掩模在基板形成纳米结构物，从而形成反射防止的技术中需要开发可进行大面积和 连续工艺的技术。 由此，在基板本身形成纳米结构物时，具有如下优点，无论何种情况都不会发生纳 米结构物剥离的问题，并且即使由于外部冲击而发生损伤也不会被人的肉眼所识别。 另外，根据入射光的波长范围，以及根据纳米结构物的大小与形状，反射率不同， 因此为了对此进行调节，而需要如下技术：可以将纳米掩模在大面积的基板上形成，并可以 以各种尺寸和分布进行调节。
技术实现思路
本专利技术用于解决所述问题，目的在于制造在整个UV-IR波长范围（180nm~ 1400nm)内AR特性得到提高的母材。 此外，本专利技术的目的在于，提供用于改善AR特性的各种装置及工法。 用于解决所述课题的本专利技术的通过掩模形成凸起的方法，其包括：掩模形成步骤， 在母材上形成掩模层；蚀刻步骤，对母材上未形成掩模的区域进行蚀刻；以及掩模去除步 骤，去除所述掩模层，并且所述掩模形成步骤包括至少形成一个以上的小型掩模的步骤，以 及至少形成一个以上的大型掩模的步骤。 作为掩模形成步骤的一个例子，将熔点不同的金属在相同的温度下进行供给，从 而可以形成小型掩模或大型掩模，并且作为另一个例子，将相同的金属用相互不同的处理 时间期间或在相互不同的温度下进行供给，从而也可以形成小型掩模或大型掩模。此外，就 所述掩模形成步骤而言，将熔点不同的金属用相互不同的处理时间期间或在相互不同的温 度下进行供给，从而可形成小型掩模或大型掩模。 就所述具体的方式而言，在相同的舱室内将熔点不同的金属用物理气相沉积方法 (Physical Vapor Deposition，PVD)，由此在母材上形成小型掩模或大型掩模，或者用相互 不同的处理时间期间进行操作或施加相互不同的温度的多个舱室中，将相同金属通过物理 气相沉积方法在母材上形成为小型掩模或者大型掩模，或者，用相互不同的处理时间期间 进行操作或施加相互不同额温度的多个舱室中，将熔点不同的金属通过物理气相沉积方法 可以在母材上可形成为小型掩模或大型掩模。 在不同的实施例中，在相同的舱室内调节母材的温度，并将前驱体（precursor) 通过化学气相沉积方法（Chemical Vapor Deposition，CVD)进行沉积，从而形成小型掩模 或大型掩模，并且在多个舱室内使得前驱体的种类不同，并且通过化学气相沉积方法进行 沉积，从而也可以形成小型掩模或大型掩模。 另外，用于达成本专利技术的目的的通过掩模的凸起形成装置包括：舱室；母材安装 部，其形成于所述舱室内，并且将母材安装于所述母材安装部；金属供给部，其形成于所述 舱室内，用于通过派射方式向安装于所述母材安装部的母材上供给金属；以及温度调节部， 其用于调节所述舱室内温度。 此时，母材安装部包括母材加热器（heater)，所述母材加热器用于将所安装的母 材加热至已设定的温度，并且在所述母材加热器中可设置有多个热电偶。另外，所述温度调 节部可包括测定舱室内的温度的传感器，以及通过电力调整对舱室内的温度进行调节的舱 室加热器。 本专利技术的凸起形成装置还可包括用于移动母材的内联（in-line)部，随着内联部 的驱动，所述金属供给部将熔点不同的金属向母材进行供给，并且所述温度调节部将舱室 内的温度维持为一定，从而可形成掩模。 在另一个实施例中，舱室由相互区分的多个舱室组成，并且还包括内联部，所述内 联部用于在所述多个舱室之间移动母材，并且所述金属供给部将相同的金属向母材进行供 给，并且各个舱室用相互不同的处理时间期间进行操作或通过所述温度调节部分别调节为 不同的温度，从而可形成掩模。 根据本专利技术的另一个实施例的凸起形成装置包括：舱室；母材安装部，其形成于 所述舱室内，并且将母材安装于所述母材安装部；气体供给部，其通过化学气相沉积方式 (Chemical Vapor Deposition，CVD)向安装于所述母材安装部的母材上沉积掩模；以及温 度调节部，其用于调节所述母材的温度，并且此时，所述温度调节部可包括传感器及舱室加 热器，所述传感器对舱室内的温度进行测定，所述舱室加热器通过电力调整对母材的温度 进行调节。另外，气体供给部将特定的前驱体（precursor)向母材供给，并且所述温度调节 部对母材的温度进行分阶段地变更。 在另一个实施例中，舱室由相互区分的多个舱室组成，并且还包括内联（in-line) 部，所述内联部用于在多个舱室之间当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通过掩模形成凸起的方法，其包括：掩模形成步骤，在母材上形成掩模层；蚀刻步骤，对母材上未形成掩模的区域进行蚀刻；以及掩模去除步骤，去除所述掩模层，所述掩模形成步骤包括：至少形成一个以上的小型掩模的步骤，以及至少形成一个以上的大型掩模的步骤。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：李相老，罗钟周，朴明渐，金明根，金允焕，徐在亨，岳昕，李智英，
申请(专利权)人：SEP株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR