一种防冲孔铝化学抛光添加剂，以重量份计，所述抛光添加剂至少含有金属茂配合物15-40份，阴离子聚合物1-10份，溶剂100份。所述阴离子聚合物含有磺酰基或羧基，所述溶剂为磷酸和焦磷酸的混合物。本发明专利技术涉及一种抛光添加剂及其应用，尤其涉及一种用于铝、铝合金、铝氧化物以及铝合金氧化物的防冲孔铝化学抛光添加剂及其应用。
【技术实现步骤摘要】
【专利说明】防冲孔锅化学抛光添加剂及其应用
本专利技术设及一种抛光添加剂及其应用，尤其设及一种用于侣、侣合金、侣氧化物W 及侣合金氧化物的防冲孔侣化学抛光添加剂及其应用。
技术介绍
关于侣制品传统的化学抛光工艺是采用酸性抛光液，通常为含有硝酸、硫酸、憐酸 的Ξ酸体系。由于抛光液含有硝酸，在抛光过程中会产生大量的氮氧化物气体，俗称"黄 烟"。氮氧化物严重污染环境，也对操作工人造成很大伤害，同时废水和废气的处理成本很 高。近年来，常采用无硝酸化学抛光工艺来消除化学抛光引起的氮氧化合物大气污染。硝 酸是强氧化剂，具有良好的抛光和表面平整作用，不采用硝酸的两酸体系的抛光效果会明 显减弱。因此，抛光添加剂是无硝酸环保化学抛光体系中重要的一环。目前化学抛光添加 剂中含有表面活性剂、润湿剂、缓蚀剂等，W此来满足表面平整度、光亮度、点腐蚀程度和失 重率等抛光要求。虽然可W作为添加成分的物质种类比较多，但是从抛光产品质量的各个 方面来看，全部有利的物质极少，多数情况下某些物质只能改善抛光质量的某一方面，而对 其他方面没有作用，甚至还起相反作用。 对于喷砂件、拉丝件侣制品，尤其是大面积或者结构较为复杂的产品，在化学抛光 中的槽液对侣材存在过腐蚀，产品孔桐处氨气冲花异色W及制程中转移侵蚀和流痕花斑。 对于有孔的喷砂侣材面板类，需要添加合适的抛光添加剂来解决化学抛光过程中的冲孔或 拖尾现象。
技术实现思路
为了解决现有的技术问题，本专利技术提供一种防冲孔侣化学抛光添加剂，W重量份 计，所述抛光添加剂至少含有如下组分： 金属茂配合物 15-40份 阴离子聚合物 1-10份 溶剂 100份； 所述金属茂配合物的结构式如下：其中，Μ为化合价为+4的过渡金属，R为碳原子为1-6的饱和控基； 所述阴离子聚合物含有横酷基或簇基，所述溶剂为憐酸和焦憐酸的混合物。 作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述金属茂配合物中过渡金属选自Ti、Zr、V 中的一种。 作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述阴离子聚合物选自聚丙締酸或聚a-締 控横酸。 作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述阴离子聚合物的重均分子量为 5000-10000。 作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述憐酸和焦憐酸的质量比为0. 2-5 :1。 作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述抛光添加剂还含有硫酸姉，所述硫酸姉 与金属茂配合物的摩尔比为0. 8-1. 2 :1。 所述抛光添加剂的制备步骤为：将憐酸和焦憐酸按照一定质量比混合，揽拌均匀 后加入金属茂配合物、阴离子聚合物、硫酸姉，在100-150DC的溫度范围内揽拌直至完全 溶解。 本专利技术还提供一种侣制品化学抛光方法，包括如下步骤： (1) 将上述的抛光添加剂加入到抛光液中； (2) 加热抛光液，使抛光溫度升至80-130。C，然后保溫； (3) 侣制品经脱脂、水洗、酸洗和水洗后，浸入抛光液中，抛光时间为10-300S; (4) 将取出后的侣制品悬空静置，淋洗，干燥。 作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述的抛光方法中步骤（2)中抛光溫度为 100-110。C，步骤（3)中抛光时间为90-180S，步骤（4)中静置时间为30-90S。 作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述抛光添加剂和抛光液的重量比为 0. 05-0. 1 :1D 参考W下详细说明更易于理解本专利技术的上述及其它特征、方面和优点。【具体实施方式】 参考W下本专利技术的优选实施方式的详述W及包括的实施例可更容易地理解本公 开内容。在W下说明书和权利要求书中将提及大量的术语，运些术语被定义为具有下列含 义。"任选的"或"任选地"是指其后描述的事件或事项可W发生或不发生，而且该描述 包括事件发生的情形和事件不发生的情形。 说明书和权利要求书中的近似用语用来修饰数量，表示本专利技术并不限定于该具体 数量，还包括与该数量接近的可接受的而不会导致相关基本功能的改变的修正的部分。相 应的，用"大约"、"约"等修饰一个数值，意为本专利技术不限于该精确数值。在某些例子中，近 似用语可能对应于测量数值的设备的精度。在本申请说明书和权利要求书中，范围限定可 W组合和/或互换，如果没有另外说明运些范围包括其间所含有的所有子范围。"聚合物"表示通过将相同类型的单体或不同类型的单体聚合而制备的聚合化合 物。一般性术语"聚合物"包括术语"均聚物"、"共聚物"等。"均聚物"表示将一种单体聚 合而得到的聚合物。"共聚物"表示通过将至少两种不同类型的单体聚合而制备的聚合物， 包括术语"二元共聚物"（其通常用于表示由两种不同单体制备的聚合物)。 如本文所用术语"由…制备"与"包含"同义。本文中所用的术语"包含"、"包括"、 "具有"、"含有"或其任何其它变形，意在覆盖非排它性的包括。例如，包含所列要素的组合 物、步骤、方法、制品或装置不必仅限于那些要素，而是可W包括未明确列出的其它要素或 此种组合物、步骤、方法、制品或装置所固有的要素。 连接词"由…组成"排除任何未指出的要素、步骤或组分。如果用于权利要求中，此 短语将使权利要求为封闭式，使其不包含除那些描述的材料W外的材料，但与其相关的常 规杂质除外。当短语"由…组成"出现在权利要求主体的子句中而不是紧接在主题之后时， 其仅限定在该子句中描述的要素；其它要素并不被排除在作为整体的所述权利要求之外。 当量、浓度或者其它值或参数W范围、优选范围、或一系列上限优选值和下限优选 值限定的范围表示时，运应当被理解为具体公开了由任何范围上限或优选值与任何范围下 限或优选值的任一配对所形成的所有范围，而不论该范围是否单独公开了。例如，当公开 了范围"1至5"时，所描述的范围应被解释为包括范围"1至4"、"1至3"、"1-2"、"1-2和 4-5"、"1-3和5"等。当数值范围在本文中被描述时，除非另外说明，否则该范围意图包括 其端值和在该范围内的所有整数和分数。 此外，本专利技术要素或组分前的不定冠词"一种"和"一个"对要素或组分的数量要求 (即出现次数）无限制性。因此"一个"或"一种"应被解读为包括一个或至少一个，并且单 数形式的要素或组分也包括复数形式，除非所述数量明显旨指单数形式。 本专利技术提供一种防冲孔侣化学抛光添加剂，W重量份计，所述抛光添加剂至少含 有如下组分： 金属茂配合物 15-40份 阴离子聚合物 1-10份 溶剂 100份； 所述金属茂配合物的结构式如下：其中，Μ为化合价为+4的过渡金属，R为碳原子为1-6的饱和控基； 舍属巧配合物 所述金属茂配合物的结构式如下：其中，Μ为化合价为+4的过渡金属，R为碳原子为1-6的饱和控基； 作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述金属茂配合物中过渡金属选自Ti、Zr、V中的 一种。 微观上，侣制品表面存在着很多凹陷和凸起，凸起处侣的反应活性很高，优先被溶 解。在表面凹陷处的侣被粘滞的扩散层所覆盖，抛光液中的Η+需要穿过扩散层才能接触到 侣制品表面，侣制品表面的侣离子需要穿过扩散层进入溶液内部。为了提高侣制品表面的 光亮度和装饰效果，过去常采用硫酸-憐酸-硝酸的Ξ酸抛光，其中的硝酸会在抛光过程中 产生大量氮氧化物。近年来采用不含硝酸的两酸体系进行化学抛光，消除了氮氧化物的污 染。由于硝酸是强氧化剂，对抛光效果有至关重要的影响，目前本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种防冲孔铝化学抛光添加剂，其特征在于，以重量份计，所述抛光添加剂至少含有如下组分：金属茂配合物 15‑40份阴离子聚合物 1‑10份溶剂 100份；所述金属茂配合物的结构式如下：其中，M为化合价为+4的过渡金属，R为碳原子为1‑6的饱和烃基；所述阴离子聚合物含有磺酰基或羧基，所述溶剂为磷酸和焦磷酸的混合物。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴育祥，李德荣，何友余，
申请(专利权)人：上海铝通化学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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