含锆基顶层溅射保护膜的镀膜玻璃制造技术

含锆基顶层溅射保护膜的镀膜玻璃,膜系结构是在镀膜玻璃膜层的顶部增镀一层锆基透明导电溅射保护膜(1)，或以锆基透明导电溅射保护膜(1)部分替代原表层膜(2)。该锆基透明导电溅射保护膜(1)透过率Tavg＞90％，导电性R＜10-3Ω·cm，厚度(10～30)nm，折射率n＝2.0～2.3，消光系数k≈0，显微硬度HV＝1000～1800。锆基透明导电溅射保护膜作为镀膜玻璃的顶层保护膜，和相邻膜层之间有良好的结合力，具有优良的耐磨性和耐候性，镀膜玻璃在周转、储存和深加工过程中不需贴膜保护，玻璃合片前免于边部除膜，能够有效地预防氧化和划伤，保证镀膜玻璃光电性能的稳定和持久。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜玻璃表面结构改进技术，尤其是含锆基顶层溅射保护膜的镀膜玻璃。
技术介绍
近年来，随着真空科技和薄膜技术突飞猛进的发展，顺应全球环保、节能的发展趋势，应用靶材溅射技术制备的节能镀膜玻璃主要包括:低辐射(Low-E)玻璃、减反射(AR)玻璃以及薄膜太阳能、显示器和触摸屏用透明导电(TC0)镀膜玻璃。低辐射玻璃也称Low-E玻璃，Low-E是英文Low-Emissivity的简称。该镀膜玻璃主要应用在建筑用门窗、幕墙玻璃和汽车挡风玻璃上，既保持了良好的可见光透过率，又能有效降低红外线的热辐射，起到美观、环保和节能的效果。真空磁控溅射方法生产的离线Low-E镀膜玻璃，可以通过不同的膜层设计得到多种光热性能适应不同气候不同地区的需求。市场批量生产的，一般以金属Ag为功能层，可以是单层Ag膜、双层Ag膜和多层Ag膜，并在Ag层两侧设计阻挡层和介质层，阻挡层防止玻璃中Na+的渗出和Ag的氧化，介质层增强结合力，调整颜色和透过率，顶层通常以Sn02S SiNx作为保护层。玻璃镀膜后，通常需要进行切割、磨边、钢化、合成中的几种再加工工序。Low-E玻璃的钢化要在钢化炉内加热到(600-650) °C，通过自身的形变消除内应力，出炉后用多头喷咀向镀膜玻璃吹高压冷空气冷却至室温。经历温度变化，膜层容易发生氧化和脱落，使镀膜玻璃的颜色和光学性能发生改变而报废。减反射(Ant1-Reflect1n)玻璃是在超白浮法玻璃上制备不同光学材料的膜层，利用光的干涉相消原理使镀膜玻璃的光透过率达到95%以上，反射率低于4%，主要用于显示器件保护屏如LCD电视、PDP电视、电脑显示屏、高档仪表面板、触摸屏、相框玻璃等提高透射率降低反射率的电子产品。减反射玻璃在镀膜玻璃的边部处理如切割和磨边过程中，镀膜面很容易在在加工过程中发生刮伤、划伤，导致成品率大幅下降。据一些生产厂家统计因为玻璃膜面划伤而造成的废品率超过3%，每月报废的玻璃达数千甚至上万平方米。总之，由于现有技术中镀膜工艺的透明导电玻璃大多耐候性较差，在空气中放置膜层就会发生氧化或脱膜造成报废，因此需要在镀膜后立即做贴膜保护，进入下一工序前除膜，并需要在7天内合成中空。考虑装卸、运输和加工时间，给异地深加工造成困难。
技术实现思路
本技术的目的是提供含锆基顶层溅射保护膜的镀膜玻璃，增强镀膜玻璃表面的耐磨性和耐候性。本技术的目的将通过以下技术措施来实现:包括锆基透明导电溅射保护膜和玻璃基板，在玻璃基板上的中间层膜结构的上侧有锆基透明导电溅射保护膜，该锆基透明导电溅射保护膜透过率Tavg > 90%，导电性R < 10 3Ω.cm，厚度(10?30)nm，折射率η=2.0?2.3，消光系数k?0，显微硬度HV = 1000?1800。尤其是，在锆基透明导电溅射保护膜和玻璃基板中间有一层Ag膜，而且在Ag膜内外侧分别有介质层和阻挡层，即在锆基透明导电溅射保护膜下依次为第一介质层、第一阻挡层、Ag膜、第二阻挡层、第二介质层和玻璃基板。尤其是，在锆基透明导电溅射保护膜和玻璃基板中间有二层或η层Ag膜，而且在每层Ag膜外侧分别有介质层和阻挡层，即在锆基透明导电溅射保护膜下依次为第一介质层、第一阻挡层、第一 Ag膜、第二介质层、第二阻挡层、第二 Ag膜、第三介质层、第三阻挡层、第n Ag膜、第(n+1)阻挡层、第(n+1)介质层和玻璃基板，其中η彡3。尤其是，在锆基透明导电溅射保护膜和玻璃基板中间有一层TC0层和一层介质层，即在锆基透明导电溅射保护膜下依次为TC0层、介质层和玻璃基板。尤其是，在锆基透明导电溅射保护膜和玻璃基板中间有至少二层低折射率膜层和高折射率膜层，即在锆基透明导电溅射保护膜下依次为第一低折射率膜层和第一高折射率膜层，直至第η低折射率膜层和第η高折射率膜层，以及玻璃基板，其中η > 1。本技术的优点和效果:锆基透明导电溅射保护膜作为顶层保护膜，和相邻膜层之间有良好的结合力，具有良好的耐磨性，耐候性，镀膜玻璃不需做贴膜保护，直接进行深加工，钢化后不脱膜，合片前不需除膜，不发生膜层的氧化。长期保持镀膜玻璃的装饰性和光学性能的稳定。【附图说明】图1为本技术结构示意图。图2为本技术实施例1中链制的Low-e I吴系结构单Ag I吴系结构不意图。图3为本技术实施例2中镀制的Low-e膜系结构上双Ag膜和多Ag膜系结构示意图。图4为本技术实施例2中TC0玻璃膜系结构示意图。图5为本技术实施例2中单面AR玻璃膜系结构示意图。附图标记包括:锆基透明导电溅射保护膜1、介质层2、阻挡层3、Ag膜4、玻璃基板5、TC0层6、低折射率膜层7、高折射率膜层8。【具体实施方式】本技术原理在于，采用靶材弧光稳定溅射，溅射过程电压波动小于IV ;镀制的膜层作为保护膜，提高玻璃镀膜层的耐磨性和抗划伤性能，降低镀膜玻璃加工过程中的报废率。增强镀膜玻璃的耐候性，在空气中存放不氧化，钢化过程不氧化，保证镀膜玻璃的装饰性和光学性能的稳定。增强各膜层之间及膜层与玻璃之间的结合力，防止脱膜。如附图1所示，本技术包括:锆基透明导电溅射保护膜1和玻璃基板5。即在玻璃基板5上的中间层膜结构的上侧有锆基透明导电溅射保护膜1，该锆基透明导电溅射保护膜1透过率Tavg >90%，导电性R< 10 3 Ω.ο?，厚度(10?30)nm，折射率η = 2.0?2.3，消光系数k?0，显微硬度HV = 1000?1800，采用靶材弧光稳定溅射镀膜，溅射过程电压波动小于IV ;形成锆基透明导电溅射保护膜1所利用靶材，主要成分是锆基材料，粉末粒度(1?80)11111，密度> 90%，表面电阻< 2000 Ω。其中，锆基透明导电溅射保护膜1为高折射、低吸收消光系数的硬质膜，同时具有良好的韧性，以及良好的耐氧化和耐酸碱性能，且能和相邻膜层有良好的结合，在玻璃上侧表面起到增加镀膜玻璃耐磨性和增强耐候性的良好效果。下面结合附图和实施例对本技术作进一步说明。实施例1:镀膜玻璃镀制的Low-e膜系单Ag膜系结构如附图2所示，在锆基透明导电溅射保护膜1和玻璃基板5中间有一层Ag膜4，而且在Ag膜4内外侧分别有介质层2和阻挡层3，即在锆基透明导电溅射保护膜1下依次为第一介质层2、第一阻挡层3、Ag膜4、第二阻挡层3、第二介质层2和玻璃基板5。前述中，介质层2为SiNx/Ti0x/Sn02/等材料，阻挡层3为NiCrOx/AZO。实施例2:镀膜玻璃镀制的Low-e膜系双Ag或多Ag膜系结构如附图3所示，在锆基透明导电溅射保护膜1和玻璃基板5中间有2层或η层Ag膜4，而且在每层Ag膜4外侧分别有介质层2和阻挡层3，即在锆基透明导电溅射保护膜1下依次为第一介质层2、第一阻挡层3、第一 Ag膜4、第二介质层2、第二阻挡层3、第二 Ag膜4、第三介质层2、第三阻挡层3、第n Ag膜4、第(n+1)阻挡层3、第(n+1)介质层2和玻璃基板5，其中，η彡3。实施例3:镀膜玻璃TC0玻璃膜系结构如附图4所示，在锆基透明导电溅射保护膜1和玻璃基板5中间有一层TC0层6和一层介质层2，即在锆基透明导电溅射保护膜1下依次为TC0层6、介质层2和玻璃基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
含锆基顶层溅射保护膜的镀膜玻璃，包括锆基透明导电溅射保护膜(1)和玻璃基板(5)；其特征在于，即在玻璃基板(5)上的中间层膜结构的上侧有锆基透明导电溅射保护膜(1)，该锆基透明导电溅射保护膜(1)透过率Tavg＞90％，导电性R＜10‑3Ω·cm，厚度(10～30)nm，折射率n＝2.0～2.3，消光系数k≈0，膜面的显微硬度HV＝1000～1800。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：温艳玲，黄小军，诸斌，庄志杰，
申请(专利权)人：基迈克材料科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32