【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种圆形焚光屏座,具体涉及一种适用于高气压下的圆形焚光屏座。
技术介绍
荧光屏作为分子束外延生长的实时监测成像已得到了广泛的应用。从Rheed电子枪发射出来的具有一定能量(通常为10-30kev)的电子束以1-2°的掠射角射到样品表面,然后衍射到荧光屏上成像,因此荧光屏上的成像所反映的完全是样品表面的结构信息。然而电子束长时间打在荧光屏的同一个位置会带来电子束斑点的老化问题,从而影响对样品表面结构的观察与检测;同时荧光屏的价格比较昂贵,由电子束斑点老化所带来的荧光屏的更换时成本增加。
技术实现思路
针对现有技术存在的问题,本技术提供一种适用于高气压下的Rheed荧光屏座。将荧光屏座设计为圆形结构,放置荧光屏的孔开设在荧光屏座的偏心处,这样,荧光屏的圆心与荧光屏座的圆心就不在同一个点,电子束通过锥形屏蔽罩打射在荧光屏上的位置就不在焚光屏的圆心处。。本技术的技术方案是:适用于高气压下的分子束外延生长的实时监测荧光屏座,荧光屏座是带有圆形孔的框架,荧光屏座固定在分子束外延中心线束的中央,圆形孔是偏心圆的结构;将荧光屏固定在偏心孔的位置,即荧光屏放置在荧光屏座的偏心圆上,电子束打在荧光屏上的位置在圆形荧光屏的偏心处。本技术的有益效果:通过将荧光屏放置在荧光屏座的偏心孔处,电子束打到荧光屏上的位置就在荧光屏的偏心处,当一个位置的电子束斑点老化以后,通过旋转荧光屏,电子束就能得到一个新的照射点,从而大大提高了荧光屏的使用效率。【附图说明】图1为本技术荧光屏座的结构说明图。图2为本技术荧光屏侧视示意图。【具体实施方式】下面结合附图对本技术作进一步的说 ...
【技术保护点】
适用于高气压下的分子束外延生长的实时监测荧光屏座,其特征是荧光屏座是带有圆形孔的框架,荧光屏座固定在分子束外延中心线束的中央,圆形孔是偏心圆的结构;将荧光屏固定在偏心孔的位置,即荧光屏放置在荧光屏座的偏心圆上,电子束打在荧光屏上的位置在圆形荧光屏的偏心处。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:马建行,陆伟华,邵玮,
申请(专利权)人:苏州新锐博纳米科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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