本发明专利技术提供一种韭黄种植方法及其专用散光降温热辐射调控膜，所述种植方法包括覆膜步骤；所述覆膜步骤：控制温度稳定在20～25℃，覆盖散光降温热辐射调控膜后，在菜畦的一侧每隔1.5m设置1个通气孔，每个通气孔处设有U型通气管；所述散光降温热辐射调控膜：阳光遮盖率为99%，厚度为120μm。所述种植方法还包括定植移栽步骤，所述的定植移栽步骤：韭黄种植密度为60000株/亩，种植行距为20cm。采用本发明专利技术种植方法，夏季韭黄品质明显提高，营养成分含量高，产量高且病虫害发生率低。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种韭黄种植方法及其专用散光降温热辐射调控膜，属于农业技术领 域。
技术介绍
韭菜（A. tuberosum Rottl. ex Spreng.)为百合科葱属（Allium tuberosum)的 多年生宿根植物。 韭菜原产中国，东亚各国也有栽培。倍受群众欢迎，山东韭菜的栽培面积已达50 万亩。 栽培方式的不同表现不同的形态，在日光下生长的韭菜，长势粗壮，颜色绿色，通 常称之为韭菜，在暗环境下生长的韭菜光线被隔绝，完全在黑暗中生长，因无阳光供给，不 能进行光合作用，合成叶绿素，就会变成黄色，称之为"韭黄"，是韭菜经软化栽培变黄的产 品。由于生长环境的特殊性，韭黄的上市时间通常在早春，生产时期固定，产量较低，具有很 强的稀缺性。 为了增加韭黄的供应时间，提高韭黄的供应量，前人专利技术并采取了一些有效的遮 光措施来创造适合韭黄生长的环境条件。目前，创造韭黄生长所需暗环境的方法主要有瓦 筒软化、培土软化、盖草棚软化、稻草覆盖以及黑膜覆盖等。 现有技术的韭黄生产存在以下缺陷：第一，韭黄的品质较差；第二，韭黄产量不 高；第三，每年栽培韭黄1-2茬，无法实现周年供应；第四，棚内部环境温度无法稳定，影响 韭黄生产；第五，韭黄生产过程中病虫害发生率高。
技术实现思路
本专利技术针对以上不足，提供一种韭黄种植方法及其专用散光降温热辐射调控膜， 实现以下专利技术目的： 1、 提尚韭黄的品质； 2、 提高韭黄亩产量，使韭黄单次收割亩产量提高60% ; 3、 使韭黄周年收割次数提高到3次，基本实现周年供应； 4、 提高棚内部环境的稳定性，使内部环境温度维持在20-25Γ ; 5、 提供棚内部黑暗环境，使阳光遮盖率达到99% ; 6、 降低温室栽培的病虫害发生率。 为实现上述专利技术目的，采用以下技术方案： 一种韭黄种植方法，所述种植方法包括覆膜步骤。 以下是对上述技术方案的进一步改进： 所述覆膜步骤：覆膜后，控制温度为20~25°C。 所述覆膜步骤：覆膜后，在菜畦的一侧每隔I. 5m设置1个通气孔，所述通气孔处设 有通气管。 所述的膜为散光降温热辐射调控膜，其阳光遮盖率为99%，其厚度为120 μ m。 所述种植方法还包括定植移栽步骤，所述的定植移栽步骤：韭黄种植密度为 60000株/亩，种植行距为20cm。 所述种植方法还包括第一次根株培养步骤； 所述的第一次根株培养步骤：定植1个月后，追施0. 5%尿素。 所述种植方法还包括适时播种步骤； 所述的适时播种步骤： 每亩用种量2. 7公斤，播种沟深17~20厘米，底宽15~17厘米；播种后，盖土 L 2 ~L 7 cm 〇 所述种植方法还包括苗期管理步骤； 所述的苗期管理步骤：播后出苗前，喷施地乐胺200~300倍液；幼苗出土后，前期每 隔15d用尿素75 kg/hm2对水浇施；苗高14~16 cm时，要适当控水蹲苗，促进壮苗。 所述种植方法还包括整地作畦、第二次根株培养、第二次韭黄生产、第三次韭黄生 产步骤； 所述第二次根株培养步骤：韭菜露头5cm后，中耕；追施腐熟有机肥、韭黄专用药渣基 质、稻壳粪； 所述第二次韭黄生产步骤：采收天数为15-18天； 所述第三次韭黄生产步骤：采收天数为12-15天； 所述的整地作畦：亩施腐熟的鸡奠40m3/hm2、专用药渣基质30 m3/hm2、稻壳奠20 m3/ hm2、三元复合肥I. 2t/hm2; 所述的专用药渣基质为：党参：冬瓜皮：草珊瑚：枸杞：石斛：蓖麻子：刘寄奴：乌蛇，以 1:3:2:5:1:2:1:1的重量份比例混合，煎煮3次后的混合药渣。 -种专用散光降温热辐射调控膜，所述散光降温热辐射调控膜的原料重量份配比 为： 金红石型钛白粉 426份 LDPE 420 份 LLDPE 84 份 TPU 9 份 油酸酰胺 13份 PE腊 27份 远红外陶瓷粉 20份 炭黑 2份。 与现有技术相比，本专利技术技术方案具有以下有益效果： 1、 采用本专利技术种植方法，韭黄外观品质明显提高，营养成分含量高，韭黄核黄素含量 为0· 20mg/100g，韭黄VE含量为0· 70mg/100g，韭黄VC含量为7mg/100g，韭黄硒含量为 1.90 μ g/100g; 2、 采用本专利技术种植方法，韭黄产量高；韭黄单次收割亩产量提高了 60% ; 3、 韭黄周年收割次数为3次，基本实现周年供应； 4、 采用本专利技术种植方法，阳光遮盖率可达99%，棚内光照强度为0. 003klux，可控制温 度稳定在20-25°C，实现韭黄提前上市； 5、采用本专利技术种植方法，病虫害发生率降低15%。【具体实施方式】 实施例1 一种韭黄种植方法 1、地块选择 韭黄的栽培对土壤要求较高，选择土层深厚、有机质含量高、疏松透气、保水保肥、能灌 能排的沙质壤土。所选地块排灌条件便利，交通方便。 2、温室准备 选择合适大小的温室进行韭黄种植。 3、品种选择 选择适合本地栽培、生长快、产量高、耐肥、抗病、分蘖能力强、叶片宽厚的791雪韭作 为栽培品种。 4、种子处理 50°C左右的水浸泡种子24h，水不宜过多，每天用清水洗一次。经过二三天，种子露白时 即可播种。 5、苗床准备 选择土壤肥沃、排灌方便、便于管理、3年内未种过葱蒜类作物的砂壤土地块作为育苗 床，施入充分腐熟的猪奠 l〇m3/hm2+稻壳奠10 m3/hm2+专用药渣基质5 m3/hm2+50%多菌灵 7.5 kg/hm2+敌百虫3750 g/hm2,对水泼浇。上述百分数为质量百分数。 进行土壤处理，播前整地做苗畦，苗畦宽I m。 6、适时播种 韭菜播种时间为4月下旬，每亩用种量2. 7公斤，播种前在畦面上按73厘米的行距 开好东西向、底面平整、深17~20厘米、底宽15~17厘米的播种沟。挖松沟底，整碎整 平土壤并撒1层薄薄细沙填没土壤空隙，然后播种。特制一种播种压板(木板长1米，宽 8~10厘米，一头翘起并系上绳子)，将木板置于播种沟内，一人在前缓慢拖动，另一人在后 轻轻压住木板，使沟内出现一条平直的印痕，拖压后将种子均匀地播于印痕内。 然后，盖土 1. 2~I. 7 cm，盖上地膜保墒，盖上遮阳网防晒，待有70%以上的幼苗 顶土后，及时揭去地膜，以防出现烧苗。 7、苗期管理 播后出苗前，喷施地乐胺200~300倍液防除杂草。 幼苗出土后，前期淡肥轻水勤浇，每隔15d用尿素75 kg/hm2对水浇施，加速发根 长苗。 苗高14~16 cm时，要适当控水蹲苗，促进壮苗。 8、整地作畦 大棚内施足基肥，施腐熟的鸡奠40m3/hm2、专用药渣基质30 m3/hm2、稻壳奠20 m3/hm2、 45%三元复合肥I. 2t/hm2作基肥。上述百分数为质量百分数。 土层深耕达25~30cm，深耕后土壤暴晒3天，将大块的土打碎，精细整地作 畦。根据地块大小，做成南北向的凹凸畦，畦长40m。根据遮光膜的宽度，种植采用窄畦栽培 ，畦宽1.3 m，每两畦之间留有0.3 m的空幅。 8、定植移栽 韭菜定植的苗龄掌握在100 d左右，株高在18~20 cm时，即可定植。行距为20cm， 行内韭菜采取紧凑栽培，合理密植，密度为60000株/亩。 9、第一次根株培养 要勤施薄施肥水，及时清理田间杂草。定植1个月后，追施0.5%尿素本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种韭黄种植方法，其特征在于：所述种植方法包括覆膜步骤。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：宋银行，谭金霞，陈霞，周峰，魏永阳，徐立功，杨晓东，孙继峰，王林武，袁中科，
申请(专利权)人：山东省潍坊市农业科学院，
类型：发明
国别省市：山东;37
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。