喷头调节机构制造技术

本发明专利技术揭示了一种喷头调节机构，包括：基座、调节轴、喷头固定块和喷头。基座的一端具有夹紧块，基座沿X向设置。调节轴安装在夹紧块上，调节轴能相对于夹紧块绕Z向轴旋转，调节轴还能相对于夹紧块沿Z向轴移动。喷头固定块转动安装在调节轴的底端，喷头固定块能相对于调节轴绕Y向轴旋转。喷头安装在喷头固定块上，喷头的喷嘴位于喷头固定块的第一侧，喷头的接头位于喷头固定块的第二侧。本发明专利技术的喷头调节机构结构简单可靠、占空空间小、紧凑，并且能够提供在三维空间内的旋转功能，适合于在半导体设备中使用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体设备
，更具体地说，涉及半导体设备中喷头的三维调节机构。
技术介绍
使用各种化学液体和化学溶剂是半导体加工工艺过程中必不可少的工艺过程。于是，在半导体设备中会设置多个用于喷洒液体或者溶剂的喷头。出于加工工艺的要求，考虑到工件位置、均匀度等等的因素，要求喷头能够在三维空间内作自由旋转。在三维空间内的自由旋转结构虽然不难实现，但是对于半导体设备来说，其难度在于紧凑性和实现的成本。半导体设备内部的空间十分有限，因此要求三维空间的旋转结构能够占据尽量小的空间。并且希望该旋转结构具有较低的实现成本和良好的可靠性。
技术实现思路
本专利技术旨在提出一种具有紧凑结构和较低实现成本的喷头调节机构，能够在三维空间内实现旋转。根据本专利技术的一实施例，提出一种喷头调节机构，包括:基座、调节轴、喷头固定块和喷头。基座的一端具有夹紧块，基座沿X向设置。调节轴安装在夹紧块上，调节轴能相对于夹紧块绕Z向轴旋转，调节轴还能相对于夹紧块沿Z向轴移动。喷头固定块转动安装在调节轴的底端，喷头固定块能相对于调节轴绕Y向轴旋转。喷头安装在喷头固定块上，喷头的喷嘴位于喷头固定块的第一侧，喷头的接头位于喷头固定块的第二侧。在一个实施例中，夹紧块的中心形成圆柱形的槽，夹紧块的一侧侧壁上具有调节间隙，一组调节螺栓穿过调节间隙。在一个实施例中，调节轴呈圆柱形，底端形成平面，调节轴安装在圆柱形的槽中，旋紧调节螺栓，夹紧块夹紧调节轴，放松调节螺栓，夹紧块放松，调节轴能相对于夹紧块沿Z向轴移动。在一个实施例中，喷头固定块通过转轴安装在调节轴底端的平面上，转轴是Y向轴。在一个实施例中，喷头固定块的第一端通过转轴安装在调节轴底端的平面上，喷头贯穿喷头固定块的第二端。本专利技术的喷头调节机构结构简单可靠、占空空间小、紧凑，并且能够提供在三维空间内的旋转功能，适合于在半导体设备中使用。【附图说明】本专利技术上述的以及其他的特征、性质和优势将通过下面结合附图和实施例的描述而变的更加明显，在附图中相同的附图标记始终表示相同的特征，其中:图1揭示了根据本专利技术的一实施例的喷头调节机构的结构图。【具体实施方式】参考图1所示，揭示了根据本专利技术的一实施例的喷头调节机构。该喷头调节机构100包括:基座102、调节轴104、喷头固定块106和喷头108。在图1中，以如下的标准设置参考三维坐标系:以基座102的延伸方向作为X向、以调节轴104的方向作为Z向、根据X向和Z向定义Y向。基座102的一端具有夹紧块121，基座102沿X向设置。夹紧块121的中心形成圆柱形的槽，夹紧块121的一侧侧壁上具有调节间隙122，一组调节螺栓123穿过调节间隙122。通过旋转调节螺栓123，就能调节调节间隙122的大小，使得槽夹紧调节轴104或者放松调节轴104。调节轴104呈圆柱形，调节轴104安装在夹紧块121上，在图示的实施例中，调节轴104安装在圆柱形的槽中。调节轴104能相对于夹紧块121绕Z向轴旋转，调节轴104还能相对于夹紧块121沿Z向轴移动。在图1所示的实施例中，调节轴104自身就是沿Z向设置，放松调节螺栓123，夹紧块121放松，此时能够旋转调节轴104，使得调节轴104在圆柱形的槽中绕Z向轴转动。在夹紧块121放松的状态下，还能够使得调节轴104在圆柱形的槽内移动，相对于夹紧块121沿Z向轴移动。在调节轴104旋转并且移动到位后，旋紧调节螺栓123，夹紧块121夹紧调节轴104。继续参考图1所示，在调节轴104的底部，圆柱形被削去一块，形成一个平面141，该平面141用于安装喷头固定块106。喷头固定块106转动安装在调节轴104的底端，即平面141上。喷头固定块106能相对于调节轴104绕Y向轴旋转。在图1所示的实施例中，喷头固定块106是通过转轴161安装在调节轴底端的平面141上，转轴161是Y向轴。喷头108安装在喷头固定块106上，喷头的喷嘴181位于喷头固定块161的第一侦牝在图1所示的实施例中第一侧是位于喷头固定块161的下侧。喷头的接头182位于喷头固定块106的第二侧，在图1所示的实施例中第二侧是位于喷头固定块161的上侧。继续参考图1所示，喷头固定块106的第一端通过转轴161安装在调节轴底端的平面141上，喷头108贯穿喷头固定块106的第二端。本专利技术的喷头调节机构100，通过调节轴104和转轴161实现了在XY平面内和ZY平面内的旋转，并且能够在Z向进行移动，能满足半导体设备中喷头的三维旋转以及定位的要求。本专利技术的喷头调节机构结构简单可靠、占空空间小、紧凑，并且能够提供在三维空间内的旋转功能，适合于在半导体设备中使用。上述实施例是提供给熟悉本领域内的人员来实现或使用本专利技术的，熟悉本领域的人员可在不脱离本专利技术的专利技术思想的情况下，对上述实施例做出种种修改或变化，因而本专利技术的保护范围并不被上述实施例所限，而应该是符合权利要求书提到的创新性特征的最大范围。【主权项】1.一种喷头调节机构，其特征在于，包括: 基座，基座的一端具有夹紧块，基座沿X向设置； 调节轴，调节轴安装在夹紧块上，调节轴能相对于夹紧块绕Z向轴旋转，调节轴还能相对于夹紧块沿Z向轴移动； 喷头固定块，转动安装在调节轴的底端，喷头固定块能相对于调节轴绕Y向轴旋转； 喷头，安装在喷头固定块上，喷头的喷嘴位于喷头固定块的第一侧，喷头的接头位于喷头固定块的第二侧。2.如权利要求1所述的喷头调节机构，其特征在于，所述夹紧块的中心形成圆柱形的槽，所述夹紧块的一侧侧壁上具有调节间隙，一组调节螺栓穿过所述调节间隙。3.如权利要求2所述的喷头调节机构，其特征在于，所述调节轴呈圆柱形，底端形成平面，所述调节轴安装在所述圆柱形的槽中，旋紧调节螺栓，夹紧块夹紧调节轴，放松调节螺栓，夹紧块放松，调节轴能相对于夹紧块沿Z向轴移动。4.如权利要求3所述的喷头调节机构，其特征在于，所述喷头固定块通过转轴安装在所述调节轴底端的平面上，所述转轴是Y向轴。5.如权利要求4所述的喷头调节机构，其特征在于，所述喷头固定块的第一端通过转轴安装在调节轴底端的平面上，所述喷头贯穿喷头固定块的第二端。【专利摘要】本专利技术揭示了一种喷头调节机构，包括：基座、调节轴、喷头固定块和喷头。基座的一端具有夹紧块，基座沿X向设置。调节轴安装在夹紧块上，调节轴能相对于夹紧块绕Z向轴旋转，调节轴还能相对于夹紧块沿Z向轴移动。喷头固定块转动安装在调节轴的底端，喷头固定块能相对于调节轴绕Y向轴旋转。喷头安装在喷头固定块上，喷头的喷嘴位于喷头固定块的第一侧，喷头的接头位于喷头固定块的第二侧。本专利技术的喷头调节机构结构简单可靠、占空空间小、紧凑，并且能够提供在三维空间内的旋转功能，适合于在半导体设备中使用。【IPC分类】H01L21/68, B05B13/02【公开号】CN105312176【申请号】CN201410365766【专利技术人】张镇磊, 金一诺, 张怀东, 王坚, 王晖 【申请人】盛美半导体设备（上海）有限公司【公开日】2016年2月10日【申请日】2014年7月29日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种喷头调节机构，其特征在于，包括：基座，基座的一端具有夹紧块，基座沿X向设置；调节轴，调节轴安装在夹紧块上，调节轴能相对于夹紧块绕Z向轴旋转，调节轴还能相对于夹紧块沿Z向轴移动；喷头固定块，转动安装在调节轴的底端，喷头固定块能相对于调节轴绕Y向轴旋转；喷头，安装在喷头固定块上，喷头的喷嘴位于喷头固定块的第一侧，喷头的接头位于喷头固定块的第二侧。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张镇磊，金一诺，张怀东，王坚，王晖，
申请(专利权)人：盛美半导体设备上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31