光触媒基材制造技术

技术编号:12772398 阅读:80 留言:0更新日期:2016-01-23 14:44
本实用新型专利技术提供了一种光触媒基材,包括基材,具有第一表面和第二表面;以及第一光触媒层,位于基材的第一表面上。本实用新型专利技术的另一个方面公开了一种具有散发香味和除臭功能的光触媒基材,包括基材,具有第一表面和第二表面;光触媒层,位于基材的第一表面上;以及香精层,位于基材的第二表面上。本实用新型专利技术提供的光触媒基材具有良好的除臭效果。本实用新型专利技术还提供了可以同时除臭和散发香味的光触媒基材,达到除臭和芳香的综合效果。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种纳米颗粒溶胶喷镀技术,并且特别地涉及一种光触媒基材和具有散发香味与除臭功能的光触媒基材。
技术介绍
光触媒是经过光的照射,可以促进化学反应的物质。目前可用于作为光触媒的物质包括二氧化钛(Ti02)以及硫化镉(CdS),其中,二氧化钛由于具有较好的氧化还原能力、高化学稳定性以及无毒的特性,所以常被用来作为光触媒的材料。光触媒擅长处理空气中极低浓度的有害化学物质,并且本身不会释放出有害物质,因此是极其优异的环境净化用触媒。光触媒可以产生消臭、杀菌、抗菌、防污和除去有害物质等功能。一■氧化钦的结晶构造有正方晶系的尚温金红石(rutile)型、低温锐钦矿(anatase)型以及属于斜方晶系的板钛矿(brookite)型三种,其中,只有锐钛矿结构具有光触媒的效果。光催化处理步骤的光分解机理是通过紫外光或太阳光激发光触媒,使光触媒产生电子和空穴,以便氧化表面吸附的物质,进而将表面吸附的物质裂化为小分子。以二氧化钛为例,二氧化钛从照射388nm的波长的光开始反应(因为二氧化钛的能阶差约为3.2eV,而388nm的波长的光可以提供约3.2eV的能量),二氧化钛吸收光能量产生电子(e )和空穴00,该空穴具有相当强的氧化能力,可以直接将吸附在物质表面的污染物分子直接氧化使其分解,或者将吸附在物质表面的水分子氧化为羟基自由基。原为大分子的污染物,通过光触媒照射光反应,将大分子裂解为小分子,达到清除污染物的目的。虽然光触媒已广泛应用于各种产品,但目前仍没有可有效率并且以较低的成本制造光触媒基材(特别是纸材)的方法及由该方法制造的光触媒基材。业界需要可以量产制造光触媒基材的方法以及由该方法制造的光触媒基材。
技术实现思路
鉴于以上问题,本技术提供了一种光触媒基材,所述光触媒基材包括:基材,所述基材具有第一表面和第二表面;以及第一光触媒层,所述第一光触媒层位于基材的第一表面上。进一步地,所述基材是纸材、布或塑料。进一步地,所述第一光触媒层包括二氧化钛、氧化锌或二氧化锡。进一步地,所述光触媒基材还包括第二光触媒层,所述第二光触媒层位于所述基材的所述第二表面上。进一步地,所述光触媒基材还包括间隔层,所述间隔层位于所述第一光触媒层与所述基材之间。本技术另外提供了具有散发香味和除臭功能的光触媒基材,所述光触媒基材包括:基材,所述基材具有第一表面和第二表面;光触媒层,所述光触媒层位于基材的第一表面上;以及香精层,所述香精层位于基材的第二表面上。进一步地,所述基材是纸材、布或塑料。进一步地,所述光触媒层包括二氧化钛、氧化锌或二氧化锡。进一步地,所述香精层包括芳香单体和香味扩散剂。进一步地,所述香精层还包括柠檬香精或草莓香精。进一步地,所述光触媒基材还包括间隔层,所述间隔层位于所述基材的所述第一表面上。进一步地,所述间隔层包括二氧化硅、铝盐、硅盐、硅铝类或钛盐。本技术的有益效果在于可以以较低的成本以及较快的速度制造光触媒基材,符合量产的效益,并且已经实验确定以此方法制造的光触媒基材具有良好的除臭效果。此夕卜,本技术另外提供了可以同时除臭和散发香味的光触媒基材,达到除臭和芳香的综合效果。为了能更进一步了解本技术的特征和
技术实现思路
,请参照以下有关本技术的详细说明和附图,然而附图仅用于提供参考和说明,并非用来对本技术进行限制。【附图说明】图1是示出了本技术的一个实施例的光触媒基材的制造方法的方块图。图2是示出了本技术的一个实施例的光触媒基材的制造机台的示意图。图3是示出了本技术的一个实施例制造的光触媒基材进行的X光绕射光谱分析图。图4是示出了本技术的一个实施例制造的光触媒基材光催化降解乙醛的测试曲线图。图5是示出了本技术的另一个实施例制造的光触媒基材光催化降解乙醛的测试曲线图。图6是示出了本技术实施例的光触媒基材的侧面示意图。图7是示出了本技术的另一个实施例的光触媒基材的侧面示意图。图8是示出了本技术的又一个实施例的光触媒基材的侧面示意图。图9是示出了本技术的再一个实施例的光触媒基材的侧面示意图。S10:步骤S20:步骤S30:步骤S40:步骤200:基材202:滚筒204:传送装置206:带状体208:喷涂装置210:感应装置212:加热装置602:基材604:第一光触媒层605:间隔层702:基材704:第一光触媒层706:第二光触媒层802:基材804:光触媒层806:香精层808:间隔层。【具体实施方式】以下通过特定的具体实施例来说明本技术所公开的有关“光触媒基材的制造方法”的实施方式,以下实施方式将进一步详细说明本技术的相关
技术实现思路
,但所公开的内容并非用于限制本技术的技术范围。请参照图1和图2所示的,图1是本实施例光触媒基材的制造方法的方块图,图2是本实施例光触媒基材的制造机台的示意图。以下结合图1和图2—起来说明,首先,进行步骤S10,选择基材200,在本实施例的以下说明中以纸材作为实例,但本技术不限于此,基材200可以由其他材料组成,例如基材200另外可以是布、塑料、木材或金属。接下来,将基材200放置在传送装置204上,通过传送装置204传送基材200。虽然为了简化说明在本文的描述中仅描述了一个基材200,但在实际进行量产时,会依次序将多个基材放置在传送装置上,基材的数量根据实际需要决定,本技术没有特别限定进行量产的基材的数量。接下来,进行步骤S20,制备光触媒溶胶,将二氧化钛、氧化锌、二氧化锡或上述的混合物与溶剂混合,制备光触媒溶胶。在本实施例中,溶剂为水。光触媒溶胶中光触媒的含量可以为0.01wt%? 50wt%,优选为lwt%? 10wt%。值得注意的是,本技术不限于上述材料,可以将其他光触媒材料与溶剂混合,并且溶剂也不限于水。在本实施例中,光触媒材料优选为二氧化钛,并且二氧化钛优选为锐钛矿型态。更具体地说,本实施例采用化学共沉淀-解胶法来制备二氧化钛溶胶,使用烷氧化钛和四氯化钛为前体原料,经过水解缩合程序,将其转化为氢氧化钛,之后用酸进行解胶。随后,在60°C?100°C之间用回流程序进行结晶步骤,制备具有锐钛矿晶相的二氧化钛溶胶。但本技术不限于由该方法制备的光触媒水性溶胶,其他光触媒水性溶胶液也可以用于本喷涂装置。根据需要,可以加入排风系统。接着,进行步骤S30,将制备好的光触媒溶胶输送至喷涂装置208,当基材200传送至喷涂装置208下时,用喷涂装置208在基材200的一个表面喷涂光触媒层。喷涂装置208可以是自动喷枪,并且本技术另外可以邻近喷涂装置208设置感应装置210,使得当感应装置210检测到基材200传送至喷涂装置208下时,通过控制装置(未示出),启动喷涂装置208,对基材200进行喷涂步骤。本技术的喷涂步骤的参数可以随着工艺需要或产品规格改变,例如当基材更换为塑料时,喷涂步骤的参数需要一并调整,或者,当基材仍为纸材,但尺寸增加时,也需要改变喷涂参数。本技术不特别限于特定的喷涂步骤的参数。此外,本技术也可以改良传送装置204的动线,并且增加翻转装置,使得基材200可以进行翻面,对基材200尚未进行喷涂的表面进行喷涂。另外,本技术不限于对基材的同一表面喷涂本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光触媒基材,其特征在于,所述光触媒基材包括:基材,所述基材具有第一表面和第二表面,所述基材是纸材;光触媒层,所述光触媒层位于所述基材的所述第一表面上;以及香精层,所述香精层位于所述基材的所述第二表面上,其中所述光触媒层和所述香精层暴露,所述光触媒基材还包括间隔层,所述间隔层位于所述基材的所述第一表面上,且位于所述光触媒层和所述基材之间,所述间隔层包括二氧化硅间隔层、铝盐间隔层、硅盐间隔层、硅铝类间隔层或钛盐间隔层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:曾尧宣黄祺娟
申请(专利权)人:睿泽企业股份有限公司
类型:新型
国别省市:中国台湾;71

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