【技术实现步骤摘要】
本申请是为分案申请,原申请的申请日为:2013年11月12日;申请号为:201310559591.1;专利技术名称为:薄膜剥离装置及其方法。
本专利技术涉及一种处理薄膜的装置及其方法,尤其涉及一种薄膜剥离装置以及应用于此装置的薄膜剥离方法。
技术介绍
软性或薄化的元件从载板上取下的方法有机械剥离、化学处理、激光或紫外光处理等,针对高温基板的取下技术,以机械剥离与激光处理(Laserliftoff,LLO)为主,机械剥离相较于激光处理较不伤基板表面、设备成本低、速度快,但剥离时对被取下元件施加应力,若取下控制不佳,将导致元件受应力破坏,尤其针对结构或材料较脆弱的元件,如主动矩阵有机发光二极管(Active-matrixorganiclight-emittingdiode,AMOLED)更是如此。
技术实现思路
本专利技术实施例提出一种可挠薄膜的剥离装置以及应用此装置以剥离可挠薄膜的方法。以分散力的方式将薄膜剥离基板,如此可以降低控制剥离装置的复杂度,同时可以大幅提高将薄膜剥离基板的成功率。依据本专利技术一实施例的一种可挠薄膜的剥离装置,适于表面具有可挠薄膜的基板,此装置包含吸附组件,此吸附组件包含支撑元件、吸附板以及连通器。前述吸附板相对于支撑元件并与支撑元件间定义一个可变动容积,并且,前述吸附板用以附着可挠薄膜或基板。连通器用以将前述可变动容积与外部连通。依据本专利技术一实施例的一种可挠薄膜的剥离方法,
【技术保护点】
一种可挠薄膜的剥离装置,适于一基板,该基板表面具有可挠薄膜,其特征在于,该装置包含:吸附膜,用以附着于该可挠薄膜或该基板之上;模具,具有弧型表面;以及弹性膜,用以固定并施力于该吸附膜以使该可挠薄膜或该基板被挠曲而使该可挠薄膜与该基板分离。
【技术特征摘要】
2013.10.25 TW 102138643;2012.11.14 US 61/726,5161.一种可挠薄膜的剥离装置,适于一基板,该基板表面具有可挠薄膜,
其特征在于,该装置包含:
吸附膜,用以附着于该可挠薄膜或该基板之上;
模具,具有弧型表面;以及
弹性膜,用以固定并施力于该吸附膜以使该可挠薄膜或该基板被挠曲而使
该可挠薄膜与该基板分离。
2.根据权利要求1所述的可挠薄膜的剥离装置,其特征在于,该吸附膜
的弯曲刚性大于该可挠薄膜的弯曲刚性。
3.一种可挠薄膜的剥离装置,适于一基板,该基板表面具有可挠薄膜,
其特征在于,该装置包含:
吸附膜,用以附着于该可挠薄膜或该基板之上;
第一挠曲板,附着于该吸附膜之上,具有第一热膨胀系数;以及
第二挠曲板,附着于该第一挠曲板之上,具有第二热膨胀系数;
其中该第一热膨胀系数与该第二热膨胀系数不同。
4.根据权利要求3所述的可挠薄膜的剥离装置,其特征在于,于低温环
境使用时,该第一热膨胀系数小于该第二热膨胀系数。
5.一种可挠薄膜的剥离装置,适于一基板,该基板表面具有可挠薄膜,
其特征在于,该装置包含:
吸附膜,用以附着于该可挠薄膜或该基板之上;
推进装置,用以对该可挠薄膜或该基板的一边缘施加侧向力,使该可挠薄
膜在该边缘与该基板部分分离而产生空隙;以及
滚动装置,用以推挤该吸附膜,使该空隙移动而使该可挠薄膜与该基板分
离。
6.一种可挠薄膜的剥离装置,适于一基板,该基板表面具有可挠薄膜,
其特征在于,该装置包含:
吸附膜,用以附着于该可挠薄膜或该基板之上;
支撑装置;以及
至少一个滚动装置,与该支撑装置相连接,用以吸附该吸附膜并施力于该
\t吸附膜,使该可挠薄膜与该基板分离。
7.根据权利要求6所述的可挠薄膜的剥离装置,其特征在于,该吸附膜
包含铁磁性材料,且每一该滚动装置包含磁性元件。
8.根据权利要求6所述的可挠薄膜的剥离装置,其特征在于,该支撑装
置具有一倾斜部以及一平坦部,其中该基板沿着从该支撑装置的该倾斜部到该
平坦部而水平移动并当移动到该倾斜部的边缘时,该吸附膜将该可挠薄膜剥离
于该基板。
9.一种可挠薄膜的剥离装置,适于一基板,该基板表面具有可挠薄膜,
其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡镇竹,龚志伟,吴政哲,吕嘉华,
申请(专利权)人:财团法人工业技术研究院,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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