【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及挠性基材,尤其涉及具备利用规定的方法制得的聚酰亚胺树脂的树脂层的挠性基材。此外,本专利技术还涉及上述挠性基材的制造方法、包含上述挠性基材的玻璃层叠体及其制造方法、以及电子设备的制造方法。
技术介绍
近年来,使用薄膜的玻璃基板的挠性电子设备备受瞩目。提出了手表、人体穿戴型的显示装置、能配置于物体的曲面部的显示装置等。这样的挠性设备能够将设备本身卷起来收纳,轻量且能够弯曲,因此基本上适用于超薄型/轻量的移动设备。此外,其用途不限定于小型设备,还能够用于大型显示器。另一方面,对于目前广泛使用的液晶显示器、有机电致发光显示器等显示装置等,已经确立了在玻璃基板上形成元件的制造技术。但是,欲制造挠性电子设备时,其基材自身的刚性低,不能使用以通常的玻璃基板作为前提来制作的制造工序来制造。因此,作为解决这样的问题的方法,专利文献1中提出了如下的方法:准备将包含玻璃基板及聚酰亚胺薄膜的挠性基材和加强板层叠而得到的玻璃层叠体,在玻璃层叠体的玻璃基板上形成显示装置等电子设备用构件后,将加强板从挠性基材分离。需要说明的是,专利文献1中,加强板具有支撑玻璃和固定在支撑玻璃上的有机硅树脂层,有机硅树脂层与挠性基材以能剥离的方式密合。现有技术文献专利文献专利文献1:国际公开第2011/024690号
技术实现思路
专利技术要解决的问题对于专利文献1所述的包含玻璃基板的玻璃层叠体 ...
【技术保护点】
一种挠性基材,其具有玻璃基板及形成于所述玻璃基板上的聚酰亚胺树脂的层,所述挠性基材用于在所述聚酰亚胺树脂的层上层叠支撑玻璃来制造玻璃层叠体,所述挠性基材中的所述聚酰亚胺树脂包含下述式(1)表示的具有四羧酸类的残基(X)和二胺类的残基(A)的重复单元,并且,所述四羧酸类的残基(X)的总数的50摩尔%以上包含选自由下述式(X1)~(X4)表示的基团组成的组中的至少一种基团,所述二胺类的残基(A)的总数的50摩尔%以上包含选自由下述式(A1)~(A7)表示的基团组成的组中的至少一种基团中的至少一种基团,所述玻璃基板上的所述聚酰亚胺树脂的层是如下形成的:对形成于所述玻璃基板上的、(I)通过热固化而成为所述聚酰亚胺树脂的固化性树脂的层、或(II)涂布包含所述聚酰亚胺树脂及溶剂的组合物而得到的层,依次实施在60℃以上且低于250℃下加热的第1加热处理和在250℃以上且500℃以下加热的第2加热处理,由此形成所述聚酰亚胺树脂的层,式(1)中,X表示从四羧酸类去除羧基而得到的四羧酸残基,A表示从二胺类去除氨基而得到的二胺残基;
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.05.28 JP 2013-112319;2014.02.25 JP 2014-034431.一种挠性基材,其具有玻璃基板及形成于所述玻璃基板上的聚酰亚胺
树脂的层,所述挠性基材用于在所述聚酰亚胺树脂的层上层叠支撑玻璃来制
造玻璃层叠体,
所述挠性基材中的所述聚酰亚胺树脂包含下述式(1)表示的具有四羧
酸类的残基(X)和二胺类的残基(A)的重复单元,并且,所述四羧酸类
的残基(X)的总数的50摩尔%以上包含选自由下述式(X1)~(X4)表示
的基团组成的组中的至少一种基团,所述二胺类的残基(A)的总数的50摩
尔%以上包含选自由下述式(A1)~(A7)表示的基团组成的组中的至少一
种基团中的至少一种基团,
所述玻璃基板上的所述聚酰亚胺树脂的层是如下形成的:对形成于所述
玻璃基板上的、(I)通过热固化而成为所述聚酰亚胺树脂的固化性树脂的层、
或(II)涂布包含所述聚酰亚胺树脂及溶剂的组合物而得到的层,依次实施
在60℃以上且低于250℃下加热的第1加热处理和在250℃以上且500℃以下
加热的第2加热处理,由此形成所述聚酰亚胺树脂的层,
式(1)中,X表示从四羧酸类去除羧基而得到的四羧酸残基,A表示从
二胺类去除氨基而得到的二胺残基;
2.根据权利要求1所述的挠性基材,其中,所述聚酰亚胺树脂中,所述
四羧酸类的残基(X)的总数的80~100摩尔%包含选自由所述式(X1)~(X4)
表示的基团组成的组中的至少一种基团,所述二胺类的残基(A)的总数的
80~100摩尔%包含选自由所述式(A1)~(A7)表示的基团组成的组中的至
少一种基团。
3.根据权利要求1或2所述的挠性基材,其中,所述聚酰亚胺树脂的层的
厚度为0.1~100μm。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的挠性基材,其中,所述聚酰亚胺树
脂的层的露出面的表面粗糙度Ra为0~2.0nm。
5.一种玻璃层叠体,其具有:权利要求1~4中任一项所述的挠性基材和
层叠于所述挠性基材的聚酰亚胺树脂的层的表面的支撑玻璃。
6.一种挠性基材的制造方法,其特征在于,在玻璃基板上形成通过热固
化而成为下述聚酰亚胺树脂的固化性树脂的层,依次进行在60℃以上且低于
\t250℃下加热的第1加热处理和在250℃以上且500℃以下加热的第2加热处
理,由此,将所述固化性树脂转化为下述聚酰亚胺树脂,形成该聚酰亚胺树
脂的层,
聚酰亚胺树脂:包含下述式(1)表示的具有四羧酸类的残基(X)和二
胺类的残基(A)的重复单元,并且,所述四羧酸类的残基(X)的总数的
50摩尔%以上包含选自由下述式(X1)~(X4)表示的...
【专利技术属性】
技术研发人员:角田纯一,江畑研一,宫嶋达也,中岛阳司,石川有希,
申请(专利权)人:旭硝子株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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