本实用新型专利技术提供一种光学玻璃熔化池的保护结构，该保护结构传热效果好，可改善光学玻璃产品质量。光学玻璃熔化池的保护结构，包括主体，在所述主体的底部或侧面开孔、开槽、切缝或进行减薄处理。由于在本实用新型专利技术的保护结构上进行开槽、开孔等处理，可以提高熔化池的传热效率，在满足工艺条件的情况下大幅度降低熔化池的工艺温度，提高熔化池部玻璃液的气体容存比，促进光学玻璃熔炼后续工艺中气泡缺陷的消除，同时工艺温度的降低能够有效改善光学玻璃透过率指标；本实用新型专利技术的保护结构能够有效保护金属材质熔化池，防止熔化池在高温下变形，延长熔化池使用寿命。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光学玻璃熔化池的一种保护结构，特别是涉及镧系光学玻璃池炉熔化池的一种保护结构。
技术介绍
在光学玻璃制造过程中，一般是将原料投入到熔化池(也可以为坩祸)中进行加热熔化，在熔化池中完成原料从固态转为液态的过程。光学玻璃熔化池一般采用石英、金属等材料制成，对于镧系光学玻璃来说，由于金属材质的熔化池能够有效抵抗镧系光学玻璃的侵蚀，在保证产品质量的同时能够有效降低生产成本，因此，其熔化池材质一般选择金属材料，同时，金属材质还可重复回收利用。但是，金属材质在高温下抗冲击能力差，金属材料的熔化池在长期使用过程中，若是裸露，极易在使用过程中出现拉裂等现象，严重影响熔化池的使用寿命。目前通过在金属材质的熔化池外面再套一个保护结构的方式保护熔化池，但该熔化池保护结构传热效果差，熔化池化料过程需要通过提高温度来保证化料质量，不利于玻璃的气泡熔存和透过率指标。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种光学玻璃熔化池的保护结构，该保护结构传热效果好，可改善光学玻璃产品质量。本技术解决技术问题所采用的技术方案是:光学玻璃熔化池的保护结构，包括主体，在所述主体的底部或侧面开孔、开槽、切缝或进行减薄处理。进一步的，所述主体为半球体、正方体、长方体或圆柱体。更进一步的，所述主体为半球体或圆柱体。进一步的，所述主体采用耐火材料制成。更进一步的，所述主体采用使用温度在1200_1450°C的无机非金属耐火材料制成。更进一步的，所述主体采用Fe203含量少或者不含Fe 203的无机非金属耐火材料制成。进一步的，所述主体的厚度为20-80mm。更进一步的，所述主体的厚度为20-50mm。更进一步的，所述主体的厚度为25-40mm。本技术的有益效果是:由于在本技术的保护结构上进行开槽、开孔等处理，可以提高熔化池的传热效率，在满足工艺条件的情况下大幅度降低熔化池的工艺温度，提高熔化池部玻璃液的气体容存比，促进光学玻璃熔炼后续工艺中气泡缺陷的消除，同时工艺温度的降低能够有效改善光学玻璃透过率指标；本技术的保护结构能够有效保护金属材质熔化池，防止熔化池在高温下变形，延长熔化池使用寿命。【附图说明】图1是长方体的保护结构的主视图。图2是图1的A-A剖视图。图3是图1的B-B剖视图。图4是长方体的保护结构的立体图。图5是圆柱体的保护结构的主视图。图6是图5的C-C剖视图。图7是圆柱体的保护结构的立体图。图8是本技术的保护结构的工作状态的局部剖视示意图。【具体实施方式】本技术的光学玻璃熔化池的保护结构包括主体1，主体1可以为半球体、正方体、长方体、圆柱体，如图1-7所示，根据光学玻璃制造工艺及熔化池结构，保护结构优选为半球体、圆柱体。为了提高本技术的保护结构的传热效率，大幅降低熔化池工艺温度，改善光学玻璃质量指标，本技术的保护结构在底部或侧面等部位开孔4、开槽3、切缝或进行减薄处理，优选开槽或开孔，如图1-图7所示。由于光学玻璃熔炼属于高温熔炼，光学玻璃熔化池工艺温度较高，因此本技术的保护结构的主体1必须采用耐火材料制成，优选使用温度在1200-1450°C的无机非金属耐火材料，且尽量选择Fe203含量少或者不含Fe 203的无机非金属耐火材料。为了起到保护熔化池作用，提高熔化池使用寿命，考虑到高温强度性，本技术的保护结构的主体1的厚度为20-80mm，优选厚度为20_50mm，最优选厚度为25_40mm。工作时，将本技术的保护结构1套在熔化池2的外面，如图8所示，通过保护结构1上的开槽3或开孔4，热传递效率得到有效提升，在相同的热能转换情况下，熔化池2的气氛温度能够有效降低，也就是工艺温度降低(一般能降低20-50°C )，熔化池玻璃液气体容存比得到有效提升，有利于光学玻璃生产过程中后部气体缺陷的消除，同时能够有效提高光学玻璃产品透过率。【主权项】1.光学玻璃熔化池的保护结构，包括主体(1)，其特征在于:在所述主体(1)的底部或侧面开孔(4)、开槽(3)或进行减薄处理。2.如权利要求1所述的光学玻璃熔化池的保护结构，其特征在于:所述主体(1)为半球体、正方体、长方体或圆柱体。3.如权利要求1所述的光学玻璃熔化池的保护结构，其特征在于:所述主体(1)采用耐火材料制成。4.如权利要求1所述的光学玻璃熔化池的保护结构，其特征在于:所述主体(1)采用使用温度在1200-1450°C的无机非金属耐火材料制成。5.如权利要求1所述的光学玻璃熔化池的保护结构，其特征在于:所述主体(1)采用不含Fe203的无机非金属耐火材料制成。6.如权利要求1所述的光学玻璃熔化池的保护结构，其特征在于:所述主体(1)的厚度为 20-80mm。7.如权利要求1所述的光学玻璃熔化池的保护结构，其特征在于:所述主体(1)的厚度为 20_50mm。8.如权利要求1所述的光学玻璃熔化池的保护结构，其特征在于:所述主体(1)的厚度为 25_40mm。【专利摘要】本技术提供一种光学玻璃熔化池的保护结构，该保护结构传热效果好，可改善光学玻璃产品质量。光学玻璃熔化池的保护结构，包括主体，在所述主体的底部或侧面开孔、开槽、切缝或进行减薄处理。由于在本技术的保护结构上进行开槽、开孔等处理，可以提高熔化池的传热效率，在满足工艺条件的情况下大幅度降低熔化池的工艺温度，提高熔化池部玻璃液的气体容存比，促进光学玻璃熔炼后续工艺中气泡缺陷的消除，同时工艺温度的降低能够有效改善光学玻璃透过率指标；本技术的保护结构能够有效保护金属材质熔化池，防止熔化池在高温下变形，延长熔化池使用寿命。【IPC分类】C03B5/16【公开号】CN204958702【申请号】CN201520431727【专利技术人】李明, 朱志新, 陆明新, 邓宇, 但启林, 蒋冬梅 【申请人】成都光明光电股份有限公司【公开日】2016年1月13日【申请日】2015年6月23日本文档来自技高网...
【技术保护点】
光学玻璃熔化池的保护结构，包括主体(1)，其特征在于：在所述主体(1)的底部或侧面开孔(4)、开槽(3)或进行减薄处理。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李明，朱志新，陆明新，邓宇，但启林，蒋冬梅，
申请(专利权)人：成都光明光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51
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