在多晶CZT上沉积DLC膜的方法及CZT半导体探测器技术

本发明专利技术公开了一种在多晶CZT上沉积DLC膜的方法及CZT半导体探测器，其中，该在多晶CZT上沉积DLC膜的方法包括：采用磁过滤阴极真空弧沉积方法，在多晶CZT的晶体表面沉积第一层DLC膜；在所述第一层DLC膜之上，采用磁过滤阴极真空弧沉积方法沉积用于释放内应力的薄膜过渡层；在所述薄膜过渡层之上，采用磁过滤阴极真空弧沉积方法沉积第二层DLC膜。通过实施本发明专利技术，在多晶CZT上沉积DLC膜能够保护多晶CZT，减小漏电流。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及放射性材料探测的
，特别涉及一种在多晶碲锌镉(CZT)上沉积类金刚石碳(DLC)膜的方法及CZT半导体探测器。
技术介绍
关于特殊核材料、脏弹、核武器和某些放射源、放射性污染等的鉴别，可采取γ辐射能谱测量与分析方法实现。其中，反恐便携式γ谱仪具有截获、识别非法核材料，阻断其流通途径和现场检查放射性污染性质，为决策提供重要依据的作用，是交通关口的重要安检设备和反恐部队的重要装备。迄今为止，国内外γ能谱测量仪器主要包括三类:其一，采用无机晶体闪烁体作为探头的闪烁体谱仪，如NaI (Tl)谱仪、CsI(Tl)谱仪等，特点是探测效率高，使用方便，但能量分辨率低，目前商用便携式谱仪基本都属于这一类型；其二，采用高纯度锗HPGe或者锗锂Ge (Li)半导体探测器的半导体谱仪，其特点是能量分辨率高，但因为需要使用低温条件，主要用于实验室分析，不适于便携式应用；其三，基于碲化镉(CdTe)或碲锌镉(CdZnTe，以下简称CZT)等化合物半导体探测器的半导体谱仪，起能量分辨率介于HPGe和NaI (Tl)之间，可在常温下使用，易于便携。其中，CZT半导体探测器可在常温下使用，体积小，探测装置简单，兼有宽的禁带和低的电离能，这使它在常温下具有很好的能量分辨率，同时高的原子序数提高了光电峰的本征效率。此外，CZT半导体探测器还有对低能光子有高探测效率，探测信号直接转换，易与前端电子学结合，可构成空间分辨率高的像素阵列探测器和受环境因素影响小等优点。因此，从反恐便携式γ谱仪的发展方向来看，比较有前途的应该是CZT半导体探测谱仪。但是，单晶CZT探测器的最大缺点是体积小，探测效率低。目前CZT晶体最大单晶体积只可达15mm*15mm*7.5mm，因此，做成像素列探测器需要很高的工艺水平和生产成本。经大量研究后，本申请的专利技术人发现:研发多晶CZT半导体探测器是发展CZT探测的趋势。现有的晶体生长工艺可以将多晶CZT半导体探测器制备成大体积，提高探测效率的同时，还可以降低生产成本，但是多晶CZT半导体探测器的存在漏电流大和硬度低易碎的缺点。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例的目的在于提出一种在多晶碲锌镉(CZT)上沉积类金刚石碳(DLC)膜的方法及CZT半导体探测器，在多晶CZT上沉积DLC膜能够保护多晶CZT，减小漏电流。进一步来讲，该在多晶CZT上沉积DLC膜的方法包括:采用磁过滤阴极真空弧沉积方法，在多晶CZT的晶体表面沉积第一层DLC膜；在所述第一层DLC膜之上，采用磁过滤阴极真空弧沉积方法沉积用于释放内应力的薄膜过渡层；在所述薄膜过渡层之上，采用磁过滤阴极真空弧沉积方法沉积第二层DLC膜。可选地，在一些实施例中，所述薄膜过渡层为聚合物有机膜或氧化铝膜层。可选地，在一些实施例中，所述聚合有机物膜包括聚酰亚胺膜。可选地，在一些实施例中，所述磁过滤阴极真空弧沉积方法利用双管180度磁过滤沉积方式。 可选地，在一些实施例中，在沉积所述第一层DLC膜时，采用的靶材为碳阴极，起弧电流90A，弯管磁场2.0A，束流50mA，顺序采用负压-800V、-600V、_400V、及-300V进行沉积；在沉积所述第二层DLC膜时，采用的靶材为碳阴极，起弧电流90A，弯管磁场2.0A,起弧电流90A，弯管磁场2.0A,负压-300V，沉积时间15min，占空比为20%。可选地，在一些实施例中，在沉积所述氧化铝膜层时，采用的靶材为Al阴极，起弧电流90A，弯管磁场2.0A,氧气流量50sccm。可选地，在一些实施例中，所述第一层DLC膜的厚度为80-120nm nm，所述氧化招膜层层的厚度为20-30nm，所述第二层DLC膜的厚度为0_370nm。可选地，在一些实施例中，上述在多晶CZT上沉积DLC膜的方法还包括:在所述第一层DLC膜和所述薄膜过渡层之间，采用金属离子源注入方法注入金属钛层。可选地，在一些实施例中，所述金属钛层的注入条件包括:注入电压8Kv，注入束流5mA，注入剂量1000mC。此外，该碲锌镉(CZT)半导体探测器设置有采用前述任意一种在多晶CZT上沉积DLC膜的方法制备而成的多晶CZT。相对于现有技术，本专利技术各实施例具有以下优点:采用本专利技术实施例的技术方案后，采用磁过滤阴极真空弧沉积技术在多晶CZT表面形成两层结合力好的DLC膜，由于DLC膜电阻率高，能起到减小漏电流的作用；并且由于DLC膜硬度高，还能起到保护多晶CZT的作用。其中，在两层DLC膜之间镀有薄膜过渡层，可通过释放内应力的方式增加两层DLC膜的结合力。因此，采用本专利技术的在多晶CZT上沉积DLC膜的方法，通过在多晶CZT上沉积双层DLC膜和二者之间的薄膜过渡层，能够保护多晶CZT，减小漏电流。本专利技术实施例的更多特点和优势将在之后的【具体实施方式】予以说明。【附图说明】构成本专利技术实施例一部分的附图用来提供对本专利技术实施例的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中:图1为本专利技术实施例提供的多晶CZT上形成的各膜层结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的在多晶CZT上沉积DLC膜的方法制备工艺流程示意图；图3为本专利技术实施例提供的多晶CZT上形成的各膜层扫描电镜的测试结果示意图；图4为本专利技术实施例提供的多晶CZT上Cls元素的XPS测试分峰结果示意图；图5为本专利技术实施例提供的多晶CZT的硬度测试结果示意图。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术实施例及实施例中的特征可以相互组入口 ο下面结合附图，对本专利技术的各实施例作进一步说明:相较于其他材料来讲，多晶CZT上镀DLC膜更困难，这主要是由于其他材料能够先离子注入形成钉扎层，然后沉积金属过渡层，再沉积DLC。多晶CZT表面镀膜现存在的最大问题在于:CZT作为探测器时其探测效率对表面状态非常敏感，因而表面不能进行离子注入，同时也不能沉积金属过渡层，否则晶界将会连通，漏电流更大。针对上述问题，本实施例提出一种在多晶CZT上沉积DLC膜的方法，该方法包括以下步骤:SlOO:采用磁过滤阴极真空弧沉积方法，在多晶CZT的晶体表面沉积第一层DLC膜；S200:在第一层DLC膜之上，采用磁过滤阴极真空弧沉积方法沉积用于释放内应力的薄膜过渡层；S300:在薄膜过渡层之上，采用磁过滤阴极真空弧沉积方法沉积第二层DLC膜。因此，上述实施例采用磁过滤阴极真空弧沉积技术在多晶CZT探测器表面形成两层结合力好的DLC膜，该DLC膜在红外部分是完全透明的，有很强的抗腐蚀性。其中，沉积DLC膜有两个作用:一是电阻率高，起到减小漏电流的作用，当DLC膜中碳元素SP3杂化轨道占总键位的70%以上时，电阻率可以达到1wQ.cm量级，调整DLC膜的厚度改变电阻，这样可解决漏电流的问题；二是DLC膜硬度高，能起到保护多晶碲锌铬作用。因此，采用上述在多晶CZT上沉积DLC膜的方法，通过在多晶CZT上沉积双层DLC本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在多晶碲锌镉(CZT)上沉积类金刚石碳(DLC)膜的方法，其特征在于，包括：采用磁过滤阴极真空弧沉积方法，在多晶CZT的晶体表面沉积第一层DLC膜；在所述第一层DLC膜之上，采用磁过滤阴极真空弧沉积方法沉积用于释放内应力的薄膜过渡层；在所述薄膜过渡层之上，采用磁过滤阴极真空弧沉积方法沉积第二层DLC膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：廖斌，欧阳晓平，王宇东，吴先映，张旭，罗军，
申请(专利权)人：北京师范大学，
类型：发明
国别省市：北京;11