一种光栅和辐射成像装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光栅和辐射成像装置，其中该光栅包括：若干个叠摞的栅格单元，若干个栅格单元叠摞形成栅格；所述栅格单元包括具有两个相互平行平面的第一薄片和第二薄片；所述第一薄片与所述第二薄片沿第一薄片长度方向叠摞；所述第一薄片为不易透过射线的薄片。本实用新型专利技术采用不同规格的薄片叠摞形成光栅间隙均匀的光栅，光栅厚度不受限制，可以用于高能射线场合。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种光栅和辐射成像装置，属于辐射成像

技术介绍
光栅是一种以栅线距离为基准进行测量的仪器。根据形成莫尔条纹原理的不同，可分为几何光栅(幅值光栅)和衍射光栅(相位光栅)。微米级和亚微米级的光栅测量是采用几何光栅，光栅栅距为100 μ m至20 μ m，远大于光源光波波长，衍射现象可以忽略，当两块光栅相对移动时产生低频拍现象形成莫尔条纹，其测量原理称为影像原理。纳米级的光栅测量是采用衍射光栅，目前光栅栅距为SymS 4 μm，栅线的宽度与光的波长很接近，产生衍射和干涉现象形成莫尔条纹，其测量原理称为干涉原理。光栅包括光线透过部(以下可简称为“栅格间隙”)和光线屏蔽部(以下可简称为“栅格”)，由此发射到它的光线被分割并形成为多个光线束。这允许衍射光栅被具有空间相干性的光线束所照射。衍射光栅衍射来自源光栅的光线，并且根据Talbot效应形成干涉图案。光线检测器检测来自衍射光栅的光线。在基于光栅的X射线相衬成像系统中，需将X射线吸收光栅置于X射线源后，X射线吸收光栅的填充重金属部分(栅格)吸收X射线，而光栅的另外部分(栅格间隙)透过X射线，这样，吸收光栅与普通光栅X射线源共同构成了具有一维空间相干性的X射线源。众所周知，随着辐射成像技术的不断发展，需要成像的精度要求越来越高，进而使成像设备所需要的元件越来越精密。例如，在辐射成像设备中对光栅的要求也越来越高。现有的光栅制作方法主要有机械刻划、激光全息光刻、电子束直写等三种。机械刻划条件极为苛刻，不仅时间长而且精度不高、生产难度大、很难刻划出亚微米的线条。利用电子束直写制作可以制作出纳米级的高分辨率图形，但是效率非常低，而且不能够制作高高宽比的图形。激光全息光刻虽然能够制作出深亚微米水平的光栅，但是控制精度较高、成本高、产能低。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是:解决现有技术中X射线光栅采用化学腐蚀成型，成型效率低成本高，不能应用于高能X射线场合的问题。为实现上述的技术目的，本技术提供了一种光栅和辐射成像装置。—方面，本技术提供一种光栅，包括:若干个叠摞的栅格单元，若干个栅格单元叠摞形成栅格；所述栅格单元包括具有两个相互平行平面的第一薄片和第二薄片；所述第二薄片与所述第一薄片沿第一薄片长度方向叠摞；所述第一薄片为不易透过射线的薄片。其中较优地，所述第二薄片长度小于所述第一薄片长度，所述第二薄片是至少两片；所述第二薄片沿所述第一薄片长度方向上叠摞在所述第一薄片同一面两端，从而在相邻第一薄片之间形成栅格间隙。其中较优地，所述栅格间隙用易透过射线的物质填充。其中较优地，所述第一薄片的厚度与所述第二薄片的厚度不同。其中较优地，所述第一薄片和第二薄片的厚度为0.001毫米至3毫米。其中较优地，所述栅格单元还包括第三薄片；所述第三薄片长度小于所述第一薄片长度，至少三片所述第二薄片沿所述第一薄片长度方向上叠摞在所述第一薄片同一面的两端和中部；所述第三薄片叠摞在其中任意两片所述第二薄片之间的第一薄片上。其中较优地，所述第三薄片厚度小于所述第二薄片厚度。其中较优地，所述第二薄片与所述第一薄片长度相同；所述第二薄片是易透过射线的薄片。其中较优地，所述第一薄片的厚度与所述第二薄片的厚度不同。其中较优地，所述第一薄片和第二薄片的厚度为0.001毫米至3毫米。其中较优地，所述第一薄片是高密度薄片。其中较优地，所述第一薄片是钨合金薄片。其中较优地，所述多个栅格单元以粘接或工装压紧组装形成光栅。另一方面，本技术提供一种辐射成像装置，其特征在于，上述的光栅。本技术提供的光栅和辐射场像装置，采用不同规格的薄片叠摞形成光栅间隙均匀的光栅，光栅厚度不受限制，可以用于高能射线场合。【附图说明】图1是本技术第一种实施方案制成的光栅示意图；图2是本技术第四种实施方案制成的光栅示意图；图3是本技术第一种实施方案光栅单元侧视示意图；图4是本技术第一种实施方案光栅单元正面示意图；图5-图6是本技术第一种实施方案不同厚度薄片制成光栅单元侧视示意图；图7是本技术第二种实施方案制成的光栅示意图；图8是本技术第二种实施方案光栅单元侧视示意图；图9是本技术第二种实施方案光栅单元正面示意图；图10是本技术第三种实施方案制成的光栅单示意图；图11是本技术第四种实施方案光栅单元侧视示意图；图12是本技术第四种实施方案制成的光栅结构示意图。【具体实施方式】下面结合附图和实施例，对本技术的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。如图1所示，本技术提供一种光栅，该光栅包括:若干个叠摞的栅格单元1，若干个栅格单元I叠摞形成栅格；栅格单元I包括具有两个相互平行平面的第一薄片11、21和第二薄片12、22 ;第二薄片12、22与第一薄片11、21沿第一薄片11、21的长度方向叠摞；第一薄片11、21为不易透过射线的薄片。下面对本技术提供的光栅展开详细的说明。实施例1如图3、图4所示，栅格单元I包括第一薄片11和第二薄片12 ;第二薄片12的长度小于第一薄片11的长度，至少两片第二薄片12沿第一薄片11长度方向上叠摞在第一薄片11同一面两端，从而在相邻第一薄片11之间形成栅格间隙。如图1、图3至图4所示，在本技术的一种实施方案中，栅格单元I采用两种不同长度的薄片形成，其中第一薄片11和第二薄片12长度不同，两片第二薄片12叠摞在第一薄片11的两端，两片第二薄片12叠摞在第一薄片11的同一面，该方案中，第一薄片I的厚度可以与第二薄片12的厚度相同也可以与第二薄片12的厚度不同。第一薄片11的厚度决定了光栅栅格的宽度，第二薄片12的厚度决定了光栅栅格间隙的宽度。图1示出了本技术由厚度相同的第一薄片11与第二薄片12组成的栅格单元I制成的光栅，光栅栅格宽度和栅格间隙宽度相同。通过调整第一薄片11的厚度与第二薄片12的厚度可以制成不同占空当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光栅，其特征在于，包括：若干个叠摞的栅格单元，若干个栅格单元叠摞形成栅格；所述栅格单元包括具有两个相互平行平面的第一薄片和第二薄片；所述第二薄片与所述第一薄片沿第一薄片长度方向叠摞；所述第一薄片为不易透过射线的薄片。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张丽，洪明志，黄清萍，沈乐，
申请(专利权)人：清华大学，同方威视技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11