取代的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺化合物及其作为除草剂的用途制造技术

本发明专利技术涉及式I的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。在所述式(I)中，B表示N或CH，而R2表示烷氧基、卤代烷氧基、烷氧基烷氧基和R2b-S(O)k，R、R1、R3、R4和R5表示诸如氢、卤素或有机基团如烷基或苯基的基团。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
式I的N‑(四唑‑5‑基)‑和N‑(三唑‑5‑基)芳基羧酰胺、其N‑氧化物或可农用盐：其中B为N或CH；R选自氢、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7环烷基‑C1‑C4烷基，其中两个前述基团中的C3‑C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷基、Rb‑S(O)n‑C1‑C3烷基、Rc‑C(＝O)‑C1‑C3烷基、RdO‑C(＝O)‑C1‑C3烷基、ReRfN‑C(＝O)‑C1‑C3烷基、RgRhN‑C1‑C3烷基、苯基‑Z和杂环基‑Z，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R'取代；R1选自氰基‑Z1、卤素、硝基、C1‑C8烷基、C2‑C8链烯基、C2‑C8炔基、C1‑C8卤代烷基、C1‑C8烷氧基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z1、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷硫基‑Z1、C2‑C6链烯氧基、C2‑C6炔氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z1、R1b‑S(O)k‑Z1、苯氧基‑Z1和杂环氧基‑Z1，其中杂环氧基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的氧键合的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯氧基和杂环氧基中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R11取代；R2选自C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷氧基和R2b‑S(O)k；R3选自氢、卤素、OH‑Z2、NO2‑Z2、氰基‑Z2、C1‑C6烷基、C2‑C8链烯基、C2‑C8炔基、C3‑C10环烷基‑Z2、C3‑C10环烷氧基‑Z2，其中两个前述基团中的C3‑C10环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C8卤代烷基、C1‑C8烷氧基‑Z2、C1‑C8卤代烷氧基‑Z2、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z2、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷硫基‑Z2、C2‑C8链烯氧基‑Z2、C2‑C8炔氧基‑Z2、C2‑C8卤代链烯氧基‑Z2、C2‑C8卤代炔氧基‑Z2、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z2、(三‑C1‑C4烷基)甲硅烷基‑Z2、R2b‑S(O)k‑Z2、R2c‑C(＝O)‑Z2、R2dO‑C(＝O)‑Z2、R2eR2fN‑C(＝O)‑Z2、R2gR2hN‑Z2、苯基‑Z2a和杂环基‑Z2a，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的3、4、5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基‑Z2a和杂环基‑Z2a中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R21取代；R4选自氢、卤素、氰基、硝基、C1‑C4烷基和C1‑C4卤代烷基；R5选自氢、卤素、C1‑C4烷基和C1‑C4卤代烷基；条件是基团R4和R5中至少一个不为氢；n为0、1或2；k为0、1或2；R'、R11、R21相互独立地选自卤素、NO2、CN、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7卤代环烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C6烷氧基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷氧基、C3‑C7环烷氧基和C1‑C6卤代烷氧基，或者两个连位基团R'、R11或R21一起可以形成基团＝O；Z、Z1、Z2相互独立地选自共价键和C1‑C4链烷二基；Z2a选自共价键、C1‑C4链烷二基、O‑C1‑C4链烷二基、C1‑C4链烷二基‑O和C1‑C4链烷二基‑O‑C1‑C4链烷二基；Rb、R1b、R2b相互独立地选自C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、苯基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的基团取代；Rc、R2c相互独立地选自氢、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7环烷基‑C1‑C4烷基，其中两个前述基团中的C3‑C7环烷基未被取代或...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·克劳斯，F·卡罗，M·维切尔，T·塞茨，T·W·牛顿，D·马萨，T·米茨纳，M·帕斯特纳克，K·克罗伊茨，R·R·埃万斯，J·莱尔希尔，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE