一种调整涡流场均匀度的磁性组件及电磁炉制造技术

技术编号:12621223 阅读:62 留言:0更新日期:2015-12-30 18:52
本发明专利技术涉及电磁装置技术领域,尤其涉及一种调整涡流场均匀度的磁性组件及电磁炉。调整涡流场均匀度的磁性组件包括基板,以及设置在基板的部分区域上的铁磁性粉末或颗粒;所述铁磁性粉末或颗粒在基板中部区域的分布面积大于在基板外围区域的分布面积。同时还提供了一种采用上述磁性组件的电磁炉。本申请通过在基板的部分区域上设置铁磁性粉末或颗粒,并且铁磁性粉末或颗粒在基板中部区域的分布面积大于在基板外围区域的分布面积。由此,当将由基板构成的磁性组件设置在电磁炉线圈盘的上部时,可以使磁感线变的分散均匀,进而提高了电磁炉的工作效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电磁装置
,尤其涉及一种调整涡流场均匀度的磁性组件及电磁炉
技术介绍
电磁炉工作时线圈盘产生的磁场大多集中在中部,而越到外围,磁场密度越小,导致加热区域不均匀,影响电磁炉能效的提升。磁性材料对磁场分布具有负导向作用,使用镂空横截面积有内到外逐步变大的磁性圆盘安装在线圈盘顶部改善磁场中部集中的弊端。如专利号为CN200920026930.9的专利公开了一种电磁线盘,包括线盘盘架和线圈,所述线圈品质因数Q值不低于3,所述线盘盘架中分散设有颗粒状或者粉末状的磁性物。电磁线盘通过上述改进可以取消现有技术中所用的磁条,由于磁性物的作用,使磁力线聚集,从而提升热效率,减少磁泄漏,降低电磁辐射。上述技术虽然能够在一定程度上提升热效率,减少磁泄漏,但是其依然存在磁感线分布不均匀的问题。针对上述问题,我们需要一种能够解决磁感线分布不均匀的调整涡流场均匀度的磁性组件及电磁炉。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提出一种调整涡流场均匀度的磁性组件,能够解决磁感线分布不均匀的问题。本专利技术的另一个目的在于提出一种电磁炉,能够解决现有的电磁炉磁感线分布不均匀的问题。为达此目的,本专利技术采用以下技术方案:一种调整涡流场均匀度的磁性组件,其包括基板,以及设置在基板的部分区域上的铁磁性粉末或颗粒;所述铁磁性粉末或颗粒在基板中部区域的分布面积大于在基板外围区域的分布面积。作为上述调整涡流场均匀度的磁性组件的一种优选方案,该基板上设置有多圈均匀分布的通孔。作为上述调整涡流场均匀度的磁性组件的一种优选方案,位于基板中部区域的通孔孔径小于位于基板外围区域通孔的孔径。作为上述调整涡流场均匀度的磁性组件的一种优选方案,所述通孔的横截面积由内到外逐步增大。作为上述调整涡流场均匀度的磁性组件的一种优选方案,所述通孔的横截面积不连续增大。作为上述调整涡流场均匀度的磁性组件的一种优选方案,所述通孔的横截面为圆形或扇形。作为上述调整涡流场均匀度的磁性组件的一种优选方案,所述铁磁性粉末或颗粒通过喷附的方式设置在基板上。作为上述调整涡流场均匀度的磁性组件的一种优选方案,所述基板为云母片、塑胶件或微晶板。一种电磁炉,包括线圈盘,其中,所述线圈盘上部设置有如以上所述的调整涡流场均匀度的磁性组件。作为上述电磁炉的一种优选方案,所述调整涡流场均匀度的磁性组件可拆卸的设置在线圈盘的上部。本专利技术的有益效果为:通过在基板的部分区域上设置铁磁性粉末或颗粒,并且铁磁性粉末或颗粒在基板中部区域的分布面积大于在基板外围区域的分布面积。由此,当将由基板构成的磁性组件设置在电磁炉线圈盘的上部时,可以使磁感线变的分散均匀,进而提高了电磁炉的工作效率。【附图说明】图1是本专利技术【具体实施方式】提供的调整涡流场均匀度的磁性组件的正面结构示意图;图2是本专利技术【具体实施方式】提供的调整涡流场均匀度的磁性组件的反面结构示意图。其中:1:基板;2:铁磁性粉末;3:通孔。【具体实施方式】下面结合附图并通过【具体实施方式】来进一步说明本专利技术的技术方案。如图1、图2所示,在本实施方式中提供了一种调整涡流场均匀度的磁性组件,其包括基板1,以及设置在基板I的部分区域上的铁磁性粉末2或颗粒。在本实施方式中,优选的是铁磁性粉末2。铁磁性粉末2或颗粒在基板I中部区域的分布面积大于在基板I外围区域的分布面积。本实施方式中提供的磁性组件适用于设置在电磁炉线圈盘的上部。电磁炉工作时线圈盘产生的磁场大多集中在中部,而越到外围,磁场密度越小,导致加热区域不均匀,影响电磁炉能效的提升。磁性材料对磁场分布具有负导向作用,由于铁磁性粉末2或颗粒在基板I中部区域的分布面积大于在基板外围区域的分布面积。由此,将此磁性组件安装在线圈盘的上部能够起到均匀线圈盘磁场的作用。具体的,基板I为镂空结构,并且在基板I的一个侧面上设置有铁磁性粉末2或颗粒,具体的,基板I上设置有多圈均匀分布的通孔3,位于基板I中部区域的通孔孔径小于位于基板I外围区域通孔的孔径。进一步具体的,通孔3的横截面积由内到外逐步增大。通孔3的横截面积由内到外逐步增大是一种优选方案,当然该横截面积的变化也可以是不连续的。通孔3的横截面为圆形或扇形。当然通孔3的形状也可以根据线圈盘的特性进行选取。作为优选的,为了便于加工,通孔3的横截面为圆形。并且在基板I上分布有两圈均匀分布的通孔3,位于中部区域的通孔3的孔径小于位于外围区域通孔3的孔径。如果线圈盘直径较大,可以使用多圈圆孔。多圈圆孔的面积根据实际使用情况进行调节。铁磁性粉末2或颗粒通过喷附的方式设置在基板I上。基板I使用的材料可以为云母片,耐高温塑胶件,亦可以直接将磁粉喷附至微晶板,或直接使用具有磁性特征的其他材料。如果使用云母片为基板1,为防止其在加工过程中破碎,在进行磁粉喷附工艺前,先在整片的云母片上进行磁粉喷附作业。完成磁粉喷附作业后,进行制孔切割作业。如果使用塑胶件,可以先切割后喷附磁粉。其他材料应根据其特性选择加工顺序。在本实施方式中,还提供了一种电磁炉,该电磁炉包括线圈盘,其中,线圈盘上部设置有如以上所述的调整涡流场均匀度的磁性组件。该调整涡流场均匀度的磁性组件可拆卸的设置在线圈盘的上部。具体的,因为磁性组件是单独的部件,其不属于线圈盘上的结构,其可以通过粘贴、紧固件或卡接的方式固定在线圈盘和微晶板之间。以上结合具体实施例描述了本专利技术的技术原理。这些描述只是为了解释本专利技术的原理,而不能以任何方式解释为对本专利技术保护范围的限制。基于此处的解释,本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本专利技术的其它【具体实施方式】,这些方式都将落入本专利技术的保护范围之内。【主权项】1.一种调整涡流场均匀度的磁性组件,其特征在于,包括基板(1),以及设置在基板(I)的部分区域上的铁磁性粉末(2)或颗粒; 所述铁磁性粉末(2)或颗粒在基板(I)中部区域的分布面积大于在基板外围区域的分布面积。2.根据权利要求1所述的调整涡流场均匀度的磁性组件,其特征在于,所述基板(I)上设置有多圈均匀分布的通孔(3)。3.根据权利要求2所述的调整涡流场均匀度的磁性组件,其特征在于,位于基板(I)中部区域的通孔孔径小于位于基板(I)外围区域通孔的孔径。4.根据权利要求3所述的调整涡流场均匀度的磁性组件,其特征在于,所述通孔(3)的横截面积由内到外逐步增大。5.根据权利要求3所述的调整涡流场均匀度的磁性组件,其特征在于,所述通孔(3)的横截面积不连续增大。6.根据权利要求2至5任意一项所述的调整涡流场均匀度的磁性组件,其特征在于,所述通孔(3)的横截面为圆形或扇形。7.根据权利要求1至5任意一项所述的调整涡流场均匀度的磁性组件,其特征在于,所述铁磁性粉末(2)或颗粒通过喷附的方式设置在基板(I)上。8.根据权利要求1至5任意一项所述的调整涡流场均匀度的磁性组件,其特征在于,所述基板(I)为云母片、塑胶件或微晶板。9.一种电磁炉,包括线圈盘,其特征在于,所述线圈盘上部设置有如权利要求1-8任意一项所述的调整涡流场均匀度的磁性组件。10.根据权利要求9所述的电磁炉,其特征在于,所述调整涡流场均匀度的磁性组件可拆卸的设置在线圈盘的上部。【专利摘要】本专利技术涉及电磁装置
,尤其涉及一种调整涡流场均匀度的磁性组件及电磁炉。调整涡本文档来自技高网
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一种调整涡流场均匀度的磁性组件及电磁炉

【技术保护点】
一种调整涡流场均匀度的磁性组件,其特征在于,包括基板(1),以及设置在基板(1)的部分区域上的铁磁性粉末(2)或颗粒;所述铁磁性粉末(2)或颗粒在基板(1)中部区域的分布面积大于在基板外围区域的分布面积。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李晨杰朱永哲陈定武
申请(专利权)人:珠海格力电器股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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