本发明专利技术涉及一种超薄GG触摸屏,依次包括:超薄强化玻璃,打底油墨,氧化物膜层,电极导电层,防短路绝缘层,连接导电层,防刮绝缘层,其中,所述超薄强化玻璃的厚度小于或等于0.15mm。由于直接采用小于或等于0.15mm的超薄强化玻璃作为基材,因此实现了触摸屏的轻、薄化,也提高了生产效率。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种超薄GG触摸屏以及该超薄GG触摸屏的制造工艺。
技术介绍
超薄GG产品是一种可接收触头等输入讯号的电容式触摸屏装置。近年来各类电子产品中触摸屏的需求不断增大、其要求亦趋向轻、薄化,传统产品的厚度大、重量高;而薄膜电容屏虽然减轻产品重量和降低了产品厚度,但其又无法达到高透过率,触控性能差等缺陷问题日益显现突出,无法满足消费者需求等缺陷问题日益显现突出。
技术实现思路
本专利技术为了解决上述问题而提供的一种超薄GG触摸屏,所述超薄GG触摸屏依次包括:超薄强化玻璃,打底油墨,氧化物膜层,电极导电层,防短路绝缘层,连接导电层,防刮绝缘层,其中,所述超薄强化玻璃的厚度小于或等于0.15_。具体地,所述电极导电层作为所述超薄GG触摸屏第一层X/Y电极的导电层。具体地,所述超薄GG触摸屏与触控IC芯片连接,所述连接导电层作为超薄GG触摸屏X/Y电极与触控IC连接的导电层。6、本专利技术还提供一种所述超薄GG触摸屏的制造工艺,所述制造工艺包括以下步骤:步骤A、通过真空溅射镀膜,在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀氧化物膜层頂;步骤B、通过紫外线曝光、显影,在超薄强化玻璃GLASS背面的非视窗区制作打底油墨BM ;步骤C、通过真空溅射镀膜,在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀电极导电层ITOl ;步骤D、通过紫外线曝光、显影,制作第一导电层ITOl的图案;步骤E、通过紫外线曝光、显影,制作防短路绝缘层OCl ;步骤F、通过真空溅射镀膜,在超薄强化玻璃GLASS原片表面上镀连接导电层MT ;步骤G、通过紫外线曝光、显影,将连接导电层MT制作成金属导线;步骤H、通过紫外线曝光、显影,制作防刮绝缘层0C2,基本形成超薄GG触摸屏。优选地,在所述步骤H之后还包括以下步骤:步骤1、丝印保护胶;步骤J、切割;步骤L、柔性电路板FPC绑定;步骤M、贴保护膜。本专利技术的有益效果在于:对于上述结构的超薄GG触摸屏,由于直接采用小于或等于0.15_的超薄强化玻璃作为基材,相比传统减薄工艺,减少了化学减薄、大片组合、大片分离等3个难度最大、损失成品率最高的工序,实现了触摸屏的轻、薄化,也提高了生产效率。【附图说明】图1为本专利技术超薄GG触摸屏的结构示意图;图2为本专利技术超薄GG触摸屏制造工艺的流程图;图3为本专利技术打底油墨BM的紫外线曝光、显影过程示意图。【具体实施方式】下面结合附图对本专利技术作进一步阐述:如图1所示,超薄GG触摸屏依次包括:超薄强化玻璃GLASS,打底油墨BM,氧化物膜层頂,电极导电层IT01,防短路绝缘层OCl (绝缘桥),连接导电层MT,防刮绝缘层0C2。该超薄GG触摸屏具有视窗区和非视窗区。且超薄GG触摸屏与触控IC芯片连接。超薄强化玻璃GLASS作为超薄GG触摸屏的基底,其厚度h小于或等于0.15_。打底油墨BM(Black Matrix)为黑色油墨,设置在超薄强化玻璃GLASS背面的非视窗区,具有高遮盖性,平整性,绝缘性等特性。其主要起的作用有两点:一是遮光性,防止从触摸屏的正面看到金属等反光性强的X/Y电极引线;二是触摸屏产品的外观形状定型性,即第一层BM打底油墨的形状确定了触摸屏的外观形状。氧化物膜层IM为氧化铌,用于消除蚀刻纹路。电极导电层ITOl为氧化铟锡,作为触摸屏X/Y电极的导电层。防短路绝缘层OCl用于防止触摸屏X/Y电极之间产生短路。连接导电层MT为钼铝钼金属层,作为触摸屏X/Y电极与触控IC芯片连接的导电层。防刮绝缘层0C2用于保护触摸屏金属导线。如图2所示,本专利技术还涉及一种上述超薄GG触摸屏的制造工艺,该制造工艺包括以下步骤:步骤1、清洗超薄强化玻璃GLASS ;步骤2、通过真空溅射镀膜,在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀氧化物膜层頂;步骤3、通过紫外线曝光、显影,在超薄强化玻璃GLASS背面的非视窗区制作打底油墨BM ;步骤4、通过真空溅射镀膜,在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀电极导电层ITOl ;步骤5、通过紫外线曝光、显影,制作第一导电层ITOl的图案;步骤6、通过紫外线曝光、显影,制作防短路绝缘层OCl ;步骤7、通过真空溅射镀膜,在超薄强化玻璃GLASS原片表面上镀连接导电层MT ;步骤8、通过紫外线曝光、显影,将连接导电层MT制作成金属导线;步骤9、通过紫外线曝光、显影,制作防刮绝缘层0C2,基本形成超薄GG触摸屏;步骤10、丝印保护胶,即通过刮板的挤压,使保护胶通过网孔转移到超薄GG触摸屏上;步骤11、切割,即利用数控机床,通过刀具切削加工,使制作好X/Y电极的大板触摸屏玻璃分离成小片触摸屏;(一大板触摸屏玻璃中排列着若干具有独立X/Y电极的触摸屏单元。)步骤12、柔性电路板FPC绑定;步骤13、贴保护膜。其中,紫外线曝光、显影过程由采用全自动光刻设备完成。如图3所示,以打底油墨BM的紫外线曝光、显影过程为例,首先在基板(超薄强化玻璃GLASS)上涂布打底油墨BM,然后在打底油墨BM上覆盖一层光阻,再在光阻上覆盖光掩膜,并利用紫外线对基板进行曝光,利用发生光聚合反应将光掩膜上的图案转移到基板上,再通过显影使未发生光聚合反应的部分光阻冲掉,接着通过蚀刻把没有光阻覆盖的部分打底油墨BM去除,最后去掉光阻,完成打底油墨BM的制作。对于上述结构的超薄GG触摸屏,由于直接采用小于或等于0.15mm的超薄强化玻璃作为基材,相比传统减薄工艺,减少了化学减薄、大片组合、大片分离等3个难度最大、损失成品率最高的工序,实现了触摸屏的轻、薄化,也提高了生产效率。以上所述实施例,只是本专利技术的较佳实例,并非来限制本专利技术的实施范围,故凡依本专利技术申请专利范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均应包括于本专利技术专利申请范围内。【主权项】1.一种超薄GG触摸屏,其特征在于,所述超薄GG触摸屏依次包括:超薄强化玻璃,打底油墨,氧化物膜层,电极导电层,防短路绝缘层,连接导电层,防刮绝缘层,其中,所述超薄强化玻璃的厚度小于或等于0.15_。2.如权利要求1所述的超薄GG触摸屏,其特征在于,所述电极导电层作为所述超薄GG触摸屏第一层X/Y电极的导电层。3.如权利要求2所述的超薄GG触摸屏,其特征在于,所述超薄GG触摸屏与触控IC芯片连接,所述连接导电层作为超薄GG触摸屏X/Y电极与触控IC连接的导电层。4.一种如权利要求1-3所述的任一触摸屏的制造工艺,其特征在于,所述制造工艺包括以下步骤: 步骤A、通过真空溅射镀膜,在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀氧化物膜层頂; 步骤B、通过紫外线曝光、显影,在超薄强化玻璃GLASS背面的非视窗区制作打底油墨BM ; 步骤C、通过真空溅射镀膜,在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀电极导电层ITOl ; 步骤D、通过紫外线曝光、显影,制作第一导电层ITOl的图案; 步骤E、通过紫外线曝光、显影,制作防短路绝缘层OCl ; 步骤F、通过真空溅射镀膜,在超薄强化玻璃GLASS原片表面上镀连接导电层MT ; 步骤G、通过紫外线曝光、显影,将连接导电层MT制作成金属导线; 步骤H、通过紫外线曝光、显影,制作防刮绝缘层0C2,基本形成超薄GG触摸屏。5.如权利要求4所述制造工艺,其特征在于,在所述步骤H之后还包括以下步骤: 步骤1、丝印保护胶; 步骤J本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种超薄GG触摸屏,其特征在于,所述超薄GG触摸屏依次包括:超薄强化玻璃,打底油墨,氧化物膜层,电极导电层,防短路绝缘层,连接导电层,防刮绝缘层,其中,所述超薄强化玻璃的厚度小于或等于0.15mm。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:朱星旺,何军海,杨旭,刘晓光,黄饶,
申请(专利权)人:湖北仁齐科技有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北;42
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